珠海：积极布局DUV光刻胶、EUV光刻胶等高端领域产品
2 珠海：重点发展8英寸、12英寸硅片等新一代化合物半导体衬底材料及外延片 格隆汇1月7日｜珠海市工业和信息化局公开征求 《珠海市电子化学品产业发展三年行动方案(2025—2027年)(征求意见稿)》 意见。其中提到，重点发展8英寸、12英寸硅片，碳化硅、氮化镓、磷化铟等新一代化合物半导体衬底材料及外延片；前瞻布局氧化镓、锑化镓、锑化铟等第四代半导体材料。同时，重点发展匀胶铬版光掩模版，KrF、ArF移项光掩模版，前瞻布局深紫外光(DUV)掩膜版。(新浪财经) 中财网
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