[年报]清溢光电(688138):清溢光电2021年年度报告

时间:2022年04月21日 22:02:48 中财网

原标题:清溢光电:清溢光电2021年年度报告

公司代码:688138 公司简称:清溢光电







深圳清溢光电股份有限公司
2021年年度报告









重要提示
一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、完整性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。


二、 公司上市时未盈利且尚未实现盈利
□是 √否

三、 重大风险提示
公司已在本报告中详细描述了存在的风险因素,敬请查阅“第三节管理层讨论与分析-四、风险因素”中关于风险因素的内容。


四、 公司全体董事出席董事会会议。


五、 天健会计师事务所(特殊普通合伙)为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。


六、 公司负责人唐英敏、主管会计工作负责人吴克强及会计机构负责人(会计主管人员)熊成春声明:保证年度报告中财务报告的真实、准确、完整。


七、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 经第九届董事会第四次会议审议决议,公司 2021年年度拟以实施权益分派股权登记日登记的总股本为基数分配利润。本次利润分配方案如下:
公司拟向全体股东每 10股派发现金红利人民币 0.6元(含税)。截至 2021年 12月 31日,公司总股本 266,800,000股,以此计算合计拟派发现金红利人民币 16,008,000.00元(含税)。在实施权益分派的股权登记日前公司总股本发生变动的,拟维持分配总额不变,相应调整每股分配比例。公司 2021年度不进行资本公积转增股本,不送红股。

本年度公司现金分红金额占归属于母公司所有者的净利润的 35.95%。

该利润分配预案尚需经公司2021年年度股东大会审议通过后实施。


八、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用

九、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告涉及未来计划等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,请投资者注意投资风险。


十、 是否存在被控股股东及其关联方非经营性占用资金情况


十一、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况


十二、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露年度报告的真实性、准确性和完整性 否

十三、 其他
□适用 √不适用



目录
第一节 释义 ..................................................................................................................................... 5
第二节 公司简介和主要财务指标 ................................................................................................. 7
第三节 管理层讨论与分析 ........................................................................................................... 11
第四节 公司治理 ........................................................................................................................... 53
第五节 环境、社会责任和其他公司治理 ................................................................................... 72
第六节 重要事项 ........................................................................................................................... 80
第七节 股份变动及股东情况 ..................................................................................................... 105
第八节 优先股相关情况 ............................................................................................................. 111
第九节 公司债券相关情况 ......................................................................................................... 112
第十节 财务报告 ......................................................................................................................... 112



备查文件目录载有公司法定代表人、主管会计工作负责人、会计机构负责人签名并 盖章的财务报告
 载有会计师事务所盖章、注册会计师签名并盖章的审计报告原件
 报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正文 及公告的原稿



第一节 释义
一、 释义
在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:

常用词语释义  
清溢光电、公 司、本公司、深 圳清溢深圳清溢光电股份有限公司
控股股东、香港 光膜、香港光膜 公司光膜(香港)有限公司,2006年12月7日由美维科技集团有限公司更名 而来
实际控制人唐英敏、唐英年
清溢精密光电 公司公司前身深圳清溢精密光电有限公司、清溢精密光电(深圳)有限公司
苏锡光膜苏锡光膜科技(深圳)有限公司,公司第二大股东,为香港光膜全资子公 司
瑞珝企业新余市瑞珝企业管理有限公司,公司股东,原名称:深圳市华海晟投资 有限公司
煜博科技抚州市煜博科技服务中心(有限合伙),公司股东,原名称:深圳市熠昌 投资合伙企业(有限合伙)
燚璟科技抚州市燚璟科技服务中心(有限合伙),公司股东,原名称:深圳市熠瑞 投资合伙企业(有限合伙)
广百企业新余市广百企业管理中心(有限合伙),公司股东,原名称:深圳市百连 投资合伙企业(有限合伙)
焜创科技抚州市焜创科技服务中心(有限合伙),公司股东,原名称:深圳市熠腾 翔投资合伙企业(有限合伙)
常裕光电常裕光电(香港)有限公司,公司全资子公司
合肥清溢合肥清溢光电有限公司,公司全资子公司
维信诺维信诺科技股份有限公司(A 股上市公司,股票代码 002387)及其子公 司的统称,公司客户
京东方京东方科技集团股份有限公司(A 股上市公司,股票代码 000725)及其 子公司的统称,公司客户
天马天马微电子股份有限公司(A 股上市公司,股票代码 000050)及其子公 司的统称,公司客户
信利信利半导体有限公司,信利光电股份有限公司,信利(惠州)智能显示有 限公司,信利电子有限公司以及信利(仁寿)高端显示科技有限公司的 统称,公司客户
华星光电TCL华星光电技术有限公司(原深圳市华星光电技术有限公司)、武汉华 星光电半导体显示技术有限公司、深圳市华星光电半导体显示技术有限 公司、武汉华星光电技术有限公司的统称,公司客户
群创光电群创光电股份有限公司,中国台湾上市公司(股票代码3481),公司客 户
瀚宇彩晶瀚宇彩晶股份有限公司,中国台湾上市公司(股票代码6116),公司客 户
龙腾光电昆山龙腾光电股份有限公司(A 股上市公司,股票代码 688055),公司 客户
艾克尔艾克尔国际科技股份有限公司(美股上市公司,股票代码AMKR)及其子 公司的统称,公司客户
颀邦科技颀邦科技股份有限公司(中国台湾上市公司,股票代码:6147)及其子公司 的统称,公司客户
长电科技江苏长电科技股份有限公司,A股上市公司(股票代码:600584),公司 客户
中芯国际中芯国际集成电路制造(上海)有限公司、绍兴中芯集成电路制造股份有 限公司的统称,公司客户
士兰微杭州士兰微电子股份有限公司,A股上市公司(股票代码:600460),公 司客户
英特尔Intel Corporation,美股上市公司(股票代码:INTC),公司客户
和辉光电上海和辉光电股份有限公司,A 股上市公司(股票代码 688538),公司 客户
紫翔电子珠海紫翔电子科技有限公司、苏州紫翔电子科技有限公司的统称,公司 客户
鹏鼎控股鹏鼎控股(深圳)股份有限公司(A 股上市公司,股票代码 002938)及 其子公司的统称,公司客户
上海先进上海先进半导体制造有限公司,公司客户
惠科长沙惠科光电有限公司、绵阳惠科光电科技有限公司等惠科集团公司的 统称,公司客户
MycronicMycronic AB(瑞典上市公司,股票代码MYCR),公司设备供应商,生产 的光刻机全球范围内领先
保荐机构广发证券股份有限公司
《公司法》《中华人民共和国公司法》
《证券法》《中华人民共和国证券法》
报告期2021年1月1日至2021年12月31日
元、万元人民币元、人民币万元
掩膜版掩膜版(Photomask)又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是微 电子制造过程中的图形转移工具或母版,用于下游电子元器件行业批量 复制生产。掩膜版在生产中起到承上启下的关键作用,是产业链中不可 或缺的重要环节
TFTTFT(Thin Film Transistor)是薄膜晶体管的缩写。薄膜晶体管是一类 特殊的场效应管,其通过在非导体的基板上沉积半导体主动层、介电质 层和金属电极层来制作。薄膜晶体管广泛用于 TFT-LCD 材质,一种 LCD 技术的应用。同时,AMOLED(有源矩阵有机发光二极体)也内建了TFT层
AMOLED有源矩阵有机发光二极体面板。相比传统的液晶面板,AMOLED(Active- Matrix Organic Light-Emitting Diode)具有反应速度较快、对比度更 高、视角较广等特点
半导体半导体是指一种导电性可受控制,范围可从绝缘体至导体之间的材料。 半导体的分类,按照其制造技术可以分为:集成电路器件,分立器件、光 电半导体、逻辑IC、模拟IC、储存器等大类
IC又称集成电路,英文为Integrated Circuit,是一种微型电子器件或部 件。采用一定的工艺,把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等 组件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体芯片或介质基片上, 然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构
LTPSLTPS(Low Temperature Poly-silicon)即低温多晶硅技术,是运用于 TFT-LCD和AMOLED面板的一种技术,该技术具有高分辨率、反应速度快、 高开口率等优点
第三代半导体第三代半导体材料以氮化镓、碳化硅、氧化锌、金刚石等为代表具有更 宽的禁带宽度、更高的导热率、更高的抗辐射能力、更大的电子饱和漂 移速率等特性,可以实现更好的电子浓度和运动控制,更适合于制作高 温、高频、抗辐射及大功率电子器件
IGZOIGZO(indium gallium zinc oxide)为铟镓锌氧化物的缩写,非晶IGZO 材料是用于新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料,是金属氧化物 (Oxide)面板技术的一种
MicroLEDMicroLED显示技术是指以自发光的微米量级的LED为发光像素单元,将 其组装到驱动面板上形成高密度LED阵列的显示技术


第二节 公司简介和主要财务指标
一、公司基本情况

公司的中文名称深圳清溢光电股份有限公司
公司的中文简称清溢光电
公司的外文名称Shenzhen Qingyi Photomask Limited
公司的外文名称缩写SQM
公司的法定代表人唐英敏
公司注册地址深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼
公司注册地址的历史变更情况
公司办公地址深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼
公司办公地址的邮政编码518053
公司网址http://www.supermask.com
电子信箱[email protected]

二、联系人和联系方式

 董事会秘书(信息披露境内代表)证券事务代表
姓名秦莘刘元
联系地址深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼
电话0755-863598680755-86359868
传真0755-863522660755-86352266
电子信箱[email protected][email protected]

三、信息披露及备置地点

公司披露年度报告的媒体名称及网址《中国证券报》(www.cs.com.cn)、《上海证券 报》(www.cnstock.com)、《证券时报》( www.stcn.com)、《证券日报》(www.zqrb.cn)
公司披露年度报告的证券交易所网址www.sse.com.cn
公司年度报告备置地点公司证券事务部

四、公司股票/存托凭证简况
(一) 公司股票简况
√适用 □不适用

公司股票简况    
股票种类股票上市交易所及板块股票简称股票代码变更前股票简称
A股上海证券交易所科创板清溢光电688138/


(二) 公司存托凭证简况
□适用 √不适用
五、其他相关资料

公司聘请的会计师事务所(境 内)名称天健会计师事务所(特殊普通合伙)
 办公地址杭州市江干区钱江路1366号华润大厦B座
 签字会计师姓名赵国梁、陈胜
报告期内履行持续督导职责 的保荐机构名称广发证券股份有限公司
 办公地址广东省广州市天河区马场路 26 号广发证券 大厦
 签字的保荐代表 人姓名万小兵、王锋
 持续督导的期间2019年11月20日-2022年12月31日

六、近三年主要会计数据和财务指标
(一) 主要会计数据
单位:元 币种:人民币

主要会计数据2021年2020年本期比 上年同 期增减 (%)2019年
营业收入543,912,423.04487,192,557.4511.64479,650,905.30
归属于上市公司股 东的净利润44,525,813.8276,290,284.24-41.6470,284,081.22
归属于上市公司股 东的扣除非经常性 损益的净利润32,665,126.6466,668,779.52-51.0063,296,746.58
经营活动产生的现 金流量净额194,179,867.59186,964,489.273.86102,685,252.56
 2021年末2020年末本期末 比上年 同期末 增减(% )2019年末
归属于上市公司股 东的净资产1,198,751,500.491,178,237,686.671.741,123,291,402.43
总资产1,523,487,024.841,425,066,322.856.911,328,229,734.36


(二) 主要财务指标

主要财务指标2021年2020年本期比上年同 期增减(%)2019年
基本每股收益(元/股)0.170.29-41.380.34
稀释每股收益(元/股)0.170.29-41.380.34
扣除非经常性损益后的基本每 股收益(元/股)0.120.25-52.000.31
加权平均净资产收益率(%)3.756.63减少2.88个百 分点11.53
扣除非经常性损益后的加权平2.755.79减少3.04个百10.39
均净资产收益率(%)  分点 
研发投入占营业收入的比例(%)6.774.97增加1.80个百 分点4.25

报告期末公司前三年主要会计数据和财务指标的说明
√适用 □不适用
归属于上市公司股东的净利润同比下降幅度较大,主要是因为报告期内虽然公司营业收入有增长,但由于合肥子公司报告期内产能处于爬坡阶段,整体产销规模较小,而折旧等固定成本相对较大,加之公司研发费用、财务费用等同比增加,最终导致净利润下降。

归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比下降幅度较大,主要系报告期内营业利润下滑所致。


七、境内外会计准则下会计数据差异
(一) 同时按照国际会计准则与按中国会计准则披露的财务报告中净利润和归属于上市公司股东的净资产差异情况
□适用 √不适用
(二) 同时按照境外会计准则与按中国会计准则披露的财务报告中净利润和归属于上市公司股东的净资产差异情况
□适用 √不适用
(三) 境内外会计准则差异的说明:
□适用 √不适用

八、2021年分季度主要财务数据
单位:元 币种:人民币

 第一季度 (1-3月份)第二季度 (4-6月份)第三季度 (7-9月份)第四季度 (10-12月份)
营业收入110,661,580.55116,911,482.94159,460,260.50156,879,099.05
归属于上市公司股 东的净利润12,641,875.718,062,172.6010,262,917.0513,558,848.46
归属于上市公司股 东的扣除非经常性 损益后的净利润10,587,176.024,950,349.407,629,557.619,498,043.61
经营活动产生的现 金流量净额20,913,504.5718,915,071.12115,410,416.7538,940,875.15

季度数据与已披露定期报告数据差异说明
□适用 √不适用

九、非经常性损益项目和金额
√适用 □不适用
单位:元 币种:人民币

非经常性损益项目2021年金额附注 (如适 用)2020年金额2019年金额
非流动资产处置损益-356,480.19 -973,061.29-878,252.69
越权审批,或无正式批准文 件,或偶发性的税收返还、减 免    
计入当期损益的政府补助,但 与公司正常经营业务密切相 关,符合国家政策规定、按照 一定标准定额或定量持续享受 的政府补助除外13,500,270.25 12,045,143.418,311,064.4
计入当期损益的对非金融企业 收取的资金占用费    
企业取得子公司、联营企业及 合营企业的投资成本小于取得 投资时应享有被投资单位可辨 认净资产公允价值产生的收益    
非货币性资产交换损益    
委托他人投资或管理资产的损 益    
因不可抗力因素,如遭受自然 灾害而计提的各项资产减值准 备    
债务重组损益    
企业重组费用,如安置职工的 支出、整合费用等    
交易价格显失公允的交易产生 的超过公允价值部分的损益    
同一控制下企业合并产生的子 公司期初至合并日的当期净损 益    
与公司正常经营业务无关的或 有事项产生的损益    
除同公司正常经营业务相关的 有效套期保值业务外,持有交 易性金融资产、衍生金融资 产、交易性金融负债、衍生金 融负债产生的公允价值变动损 益,以及处置交易性金融资 产、衍生金融资产、交易性金 融负债、衍生金融负债和其他 债权投资取得的投资收益   591,120.00
单独进行减值测试的应收款 项、合同资产减值准备转回308,162.52   
对外委托贷款取得的损益    
采用公允价值模式进行后续计 量的投资性房地产公允价值变 动产生的损益    
根据税收、会计等法律、法规 的要求对当期损益进行一次性 调整对当期损益的影响    
受托经营取得的托管费收入    
除上述各项之外的其他营业外-44,089.71 244,732.9281,883.97
收入和支出    
其他符合非经常性损益定义的 损益项目43,337.08  125,772.35
减:所得税影响额1,590,512.77 1,695,310.321,244,253.39
少数股东权益影响额(税 后)    
合计11,860,687.18 9,621,504.726,987,334.64

将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益项目的情况说明
□适用 √不适用

十、采用公允价值计量的项目
√适用 □不适用
单位:元 币种:人民币

项目名称期初余额期末余额当期变动对当期利润的影响 金额
应收款项融资4,058,070.709,152,772.805,094,702.100
合计4,058,070.709,152,772.805,094,702.100

十一、非企业会计准则业绩指标说明
□适用 √不适用
第三节 管理层讨论与分析
一、经营情况讨论与分析
2021年,面对复杂严峻的国际环境和国内外疫情散发等多重考验,国民经济仍持续发展。国家统计局2022年1月发布,2021年国内生产总值114万亿元,按可比价格计算,同比增长8.1%。

在平板显示领域,新冠疫情影响了全球平板显示行业需求和供应端的短周期波动,由于居家工作的趋势和IT应用的增加,对平板电脑和电子阅读器等居家应用也有持续需求,车载显示面板和智能手表显示面板的需求逐步恢复。随着元宇宙概念延伸将推动更多厂商增加虚拟世界的投资,社群交流、游戏娱乐、内容创作、虚拟经济以及工业应用等领域都会是近年发展的重心。用户端所使用的虚拟现实(VR)和增强现实(AR)硬件装置的普及也会成为元宇宙产业发展的关键。VR、AR 逐步向大众市场推进,将带动平板显示技术产品的需求,面板制造商新产品开发的掩膜版需求也相应有所增加。

在半导体芯片领域,智能汽车、人工智能、存储器市场、物联网、5G通信商用、元宇宙、新能源等产业快速发展,半导体芯片迎来新一轮的发展高潮。在半导体市场需求旺盛的引领下,2021年全球半导体市场高速增长。根据WSTS统计,2021年全球半导体销售达到5,559亿美元,同比增长 26.2%。中国仍然是最大的半导体市场,2021 年的销售额总额为 1,925 亿美元,同比增长27.1%。5英寸、6英寸、8英寸和12英寸半导体芯片产能供不应求,推动半导体芯片掩膜版市场的增长。

公司是国内成立最早的平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业用掩膜版生产企业之一。

产品聚焦于低温多晶硅(LTPS)、金属氧化物(IGZO)、有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)、MicroLED显示、硅基半导体显示、半导体芯片等领域,为客户提供丰富的平板显示、半导体芯片用掩膜版。公司产品设计和制造全程可控,在8.6代及以下平板显示及半导体领域均已具备较强的产品技术与制造工艺能力。公司是中国本土领先的以平板显示加半导体芯片掩膜版为主经营的掩膜版企业,同时也是中国最大的平板显示掩膜版企业之一。公司通过提高半导体芯片掩膜版产品产能和交期,优化半导体芯片掩膜版产品结构,提升细分市场占有率等举措推动半导体芯片掩膜版业务的发展。

未来中国半导体芯片有望迎来国产替代与成长的黄金时期,公司也将充分受益于半导体芯片行业的发展,抓住半导体芯片掩膜版国产替代、自主可控等历史性机遇,在重点客户拓展方面取得突破,以满足客户对半导体芯片掩膜版产能及交期的需求。

(一) 报告期内公司经营情况
报告期内,公司实现营业收入54,391.24万元,较上年同期增加11.64%;实现归属于母公司所有者的净利润4,452.58万元,较上年同期下降41.64%;报告期末公司总资产152,348.70万元,较期初增加6.91%。
1、按主营产品的材料分类,公司的主营业务收入构成情况如下:
单位:万元人民币

主营业务材质分类2021年2020年同比
石英产品44,183.7238,666.5314.27%
苏打产品8,120.507,992.721.60%
其他产品447.98420.366.57%
合计52,752.2047,079.6112.05%
2、按主营产品应用行业不同,公司的主营业务收入构成情况如下: 单位:万元人民币

主营业务行业分类2021年2020年同比
平板显示行业37,098.1533,916.209.38%
半导体芯片行业8,796.436,309.1739.42%
其他行业6,857.626,854.240.05%
合计52,752.2047,079.6112.05%

(二) 报告期内公司业务发展情况
1、平板显示掩膜版业务
公司加快创新步伐,夯实核心能力,持续推进平板显示掩膜版技术能力的提升,进一步掌握核心技术并建立差异化核心竞争力。同时通过质量体系完善、推行智能制造等方式提升市场竞争力支撑产品业务的发展。报告期内,平板显示掩膜版实现销售收入37,098.15万元,与去年同期相比增长9.38%。
(1)报告期内,合肥工厂导入掩膜基板涂胶产线,新增光刻机等设备已投入生产。目前合肥清溢的生产制作能力主要用于 AMOLED/ LTPS 等中高端产品。随着核心设备的投产,公司掩膜版产品的产能和制作精度将进一步提升,公司积极推进“合肥清溢光电有限公司8.5代及以下高精度掩膜版项目”的产能爬坡。合肥工厂持续推动AMOLED/LTPS用高精度掩膜版工艺技术能力和产能提升,报告期内主要客户完成了对合肥工厂的审核及认证,并进行了合肥工厂高精度掩膜版导入。随着涂胶线的投产,公司大力推动掩膜基板自主涂胶的量产,并进一步深耕二次涂胶的工艺和技术,新增的半透膜(HTM)掩膜版将进一步丰富公司的产品结构。

(2)报告期内,深圳工厂努力克服了疫情带来的影响,加大成本管控与营运费用管控,抵消了疫情带来的订单波动的影响,产品毛利率保持稳定。

2、半导体芯片掩膜版业务
公司通过提高半导体芯片掩膜版产品产能和交期,优化半导体芯片掩膜版的产品结构,提升细分市场占有率等举措推动半导体芯片掩膜版业务的发展,抓住半导体芯片掩膜版国产替代机遇,在重点客户拓展方面取得突破,以满足客户对半导体芯片掩膜版产能及交期的需求。报告期内,公司半导体芯片掩膜版产品实现销售收入8,796.43万元,与去年同期相比增长39.42%,公司的半导体芯片掩膜版业务收入占比持续提高。深圳工厂新引进的半导体芯片用掩膜版光刻机及配套设备已投产,提升半导体芯片和MicroLED显示、硅基半导体显示用掩膜版等产品的产能。

以更好地满足集成电路凸块(IC Bumping)、集成电路代工(IC Foundry)、集成电路载板(IC Substrate)、MinLED芯片、MicroLED芯片、微机电(MEMS)等市场的需求。为进一步满足客户产能及交期的需求,公司持续引进半导体芯片用掩膜版光刻机及配套设备,预计在2022年下半年投入生产。

3、组织管控与内部管理方面
(1)报告期内,深圳工厂与合肥工厂,根据各自拥有的资源进行研发和改善,提高运营效率,积极推动在平板显示掩膜版市场一体化融合发展。
(2)报告期内,公司通过持续建设人才选拔体系,从岗位需求出发,恪守人才标准,关注人才质量,通过社会招聘、员工推荐、校园招聘、猎头推荐、内部竞聘与培养等多样化的渠道与方式,吸引、选拔、聘用科技人才,确保人才具备持续发展潜力; 同时公司激发科研人员创新动力,建立协同创新机制,完善激励制度,推动可持续发展创新体系建设。

(3)以人为本,大力丰富员工业余生活以及提升凝聚力。公司注重对员工的关怀,在生活保障等各方面为员工提供便利。充分发挥企业工会的作用,积极参与当地工会组织的各项活动,丰富了员工的业余文化生活,激发了员工的工作热情,提升了公司的凝聚力和向心力。通过营造积极向上的企业氛围,进一步强化团队的合作意识。

4、技术创新和新产品研发方面
公司长期专注于自主创新,已取得多项专利及技术成果,在产品研发和设计方面具有一定优势。公司进一步坚持 “量产一代,研发一代,规划一代” 的研发方式,逐步向新技术发展,以提高公司的技术能力及市场竞争力。

在平板显示用掩膜版技术方面,已实现8.5代高精度TFT用掩膜版及6代中精度AMOLED/LTPS 用掩膜版的量产,并完成了掩膜基板涂胶工艺的试产,推动半透膜掩膜版(HTM)产品的逐步量产。正在研发8.6代高精度TFT用掩膜版和6代高精度AMOLED/LTPS用掩膜版,已规划6代超高精度AMOLED/LTPS用掩膜版和高规格半透膜掩膜版(HTM)开发计划。

半导体芯片用掩膜版技术方面,已实现250nm工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版的量产,正在推进180nm半导体芯片用掩膜版的客户测试认证,同步开展130nm-65nm半导体芯片用掩膜版的工艺研发和 28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

公司以市场、行业发展趋势和国家的产业政策为导向,紧跟掩膜版行业的发展方向,结合公司的发展战略,继续加大在新技术、新产品等方面的研发投入,同时加速研发成果的市场化进程,不断提高公司研发人员的技术水平和创新能力,增强公司的核心竞争力,为股东带来更大回报。
报告期内,研发投入达3,684.18万元,同比增长52.24%,占营业收入比例6.77%。公司申请国家发明专利5件,实用新型专利20件,软件著作权4件,设计布图1件;新获授权实用新型专利9件,软件著作权4件,设计布图1件。


二、报告期内公司所从事的主要业务、经营模式、行业情况及研发情况说明 (一) 主要业务、主要产品或服务情况
公司主要从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,是国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一。公司的主要产品为掩膜版(Photomask),又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产,是下游行业生产流程的关键模具,是下游产品精度和质量的决定因素之一。报告期内,公司主要业务及产品未发生重大变化。

公司生产的掩膜版产品根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。产品主要应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业,是下游行业产品制程中的关键工具。公司掩膜版产品主要应用的下游行业和相关客户情况如下: 平板显示行业用掩膜版包括薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)掩膜版含阵列(Array)掩膜版(a-Si/LTPS技术)及彩色滤光片(CF)掩膜版、有源矩阵有机发光二极管显示器(AMOLED)掩膜版、超扭曲向列型液晶显示器(STN-LCD)掩膜版和 Fine Metal Mask用掩膜版、MicroLED显示用掩膜版和硅基半导体显示用掩膜版等。服务的典型客户包括京东方、惠科、天马、华星光电、群创光电、瀚宇彩晶、信利、龙腾光电、维信诺等客户。

半导体芯片行业用掩膜版主要包括半导体集成电路凸块(IC Bumping)掩膜版、集成电路代工(IC Foundry)掩膜版、集成电路载板(IC Substrate)掩膜版、发光二极管(LED)封装掩膜版及微机电(MEMS)掩膜版等。服务的典型客户包括艾克尔、颀邦科技、长电科技、中芯国际、士兰微、英特尔、上海先进等客户。

触控行业用掩膜版主要包括内嵌式触控面板(In Cell、On Cell)掩膜版、外挂式触控(OGS、Metal Mesh)掩膜版。服务的典型客户包括京东方、天马等。

电路板行业用掩膜版主要包括柔性电路板(FPC)掩膜版、高密度互连线路板(HDI)掩膜版。服务的典型客户包括紫翔电子、鹏鼎控股等。


(二) 主要经营模式
公司的盈利模式、研发模式、采购模式、生产模式、销售模式及市场开拓模式如下: 1、盈利模式。从上游供应商采购原材料,针对客户个性化的需求,通过公司专业化设计,在自有的恒温、恒湿高洁净度生产车间使用高精密设备,通过多个高度专业化的生产流程,将原材料制作成符合客户定制化需求的产品,并交付给客户,实现产品销售并获得盈利。
2、研发模式。公司自成立以来,为打破国外垄断、填补国内空白,始终坚持自主研发、自主创新的研发模式。作为国内规模最大的掩膜版专业制造商之一,公司始终致力于探索、改进掩膜版的工艺制造流程,提升产品良率,提高生产制造效率,同时对于掩膜版生产所需的部分设备进行了研发、改进,从工艺到设备多角度提升掩膜版产品性能。
3、采购模式。公司设立采购部,主管供应商的开发与管理、原材料采购工作。公司根据相关产品的行业特点,制定和执行供应链管理环境下的采购模式,通过实施有效的计划、组织与控制等采购管理活动,按需求计划实施采购。
采购分为境内采购和境外采购。境内采购,因物资采购周期比较短,需求比较稳定,采购人员根据月、周采购计划,结合物资的采购周期、检验周期,在与各合格供应商签订采购合同的前提下,每月/周以采购订单的形式,实施采购。境外采购,因物资采购周期相对较长、流程繁杂,采购部门指定专业人员负责采购,由负责采购的人员根据月/周采购计划,结合物资的采购周期、检验周期,每笔以采购合同的形式实施采购。计划外采购的物资,由相关部门以物资需求申请单的形式提出,经批准后,交采购部门实施采购。
4、生产模式。公司的产品全部由公司自行生产,不存在外协生产的情况。掩膜版为定制化产品,公司采用“以销定产”的生产模式,根据客户订单需求情况进行生产调度、管理和控制。

通常客户单次采购的量较少,对所采购产品的品质要求较高,同时对交货期要求严格,因此公司的产品制造过程中的品质管理能力和按时交货能力至关重要。
公司针对不同的客户需求自主创新开发,或根据拟推出的产品成立专门的项目组,由项目组根据研发部门的创新方案或客户的构思和需求,设计开发工艺技术方案,并制作产品,送交客户认证。
5、销售模式。公司的销售模式均为直接销售,即公司直接与客户签署合同,直接将货物交付至客户指定的地点,客户直接与公司进行结算。
6、市场开拓模式。公司采取两种市场开拓模式:自行开拓模式、代理商开拓模式。 ①自行开拓模式:公司自行通过行业交流、展会宣传以及老客户口碑相传等形式开拓新的客 户资源。 ②代理商开拓模式:代理商自行接洽境外潜在需求客户,如开拓成功,客户将订单直接下达 给公司,款项与货物通过客户直接与公司往来,代理商不参与交易过程中的具体环节。公司按客 户成交金额根据事先与代理商约定的佣金比例计算具体佣金金额。通常在收到客户的付款之后, 公司再向代理商支付佣金。 (三) 所处行业情况 1. 行业的发展阶段、基本特点、主要技术门槛 1)平板显示市场 2021年,平板显示行业长期发展呈现像素高精度化、尺寸大型化、竞争白热化、转移加速 化、产品定制化等特点,受益于电视平均尺寸增加,大屏手机、车载显示和公共显示等需求的拉 动,根据Omdia 2021年9月预测,2025年全球平板显示需求达到300百万平方米。(如下图: 全球2018-2027年平板显示需求预测,单位:百万平米) 数据来源:Omdia 2021年
近年来我国集中建设高精度、高世代面板线为承接全球新型显示产能转移提供了良好条件,全球平板显示产业布局向中国转移的进程明显加快。我国平板显示产业集中度进一步提高,京津唐、长三角、珠三角以及成渝鄂等四大产业聚集区都拥有高精度、高世代面板线。我国平板显示产业呈现以下特征:①产业规模持续扩大,自给能力稳步提升,市场占有率持续增长,中国大陆已经成为全球面板产能最多的地区。根据 Omdia 2021年 9月预计,2021年中国大陆 6代以上产能占比超过 70%;6代及以下产能占比 32.3%,2026年产能占比达到 43.6%。

数据来源:Omdia 2021年 ②技术水平进一步提高,量产进程稳步推进。多条AMOLED/LTPS生产线建设进展顺利,京东方、 华星光电、天马、维信诺、和辉光电等企业在AMOLED/LTPS高分辨率、折叠屏、全面屏、高饱和 度等新技术上加大投入。③本土产业链不断完善,配套体系逐步形成,平板显示产业上游设备和 材料领域国产化率进一步提升。根据Omdia 2021年9月统计分析,预计2023年有22条8.5代 以上高世代线,其中8.5/8.6代合计有18条,中国大陆AMOLED/LTPS制造商仍在继续扩大投 资,到2023年,中国大陆预计有22条6代及以下高精度线。未来,中国大陆面板厂商仍将加速 高世代或AMOLED/LTPS产线的投产。中国大陆平板显示行业对掩膜版产品尤其是高世代、高精度 掩膜版产品的需求将持续增长。根据Omdia分析,预计2025 年全球8.6代及以下平板显示行业 掩膜版销售收入为972 亿日元,占全球平板显示行业掩膜版销售额的比例为88%,8.6代及以下 平板显示行业用掩膜版需求保持稳定增长。(下图:全球8.6代及以下平板显示行业掩膜版销售 预测, 单位10,000日元) 数据来源:Omdia 2021年
根据 Omdia分析,中国大陆平板显示行业掩膜版需求占全球比重,从 2017年的 32%上升到2020年的 51%。未来随着相关产业进一步向国内转移,中国大陆平板显示行业掩膜版的需求将持续上升,预计到 2024年,中国大陆平板显示行业掩膜版需求全球占比将达到 60%。

综上,报告期内及未来可预见的期间内,中国大陆的平板显示行业处于快速发展期,发展前 景乐观,对掩膜版的需求持续增加。 数据来源:Omdia 2021年
高精度掩膜版是生产 AMOLED/LTPS及高分辨率 TFT-LCD显示屏的关键要素,随着中国大陆 AMOLED/LTPS、高世代面板线的陆续投产,对高精度、大尺寸的掩膜版需求将大幅增加。中国大陆掩膜版的发展滞后于平板显示投资的增长,特别在 AMOLED/LTPS 高精度掩膜版上国产化率不足,仍严重依赖进口,国产替代的空间巨大。报告期及未来可预见的期间内有广阔的市场空间。

2)半导体芯片市场
半导体芯片位于电子行业的中游,上游是电子材料和设备。半导体芯片被广泛应用于通信、安防、军事、工业、金融、交通、消费电子(例如:电视、电脑、平板、手机、VR\AR等)等领域, 在国家安全、经济发展和日常生活中发挥着重要的作用,是社会信息化、经济数字化的基础。在半导体市场需求旺盛的引领下,2021年全球半导体市场高速增长。根据WSTS统计,2021年全球半导体销售达到5,559亿美元,同比增长26.2%。中国仍然是最大的半导体市场,2021年的销售额总额为1,925亿美元,同比增长27.1%。

数据来源:WSTS、中国半导体行业协会 中国半导体行业协会统计,2021年是中国“十四五”开局之年,在国内宏观经济运行良好的 驱动下,国内集成电路产业继续保持快速、平稳增长态势,2021年中国集成电路产业首次突破 万亿元。中国半导体行业协会统计,2021年中国集成电路产业销售额为10,458亿元,同比增长 18.2%。其中,设计业销售额为4,519亿元,同比增长19.6%;制造业销售额为3,176亿元,同 比增长24.1%;封装测试业销售额2,763亿元,同比增长10.1%。 数据来源:中国半导体行业协会
半导体芯片行业作为半导体行业的主要代表,是整个电子信息技术行业的基础,中国大陆半导体自给率水平非常低,特别是核心芯片极度缺乏。
未来,半导体芯片产能将进一步向中国大陆转移,在智能汽车、人工智能、存储器市场、物联网、5G通信、元宇宙等领域快速发展的带动下,半导体芯片产业迎来新一轮的发展高潮。

SEMI预计从2021年9月到2024年,对于新建的200mm和300mm晶圆厂,将有 25家8英寸(200mm)晶圆厂投入运营,其中19家位于亚洲(中国大陆14家、日本 3家及中国台湾地区2家),5家位于美洲及 1家位于欧洲 /中东。预计2020年至2024年200mm晶圆的产能将增加18%。除上述之外,新增扩建300mm晶圆厂约有60 家,细分为44家在亚洲(其中,中国大陆和中国台湾地区分别有15家,韩国8家,日本5家,新加坡1家),10家在欧洲及6家在美洲。

中国大陆半导体芯片产业生产线的投资布局将进一步拓展,半导体芯片相关产品技术将继续加快变革,中国大陆半导体芯片、MicroLED芯片、半导体先进封装领域均有望实现突破。 2022年3月 SEMI分析,全球半导体材料市场2021年收入增长15.9%至643亿美元,2021年晶圆制造材料和封装材料的收入总额分别为404亿美元和239亿美元,同比增长 15.5% 和 16.5%。硅、湿化学品和掩膜版等领域在晶圆制造材料市场中表现出最强劲的增长。

根据Yole的研究,随着全球制定“碳达峰、碳中和”目标,带来更多绿色能源发电、绿色汽车、充电桩、储能等需求,促使电源IC产业中的企业提高产能,截至2026年可将市场规模扩大到超过250亿美元, 2020年-2026年CAGR为3.0%。汽车和工业两个应用市场增长最快,2020年至2026年间的CAGR分别为9.0%和5.6%。移动与消费市场是最大的应用细分市场,预期截至2026年将超过115亿美元。电源管理芯片主要采用Bipolar-CMOS-DMOS (BCD)工艺制造,制程从1um到 90nm 不等,三星和台积电正在寻求将其进一步降低到 65nm。间接导致了产品料号种类多,市场份额比较分散,长尾效应明显,将带动1um到90nm半导体芯片掩膜版的需求。

受益于5G通信、人工智能、移动互联网(智慧城市、智慧医疗、智慧安防)、光电通信、自动工业控制等市场的高速成长,MEMS行业细分领域包括射频MEMS、MEMS惯性器件、压力传感器、MEMS麦克风等发展势头强劲。根据Yole预测,全球MEMS行业市场规模将从2020年的121亿美元增长至2026年的约182亿美元,CAGR达7.2%。MEMS行业将带动半导体芯片掩膜版的需求进一步增长。

在半导体芯片用掩膜版领域,半导体芯片需求的增加,是推动半导体芯片掩膜版市场增长的主要因素。根据SEMI在SEMICON Japan 2020年12月的分析报告,2019年全球半导体芯片用掩膜版市场规模约有41亿美元,预计2022年市场规模将达到44亿美元。受益于过去几年中国大陆半导体制造的快速发展,中国大陆半导体芯片用掩膜版市场规模出现快速增长的趋势。

综上,未来可预见的期间内,中国大陆半导体芯片行业处于快速发展期,半导体芯片行业用掩膜版市场空间巨大。

3)触控市场
触控行业产品主要应用于智能手机、平板电脑、笔记本电脑、车载显示、智能手表等领域。

中国触摸屏产业链日趋完善,关键技术水平持续提升,内嵌触控技术(In Cell、On Cell)正逐步替代外挂触控技术(OGS),产业转型升级逐渐加快。
综上,报告期及未来可预见的期间内,触控行业处于成熟期,触控用掩膜版仍具有稳定的市 场需求。 4)电路板市场 电路板产品主要应用于智能手机、平板电脑、手持触控电子产品、数码相机、汽车电子产品、 医疗产品等。报告期内电路板行业处于成熟期,电路板行业用掩膜版具有稳定的市场需求。 5)掩膜版产品属于精密度较高的定制化产品,具有较高的技术门槛 掩膜版属于精密度较高的定制化产品,具有较高的技术门槛。掩膜版主要应用于平板显示、 半导体芯片、电路板和触控等行业,需要在图形设计处理、光刻工序工艺、显影蚀刻工序工艺、 测量和检查分析技术、缺陷控制与修补和洁净室建设等领域积累大量的技术,掩膜版技术跨越多 个技术和学科领域,无论从基础理论还是研发、设计和制造等方面,都需要掩膜版厂商具备较高 的技术水平,掩膜版技术是公司竞争优势的关键因素。公司是国内最早进入掩膜版行业的企业之 一,在技术水平上处于国内领先地位。 由于掩膜版行业具有较高的技术门槛,市场主要参与者主要为境内外知名企业,市场集中度 较高,报告期内及未来竞争格局将较为稳定。 2. 公司所处的行业地位分析及其变化情况 平板显示行业,根据Omdia 2021年7月分析,2020年全球平板显示掩膜版企业销售金额排 名如下:在平板显示掩膜版行业,根据Omdia 2021年7月统计的2020年全球平板显示掩膜版企业销售金额排名,公司位列全球第五名,相较2019年上升一名。公司产品和技术在业内有相应的知名度,受到下游客户的认可,整体市场地位较高。

在半导体芯片掩膜版行业,根据SEMI 2021年4月统计,2020年全球半导体芯片掩膜版企业市场份额排名,半导体芯片厂商自行配套的掩膜版工厂的市场份额为65%,半导体芯片掩膜版商用厂商前五位依次排名 TOPPAN、福尼克斯、DNP、HOYA和中国台湾的台湾光罩,前五家半导体芯片掩膜版商用市场份额达到33%。中国大陆半导体芯片掩膜版商用市场长期以来被全球前五大半导体芯片掩膜版厂商所占用,目前公司已量产250nm 工艺节点的6英寸和8英寸半导体芯片用掩膜版,公司以行业发展趋势和国家的产业政策为导向,通过持续拓展半导体芯片的工 艺研发能力和先进产品的竞争力,提升半导体芯片掩膜版的国产化率。 3. 报告期内新技术、新产业、新业态、新模式的发展情况和未来发展趋势 1)平板显示市场 随着新一代信息技术的发展,消费者对显示产品的要求逐步提高,手机、平板电脑、VR、AR 等移动终端向多元化显示发展,终端产品对半导体芯片和平板显示等下游厂商对掩膜版运用方面 提出了更高的技术和精度要求,线缝精度要求越来越高。随着元宇宙概念延伸将推动更多厂商增 加虚拟世界的投资,社群交流、游戏娱乐、内容创作、虚拟经济以及工业应用等领域都会是近年 发展的重心。用户端所使用的虚拟现实(VR)和增强现实(AR)装置的普及也会成为元宇宙产业发 展的关键。2021年12月,Omdia最新研究表明,到2026年,消费类虚拟现实(VR)市场规模将 达到160亿美元,比2021年增长148%。到2026年,VR头盔的激活数量将超过Xbox游戏机,达 到7000万台。 数据来源:Omdia 2021年
近年来微型发光二极管MicroLED,因其发光效率高和显示效果好而被认为是具有潜力的下一代显示技术,但由于技术难点较多,成本高,距离量产仍需时间。在MicroLED技术开发期,Mini LED作为折中技术率先推出,有望在背光端和直显端重塑产业格局。根据Omdia预测,全球Mini LED背光TV产品销量将由2019年的400万台增长至2025年的5280万台,年均复合增速54%。2025年MicroLED显示器出货量将达500万台,产生70亿美元的收入。到2027年,市场将增长到超1100万台。

数据来源:Omdia 2021年
随着下游行业的产品和技术更新升级,掩膜版行业也涌现出诸多新技术,用以支持更高端产品的生产,例如AMOLED/LTPS用掩膜版生产技术、FMM用掩膜版生产技术、MicroLED/ Mini LED芯片技术、3D厚胶生产技术、4K/8K高分辨率显示屏掩膜版生产技术以及平板显示用半透膜(HTM)、PSM等先进的掩膜版工艺技术。

2)半导体芯片市场
第三代半导体芯片带来了新机遇,半导体芯片材料目前已经发展形成了三代半导体材料,第一代半导体材料主要是指硅、锗元素等单质半导体材料;第二代半导体材料主要是指化合物半导体材料,如砷化镓、锑化铟;第三代半导体材料是SiC和GaN为主。SiC可以制造高耐压、大功率电力电子器件如 MOSFET、IGBT等,用于高铁、智能电网、新能源汽车等行业。半导体芯片在封装技术领域持续发展,为突破国外对半导体芯片线宽的技术封锁和延续摩尔定律。在半导体芯片封装领域,各种新型封装技术和形式不断涌现,如SiP系统级封装、硅穿孔、2.5D、3D等。

越来越多的半导体芯片企业正通过开发先进封装技术,巩固其在半导体芯片行业内的技术领先地位;未来,随着第三代半导体芯片应用市场和半导体芯片新型封装市场的增长,半导体行业将迎来新的发展机遇。

近年来,随着半导体芯片和新型平板显示等新一代信息技术产业的快速发展,产业内出现更多新兴的需求,如低温多晶硅(LTPS)、金属氧化物(IGZO)、有源矩阵有机发光二极体(AMOLED)、MicroLED显示、硅基半导体显示、第三代半导体、先进封装等技术均需要更高要求的掩膜版产品与之配套。

3)掩膜版行业未来发展趋势
掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、半导体芯片行业、触控行业和电路板行业的发展影响,与下游终端行业的主流消费电子(手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED照明、物联网、医疗电子、VR/AR产品的发展趋势密切相关,未来几年掩膜版将向更高精度和全产业链方向发展。

(1)掩膜版产品精度趋向精细化

平板显示行 、色彩度更 匀性、精度 板显示掩膜 半导体芯片 艺,8英寸 点工艺,12 nm等节点 始量产3nm 与之配套的 商采取例如 综上,未 (2)掩膜 自2007年 。根据Omdi 英寸增加到 mm x3370 (3)掩膜 掩膜版的主 断提高,促 品质具有重 上游产业链 力,这不仅 业内具有一 核心技术与 核心技术及 公司主要依 项核心工,随着消费者对显示产品的 和、更轻薄化发展。对平板 、缺陷大小、洁净度均提出了 技术路线分析,除了允许缺 业,6英寸半导体成熟制造工 导体成熟制造工艺主要为500 英寸半导体目前境内主流制造 艺。中芯国际已提供14nm节 点工艺的半导体芯片,未来 导体芯片及封装用掩膜版提 学邻近校正(OPC)和相移掩 掩膜版产品的精度将趋向精细 产品尺寸趋向稳定 晶电视开始占据主流市场后, a 2021年预测,在2019年和2 50.2英寸。电视尺寸趋向大型 m尺寸之内,平板显示行业掩 行业产业链向上游拓展 原材料为掩膜版基板。同时 掩膜版企业不断追求产品品 影响。因此,从降低原材料 伸,部分企业已经具备了研 以有效降低原材料的采购成 实力的企业,将逐步向上游 发进展 先进性以及报告期内的变化 自主研发,在生产实践中不 技术,现共拥有 38项核心工求逐步提 示掩膜版 高的技 尺寸进一 艺主要为 m、350n 艺为150 工艺的半 导体芯片 了更高要 (PSM) 。 平均尺 022年之 化,国内 版产品 随着掩膜 上的突破 购成本和 、抛光、 ,而且能 业链拓展 况 完善和提 技术,具,手 半导 要求。 降低 00nm、 、250n m、110 体芯 制造 ,对 技术 大约按 ,LCD 板基板 寸稳定 行业 而掩 制终 铬、 有效 工艺 情况、平板电脑等移动 层、光刻分辨率、 据Omdia对2020 ,其他技术指标保 00nm、350nm和 2 、180nm、130nm m、90nm、65nm、45 ,台积电计划于20 艺将进一步精细化 缝精度的要求越来 应对。 每年增加1英寸的 OLED电视平均尺 从2018年开始稳定 1620 mm x1780 mm 游客户对其最终产 版基板的质量,对 产品质量出发,掩 胶等掩膜版基板全 升掩膜版产品质量 术水平。报告期内 下:
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
3.5代 Touch panel用 大尺寸掩在800mm×960mm的尺寸 范围,实现最小线/间宽 8μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度触控自主 研发获得降低光掩模 板条纹的方法及 装置1项发明专 利
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
膜版制造 技术=±0.75μm;总长(TP)精 度=±1.5μm;允许缺陷尺寸 ≤5.0μm。 该技术属国内先进。   
液体感旋 旋旋光性 树脂凸版 技术印刷PI模厚偏差(固化 后):±30?;印刷PI尺寸 偏差(单边):±0.1mm。 该技术获得深圳市2003年科 技进步三等奖。液晶显 示器 (LCD )制造 过程中 定向材 料移印自主 研发获得液体感旋旋 旋光性树脂凸版 表面除粘方法、 带凹槽的液体感 旋旋旋光性树脂 凸版的制作方法 2项发明专利
IC Bumping 用掩膜版 制造技术在152.4mm×152.4mm的 尺寸范围,实现最小线/间宽 1.5μm图形的精度与缺陷控 制达到:线/间(CD)精度 =±0.1μm;总长(TP)精度 =±0.2μm;允许缺陷尺寸 ≤2μm。 该技术属国际先进。IC封装自主 研发获得FPD掩膜版 制作设备制作 Reticle掩膜版的 方法、一种IC专 用掩膜版上黑点 类缺陷的修补方 法2项发明专利
5代a-Si TFT- LCD用 掩膜版制 造技术在520mm×800mm的尺寸 范围,实现最小线/间宽 2μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.35μm;总长(TP)精 度=±0.5μm;允许缺陷尺寸 ≤3.0μm。 该技术属国内先进。TFT- LCD用 掩膜版自主 研发获得一种光刻机 曝光系统及其控 制方法、一种检 版平台的移动方 法、检版平台移 动装置及检测系 统、降低光掩模 条纹的方法及装 置3项发明专利
5.5代 Touch Panel用 超大尺寸 掩膜版制 造技术在850mm×1,400mm的尺 寸范围,实现最小线/间宽 8μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.75μm;总长(TP)精 度=±1.5μm;允许缺陷尺寸 ≤5.0μm。 该技术属国内先进。大尺寸 触控自主 研发未单独申请专利
4.5代及 以下 AMOLE D用掩膜 版制造技 术在520mm×610mm的尺寸 范围,实现最小线/间宽 2μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.2μm;总长(TP)精度 =±0.4μm;允许缺陷尺寸 ≤2μm。 该技术属国内先进。AMOL ED用 掩膜版自主 研发除5代a-Si TFT- LCD用掩 膜版制造技术使 用的3项专利 外,还获得半灰 阶掩模板半曝光 区的设计方法及 其制造方法1项 发明专利,一种 旋覆与狭缝液帘
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
    配合的显影设备 1项实用新型专 利
5.5代 LTPS用 掩膜版制 造技术在800mm×920mm的尺寸 范围,实现最小线/间宽 2μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.10μm;总长(TP)精 度=±0.30μm;允许缺陷尺 寸≤1.0μm。 该技术属国内先进。LTPS 用掩膜 版自主 研发除5代a-Si TFT- LCD用掩 膜版制造技术使 用的5项专利 外,还获得降低 光掩模板条纹的 方法及装置1项 发明专利
8.5代及 以下 TFT- LCD用 掩膜版制 造技术在1,220mm×1,400mm的 尺寸范围,实现最小线/间宽 2μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.35μ;总长(TP)精度 =±0.50μm;允许缺陷尺寸 ≤3.0μm。 该技术属国际水平,国内先 进。大尺寸 面板自主 研发除5代a-Si TFT- LCD用掩 膜版制造技术使 用的5项专利 外,还获得一种 通过加曝图形制 作掩模板的方法 1项发明专利
激光修补 图形缺陷 技术修(ZAP激光祛除黑缺陷) /补(LCVD激光化学气相沉 积补白缺陷)最小尺寸: 2μm/3μm;精度达到 0.16μm/0.45μm。 该技术属国内先进。缺陷修 补自主 研发获得激光气相沉 积方式修补白缺 陷的方法、一种 铬版修补胶及采 用该铬版修补胶 修补铬版白缺陷 的方法2项发明 专利和一种半透 膜掩模版LCVD 修补系统1项实 用新型专利
线/间宽 (CD) 精度测量 技术线/间宽(CD)精度测量: 重复精度<10nm(3sigma), 再现精度<+/-20nm。 该技术属国内先进。CD测 量自主 研发获得一种显微镜 透射照明系统、 一种激光共聚焦 显微系统、掩膜 版的显影方法3 项发明专利,一 种光学照明系统 及非接触式测量 装置1项实用新 型专利
高精度长 尺寸 (TP)测 量技术测量精度重复性可达到 0.4μm(3sigma)。 该技术属国内先进。TP测 量自主 研发获得一种光学照 明系统及非接触 式测量装置1项 实用新型专利
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
Pellicle 贴膜技术贴附精度≤0.5mm,贴附压 力满足150~3,000N(可 调)。 该技术属国内先进。掩膜版 贴膜自主 研发获得贴膜机1项 发明专利
PDP障壁 修补技术修补精度:<0.5μm;定位精 度:±3μm;修补速度: 20μm /Sec。 该技术属国内先进。缺陷修 补自主 研发获得一种激光器 障壁修补系统1 项实用新型专利
QYCAM 图形设计 技术对客户的产品参数进行设计 规则检查和图形元素符合性 检查,自动进行图形逻辑处 理、优化及对比检查,将客 户参数转换为符合掩膜版制 造要求的数据格式,极大的 提高了图形设计效率及质 量。 该技术属国内先进。产品设 计自主 研发未申请专利,公 司专门成立图形 设计部从事相关 工作
光刻机掩 膜版JOB 转换与确 认技术该技术实现光刻工艺参数及 图形参数自动上传,及JOB 参数自动下载及比对,有效 提高数据转换效率,防止人 工操作错误。 该技术属国内先进。制程执 行与控 制自主 研发未单独申请专利
半透膜 (HTM) 掩膜版技 术在800mm×960mm的尺寸 范围,实现最小线/间宽 2μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.35μm;总长(TP)精 度=±0.5μm;允许缺陷尺寸 ≤3μm。透过率±1.5%。 该技术属国际先进。TFT- LCD HTM 用掩膜 版自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
洁净室污 染控制技 术通过对洁净室规划、利用技 术和管理手段对掩膜版生产 区域的微粒、有机物离子、 无机离子、微生物进行污染 控制,提升光刻机工艺、光 刻性能、掩膜版表面的清洗 可靠性。 该技术属国内先进。高精度 AMOL ED用 掩膜版自主 研发未单独申请专利
掩膜版清 洗技术清洗技术通过利用溶剂、各 种酸碱、表面活性剂和水, 通过超声波、腐蚀、溶解、 化学反应转入溶液和冷热液 体冲洗等方法,去除掩膜版 表面的有机物、无机物等污 染物颗粒和离子。高精度 AMOL ED用 掩膜版自主 研发获得一种清洗装 置1项发明专利
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
 该技术属国内先进。   
芯片级封 装和系统 级封装 (SiP) 用掩膜版 技术在152.4mm×152.4mm的 尺寸范围,实现最小线/间宽 1μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.1μm;总长(TP)精度 =±0.1μm;允许缺陷尺寸 ≤1.0μm。 该技术属国际先进。3D芯 片级封 装和系 统级封 (SiP)自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
Micro- LED用掩 膜版技术在152.4mm×152.4mm的 尺寸范围,实现最小线/间宽 3μm图形的精度与缺陷控制 达到:线/间(CD)精度 =±0.25μm;总长(TP)精 度=±0.25μm;大数据处理 技术。 该技术属国内先进。Micro- LED自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
大尺寸 FMM用 掩膜版 Mura控 制技术在813mm*1379mm的尺寸 范围,对Pixel(像素点)均 匀性进行控制,减少Mura 和Taper产生。 该技术属国内先进。FMM 用掩膜 版自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
6代LTPS (含 OLED) 用掩膜版 产品制造 技术在6代LTPS(含OLED)用 掩膜版实现最小线/间宽 1.5μm图形的精度与缺陷控 制达到:线/间(CD)精度 =±0.10μm;总长(TP)精 度=±0.30μm;允许缺陷尺 寸≤1.0μm。LTPS/ AMOL ED用 掩膜版自主 研发获得小尺寸 MASK贴膜机发 明专利
5代多栅 (Multi- slit)产品 关键技术5代多栅(Multi-slit)产品 关,实现最小线/间宽2μm 图形的精度与缺陷控制达 到:线/间(CD)精度 =±0.12μm;总长(TP)精 度=±0.35μm;允许缺陷尺 寸≤1.0μm。 该技术属国内先进。5代多 栅 (Multi -slit)产 品自主 研发获得1项超薄反 应腔发明专利
混切 (MMG) 面版 MASK的 MURA 控制实现 G8.5 MASK及以下的 MMG面版中所有尺寸图形 的 MURA控制。实现所有世 代 MASK,2种及以上面板 混排的图形 MURA 控制。MMG 掩膜版自主 研发获得一种MMG掩 模板的制作方法 的发明专利
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
AMOLED 产品清洗 工艺脏点控制≤1μm一次通过清 洗率达到90%(透射检测) AMOLED订单出货一次通过清 洗率≥70%AMOL ED自主 研发获得一种光掩膜 清洗装置的实用 新型专利
高精度6 代 800*945 LTPS掩膜版尺寸: 800mm*945mm,CD精度± 0.08μm,位置精度± 0.25μm,最大缺陷 <1μmLTPS自主 研发获得机械夹子的 实用新型专利
8.5代高 精度掩膜 版光刻工 艺高精度光刻工艺开发,精度 ≤150nm,位置精度 ≤0.4μm,线条边缘锐度整 齐,图形边界≤50nm8.5代 高精度 掩膜版自主 研发获得一种应用于 OLED曝光机的发 明专利
8.5代a- Si array 用掩膜版 清洗工艺经清洗后2μm及以上的颗粒 可以通过检测,无静电产生8.5代 高精度 掩膜版自主 研发获得 ①一种手 工显影蚀刻脱模 设备②一种用于 设备内部的清洁 工具的实用新型 专利
高精度掩 膜版自动 光学测量 检查机改 造缺陷检出灵敏度为 0.35μm, Die to Database 检测逻辑达 分辨率达到0.5μm高精度 掩膜版自主 研发获得 ①一种用 于自动光学检查 机的测试板夹具 ②掩模版存放装 置的实用新型专 利
掩膜版制 造工艺升 级改造最小线缝:2μm;CD:真值 ≤±0.2μm;位置精度:≤ ±0.4μm;贴膜:≤± 0.5mm;居中:≤±0.5mm高精度 掩膜版自主 研发-
高精度掩 膜版夹持 设备工艺与各设备对接(X,Y,Z方 向)对准精度±1mm;与光刻 机对接倾斜角度精度±0.5m rad;机器人重复定位精度 ±0.06mm;高精度 掩膜版自主 研发获得掩模版夹持 设备控制单元电 路设计布图
CD测量 机图形线 缝宽度测 量重复性重复性测试:3σ≤10nm; 线性测试: 100x:±20nm; 50x:± 30nm高精度 掩膜版自主 研发已受理发明专利 <<一种用于CD测 量机的线宽测量 误差补偿方法>>
6代 AMOLED/L TPS 中等 规格精度 用掩膜版 显影、蚀 刻精度CD精度:0.1μm;CD 极 差:0.15μmAMOL ED/LTP S自主 研发获得一种手工显 影蚀刻脱模设备 的实用新型专利
     
核心技术技术简介应用技术 来源对应的专利情况
PPO技术 测试与功 能应用达成软件最终符合改善mura 及CD均匀性的要求高精度 掩膜版自主 研发获得1项降低光 掩模板条纹的方 法及装置的发明 专利
高精度6 代 850*1200 LTPS掩膜版尺寸: 850mm*1200mm,CD精度 ±0.08μm ,位置精度 ±0.25μm,最大缺陷 <1μmAMOL ED/LTP S自主 研发获得1项清溢掩 膜版生产工艺路 线调整软件V1.0 软件著作权
IC MASK 数据处理 综合提升通过开发IC 掩膜版的数据 处理方法与程序,提高IC掩 膜版数据的处理效率;IC 掩 膜版自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
大尺寸超 精密坐标 掩膜版测 量机PA重复性(3σ),四个方 向(0度、90度、180度、 270度)均小于50nm;四方 向套合精度(3σ)(0度- 90度-180度-270度)小于 90nm高精度 掩膜版自主 研发计划待技术进一 步深化后申请专 利
大尺寸高 精度掩膜 版显影 Puddle 工艺调试8092及以下尺寸,达到CD精 度<100nm,CD Range<80nm高精度 掩膜版自主 研发一种用于CD测量 机的线宽测量误 差补偿方法(发 明专利已受理)
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