[中报]东微半导(688261):苏州东微半导体股份有限公司2022年半年度报告

时间:2022年08月26日 21:07:31 中财网

原标题:东微半导:苏州东微半导体股份有限公司2022年半年度报告

公司代码:688261 公司简称:东微半导 苏州东微半导体股份有限公司 2022年半年度报告


重要提示
一、本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实性、准确性、完整性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。

二、重大风险提示
公司已在本报告中详细阐述公司在经营过程中可能面临的各种风险,敬请查阅本报告第三节“管理层讨论与分析”之“五、风险因素”。

三、公司全体董事出席董事会会议。

四、本半年度报告未经审计。

五、公司负责人龚轶、主管会计工作负责人谢长勇及会计机构负责人(会计主管人员)谢长勇声明:保证半年度报告中财务报告的真实、准确、完整。

六、董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 无
七、是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用
八、前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告中所涉及的未来计划、发展战略等前瞻性描述不构成公司对投资者的实质承诺,敬请投资者注意投资风险。

九、是否存在被控股股东及其关联方非经营性占用资金情况

十、是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况?

十一、是否存在半数以上董事无法保证公司所披露半年度报告的真实性、准确性和完整性 否
十二、其他
□适用 √不适用
目录
第一节 释义 ................................................................ 4 第二节 公司简介和主要财务指标 ............................................... 6 第三节 管理层讨论与分析 ..................................................... 9 第四节 公司治理 ........................................................... 36 第五节 环境与社会责任 ..................................................... 37 第六节 重要事项 ........................................................... 38 第七节 股份变动及股东情况 .................................................. 66 第八节 优先股相关情况 ..................................................... 73 第九节 债券相关情况 ....................................................... 73 第十节 财务报告 ........................................................... 74


备查文件目录载有公司法定代表人、主管会计工作负责人、会计机构负责人签字并盖章的 财务报表
 报告期内在中国证监会指定报刊上公开披露过的所有公司文件的正本及公告 原稿。


第一节 释义
在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:

常用词语释义  
公司、本公司、股份公 司、东微半导、东微苏州东微半导体股份有限公司,根据上下文,还包括其子和/或 分公司
苏州高维苏州工业园区高维企业管理合伙企业(有限合伙)
得数聚才苏州工业园区得数聚才企业管理合伙企业(有限合伙)
原点创投苏州工业园区原点创业投资有限公司
中新创投中新苏州工业园区创业投资有限公司
聚源聚芯上海聚源聚芯集成电路产业股权投资基金中心(有限合伙)
哈勃投资哈勃科技创业投资有限公司,曾用名“哈勃科技投资有限公 司”
中小企业发展基金中小企业发展基金(深圳有限合伙)
智禹博信苏州工业园区智禹博信投资合伙企业(有限合伙)
智禹淼森苏州智禹淼森半导体产业投资合伙企业(有限合伙)
智禹博弘苏州工业园区智禹博弘投资合伙企业(有限合伙)
智禹东微苏州工业园区智禹东微创业投资合伙企业(有限合伙)
智禹嘉通苏州智禹嘉通创业投资合伙企业(有限合伙)
天蝉投资苏州天蝉智造股权投资合伙企业(有限合伙)
丰熠投资上海丰熠投资管理有限公司
丰辉投资宁波丰辉投资管理合伙企业(有限合伙)
国策投资上海国策科技制造股权投资基金合伙企业(有限合伙),曾用 名“上海国和人工智能股权投资基金合伙企业(有限合伙)”
上海烨旻上海烨旻企业管理中心(有限合伙)
中金丰众40号资管计划中金丰众40号员工参与科创板战略配售集合资产管理计划
《公司法》《中华人民共和国公司法》
《证券法》《中华人民共和国证券法》
《企业会计准则》财政部于2006年2月15日颁布的企业会计准则及其应用指南 和其他相关规定,以及相关规定、指南的不时之修订
报告期末2022年06月30日
《公司章程》现行有效的《苏州东微半导体股份有限公司章程》及其修订和 补充
股东大会苏州东微半导体股份有限公司股东大会
董事会苏州东微半导体股份有限公司董事会
监事会苏州东微半导体股份有限公司监事会
半导体常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。常见的半导体 材料有硅、碳化硅、氮化镓、砷化镓等。硅是各种半导体材料 中,在商业应用上最具有影响力的一种。
分立器件半导体分立器件,与集成电路相对而言的,采用特殊的半导体 制备工艺,实现特定单一功能的半导体器件,且该功能往往无 法在集成电路中实现或在集成电路中实现难度较大、成本较 高。分立器件主要包括功率二极管、功率三极管、晶闸管、 MOSFET、IGBT等。
半导体功率器件、功率 半导体又称电力电子功率器件,主要用于电力设备的电能变换和电路 控制,是进行电能(功率)处理的核心器件,弱电控制和强电 运行间的桥梁。半导体功率器件是半导体分立器件中的主要组 成部分。
MOSFET、功率MOSFET或金属-氧化物-半导体场效应晶体管,是一种典型半导体器件结
MOS 构,目前已广泛使用在电力电子电路中,也可以单独作为分立 器件使用以实现特定功能。
沟槽型MOSFETMOSFET栅极结构通过沟槽工艺制备,具有高元胞密度、低导通 损耗等特点。
高压超级结MOSFET基于电荷平衡技术理论,在传统的功率MOSFET中加入p-n柱 相互耗尽来提高耐压和降低导通电阻的器件结构,具有工作频 率高、导通损耗小、开关损耗低、芯片体积小等特点。
中低压屏蔽栅 MOSFET、 SGT、SGT MOSFET基于电荷平衡技术理论,在传统的功率 MOSFET 中加入额外的 多晶硅场板进行电场调制从而提高耐压和降低导通电阻的器 件结构,具有导通电阻低、开关损耗小、频率特性好等特点。
IGBT绝缘栅双极型晶体管,同时具备 MOSFET 和双极性晶体管的优 点,如输入阻抗高、易于驱动、电流能力强、功率控制能力高、 工作频率高等特点。
TGBTTri-gate IGBT,一种公司采用独立知识产权Tri-gate器件结 构的创新型IGBT产品系列。
VthThreshold Voltage,阈值电压。
DC-DC将一个固定的直流电压变换为可变的直流电压,也称为直流斩 波器。
功率模块将分立器件或分立器件和集成电路按一定的电路拓扑封装在 一起,形成整体模块化产品。该类产品集成度高、功率密度高、 功率控制能力强,往往应用于大功率或小体积的电力电子产 品。
晶圆经过半导体制备工艺加工后的晶圆片半成品,进一步通过封装 测试可以形成半导体器件产品。每片8英寸晶圆包含数百颗至 数万颗数量不等的单芯片。
功率器件已经封装好的MOSFET、IGBT等产品。晶圆制作完成后,需要封 装才可以使用,封装外壳可以给芯片提供支撑、保护、散热以 及电气连接和隔离等作用,以便使器件与其他电容、电阻等无 源器件和有源器件构成完整的电路系统。
晶圆代工芯片设计企业将设计方案完成后,由芯片代工企业通过采购晶 圆材料、光刻、刻蚀、离子注入等加工工艺制造出芯片。
封装测试、封测封装和测试,首先把已制造完成的半导体芯片进行封装,再对 元器件进行结构及电气功能的确认,以保证半导体元件符合系 统的需求,整个过程被称为封装测试。
碳化硅、SiC碳化硅(SiC)是第三代宽禁带半导体材料的代表之一,具有禁 带宽度大、热导率高和击穿电场高等性质,特别适用于高压、 大功率半导体功率器件领域。
氮化镓、GaN氮化镓(GaN)是第三代宽禁带半导体材料的代表之一,具有禁 带宽度大、热导率高、电子饱和迁移速率高、直接带隙、击穿 电场高等性质。
导通电阻功率MOSFET开启时漏极和源极间的阻值。导通电阻数值越小, MOSFET工作时的功率损耗越小。
饱和压降在饱和区内,IGBT集电极和发射极间电压。
FOM器件的品质因子或系数,指导通电阻与栅极电荷 Qg 的乘积。 栅极电荷Qg的大小可以表征器件的开关速度,栅极电荷Qg越 小,器件的开关速度越快。因此,FOM值越低,表示器件同时 具备低导通电阻和快速开关特性,器件损耗特性越好。
LEDLighting Emitting Diode,即发光二极管,是一种半导体固 体发光器件,利用固体半导体芯片作为发光材料,在半导体中 通过载流子复合产生光子。
EMIElectro-Magnetic Interference,即电磁干扰,是干扰电缆信 号并降低信号完好性的电子噪音。
栅极电荷、总栅极电荷、 Qg为导通或驱动MOSFET而注入到栅极电极的电荷量。数值越小, 开关损耗越小,从而可实现高速开关。
导通压降器件开始导通时 MOSFET 源-漏极之间或者 IGBT 发射极-集电 极之间的电压差。
同步整流用功率 MOSFET 做整流器时,要求栅极电压必须与被整流电压 的相位保持同步,以完成整流功能。
锂电保护对电芯的保护,使电芯工作在安全范围内,锂电保护监测电芯 使用情况,在异常状态阻断电芯充放电,防止电芯继续使用。
逆变器把直流电能(电池、蓄电瓶)转变成定频定压或调频电压交流 电(一般为220V,50Hz正弦波)的转换器,由逆变桥、控制逻 辑和滤波电路组成。
YoleYole Développement SA,一家法国市场研究与战略咨询公司, 专注于功率半导体与MEMS传感器等领域。
Omdia一家以研究科技、媒体和电信业务为核心的全球性调查公司。
注释:本年度报告中所列出的数据可能因四舍五入原因与根据本半年度报告中所列示的相关单项数据计算得出的结果略有不同。

第二节 公司简介和主要财务指标
一、 公司基本情况

公司的中文名称苏州东微半导体股份有限公司
公司的中文简称东微半导
公司的外文名称Suzhou Oriental Semiconductor Company Limited
公司的外文名称缩写Oriental Semi
公司的法定代表人龚轶
公司注册地址苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢515室
公司办公地址苏州工业园区东长路88号2.5产业园三期N2栋5层
公司办公地址的邮政编码215121
公司网址http://www.orientalsemi.com/
电子信箱[email protected]
报告期内变更情况查询索引

二、 联系人和联系方式

 董事会秘书(信息披露境内代表)
姓名李麟
联系地址苏州工业园区东长路88号2.5产业园三期N2栋5层
电话+86 512 62668198
传真+86 512 62534962
电子信箱[email protected]

三、 信息披露及备置地点变更情况简介

公司选定的信息披露报纸名称《上海证券报》(www.cnstock.com); 《中国证券报》(www.cs.com.cn); 《证券时报》 (www.stcn.com); 《证券日报》(www.zqrb.cn); 《经济参考报》(www.jjckb.cn)
登载半年度报告的网站地址上海证券交易所(www.sse.com.cn)
公司半年度报告备置地点公司董事会办公室
报告期内变更情况查询索引

四、 公司股票/存托凭证简况
(一) 公司股票简况
√适用 □不适用

公司股票简况    
股票种类股票上市交易所及板块股票简称股票代码变更前股票简称
A股上海证券交易所科创板东微半导688261不适用

(二) 公司存托凭证简况
□适用 √不适用
五、 其他有关资料
□适用 √不适用
六、 公司主要会计数据和财务指标
(一) 主要会计数据
单位:元 币种:人民币

主要会计数据本报告期 (1-6月)上年同期本报告期比上 年同期增减(%)
营业收入466,268,427.11320,824,305.3645.33
归属于上市公司股东的净利润116,779,439.4551,805,311.07125.42
归属于上市公司股东的扣除非经常 性损益的净利润110,550,797.0148,002,879.14130.30
经营活动产生的现金流量净额60,485,671.6332,651,339.7185.25
 本报告期末上年度末本报告期末比 上年度末增减 (%)
归属于上市公司股东的净资产2,666,913,401.69565,793,694.48371.36
总资产2,735,112,386.63628,572,810.01335.13

(二) 主要财务指标

主要财务指标本报告期 (1-6月 )上年同 期本报告期比上年同期增 减(%)
基本每股收益(元/股)1.811.0375.73
稀释每股收益(元/股)1.811.0375.73
扣除非经常性损益后的基本每股收益(元/ 股)1.710.9580.00
加权平均净资产收益率(%)5.0911.65减少6.56个百分点
扣除非经常性损益后的加权平均净资产收 益率(%)4.8210.79减少5.97个百分点
研发投入占营业收入的比例(%)4.455.14减少0.69个百分点
公司主要会计数据和财务指标的说明
√适用 □不适用
1、2022年上半年,公司营业收入相较上年同期增长 45.33%,主要系报告期内,公司持续开拓新兴市场,通过不断深化与上下游优秀合作伙伴的合作,持续扩大产能,同时,不断优化产品组合结构。公司主营产品广泛应用于新能源汽车直流充电桩、通信电源、储能和光伏逆变器、新能源车车载充电机、数据中心服务器电源、快速充电器等领域。报告期内,公司业绩的持续增长主要系受前述应用领域需求增长、产能持续扩大、新产品不断推出及产品组合结构进一步优化等因素影响。

2、2022年上半年,归属于上市公司股东的净利润与归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润分别同比增长 125.42%、130.30%,主要系报告期内营业收入持续上升及毛利率大幅上涨所致,公司毛利率较去年同比增加 6.71个百分点,主要系公司持续技术迭代、产品组合结构调整及涨价等综合因素所致。

3、2022年上半年,经营活动产生的现金流量净额同比增长 85.25%,主要系报告期内,公司营业收入持续增长和毛利率大幅增加,同时公司加大对客户回款管理,收到客户现金回款增加所致。

4、2022年上半年,归属于上市公司股东的净资产与总资产分别同比增长 371.36%、335.13%,主要系报告期内,公司首次公开发行股票募集资金增加以及伴随着公司业务的不断开展,净利润大幅增长所致。

5、2022年上半年,基本每股收益、稀释每股收益、扣除非经常性损益后的基本每股收益分别同比增长 75.73%、75.73%、80.00%,主要系报告期内公司营业收入持续上升,净利润大幅增加,盈利能力不断提升所致。


七、 境内外会计准则下会计数据差异
□适用 √不适用
八、 非经常性损益项目和金额
√适用 □不适用
单位:元 币种:人民币

非经常性损益项目金额附注(如适用)
非流动资产处置损益  
越权审批,或无正式批准文件,或 偶发性的税收返还、减免  
计入当期损益的政府补助,但与公 司正常经营业务密切相关,符合国 家政策规定、按照一定标准定额或 定量持续享受的政府补助除外4,221,503.54 
计入当期损益的对非金融企业收取 的资金占用费  
企业取得子公司、联营企业及合营 企业的投资成本小于取得投资时应 享有被投资单位可辨认净资产公允 价值产生的收益  
非货币性资产交换损益  
委托他人投资或管理资产的损益  
因不可抗力因素,如遭受自然灾害 而计提的各项资产减值准备  
债务重组损益  
企业重组费用,如安置职工的支 出、整合费用等  
交易价格显失公允的交易产生的超 过公允价值部分的损益  
同一控制下企业合并产生的子公司 期初至合并日的当期净损益  
与公司正常经营业务无关的或有事 项产生的损益  
除同公司正常经营业务相关的有效 套期保值业务外,持有交易性金融资 产、衍生金融资产、交易性金融负债、 衍生金融负债产生的公允价值变动 损益,以及处置交易性金融资产、衍 生金融资产、交易性金融负债、衍生 金融负债和其他债权投资取得的投 资收益3,083,267.12 
单独进行减值测试的应收款项、合同 资产减值准备转回  
对外委托贷款取得的损益  
采用公允价值模式进行后续计量的 投资性房地产公允价值变动产生的 损益  
根据税收、会计等法律、法规的要 求对当期损益进行一次性调整对当 期损益的影响  
受托经营取得的托管费收入  
除上述各项之外的其他营业外收入 和支出  
其他符合非经常性损益定义的损益 项目23,043.97个税手续费返还
减:所得税影响额1,099,172.19 
少数股东权益影响额(税后)  
合计6,228,642.44 
将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益项目的情况说明
□适用 √不适用
九、 非企业会计准则业绩指标说明
□适用 √不适用
第三节 管理层讨论与分析
一、 报告期内公司所属行业及主营业务情况说明
1、所处行业及行业发展概况
(1)所处行业
公司是一家以高性能功率器件研发与销售为主的技术驱动型半导体企业,根据中国证监会《上市公司行业分类指引》(2012年修订),公司属于“制造业”中的“计算机、通信和其他电子设备制造业”,行业代码“C39”。 根据中华人民共和国国家统计局发布的《国民经济行业分类(GB/T 4754-2017)》,公司所处行业为“计算机、通信和其他电子设备制造业”(C39),所处行业属于半导体行业中的功率半导体细分领域。

(2)行业发展概况
在功率半导体发展过程中,20 世纪 50 年代,功率二极管、功率三极管面世并应用于工业和电力系统。20世纪 60至 70年代,晶闸管等半导体功率器件快速发展。20世纪 70年代末,平面型功率 MOSFET发展起来。20世纪 80年代后期,沟槽型功率 MOSFET和 IGBT逐步面世,半导体功率器件正式进入电子应用时代。20世纪 90年代,超级结 MOSFET逐步出现,打破了传统硅基产品的性能限制以满足大功率和高频化的应用需求。对国内市场而言,功率二极管、功率三极管、晶闸管等分立器件产品大部分已实现国产化,而功率 MOSFET特别是超级结 MOSFET、IGBT等高端分立器件产品由于其技术及工艺的复杂度,还较大程度上依赖进口,未来进口替代空间巨大。根据 Omdia数据:2021年全球功率半导体市场规模约为 435.62亿美元,预计 2024年市场规模将达到 532.19亿美元,未来三年复合增速为 6.9%;中国市场为功率半导体消费大国,市场规模不断发展,2021年中国功率半导体市场规模约为 157亿美元,预计 2024年市场规模将达到 195.22亿美元,未来三年 CAGR为 7.53%,占全球市场约为 36.68%。近年来,国家政策及顶层设计持续完善,“碳达峰、碳中和”双碳目标促使新能源、新型绿色数据中心等领域需求持续高景气,加速新能源汽车直流充电桩、光伏逆变与储能、新能源汽车车载充电机、5G 基站电源及通信电源、数据中心服务器电源和工业照明电源等领域不断发力,有望实现高速增长。

MOSFET:在全球新能源汽车、光伏等市场高速发展的推动下,功率 MOSFET 需求持续增长。相较于普通硅基 MOSFET功率器件,高压超级结 MOSFET功率器件系更先进、更适用于大电流环境下的高性能功率器件。尽管未来在第三代半导体材料成熟后会有相应器件的推出,但是由于高压超级结 MOSFET的产品特性、生产成本等方面对于新能源等成长性应用领域的需求较为契合,行业生态不断向更高性能的产品演进,因此,未来高压超级结 MOSFET行业增速有望超过中低压产品。在光伏、储能及新能源汽车相关需求放量的推动下,新能源产业下游终端应用对超级结 MOSFET的需求预计将高速增长。根据 Omdia数据:2021年全球功率 MOSFET市场规模约为 80亿美元,约占功率器件市场 54%。国内市场约 30亿美元,约占全球市场 39.9%,未来 3年市场保持稳定增长。

IGBT:IGBT作为一种新型电力电子器件,是新能源、工业控制及自动化领域的核心元器件,广泛应用于电机节能、轨道交通、智能电网、航空航天、汽车电子、新能源发电、新能源汽车等领域。从 IGBT市场空间来看,2021年全球 IGBT(分立+模块)市场规模约 57亿美元,国内 IGBT市场规模约为 22.43亿美元,国内市场规模占比约为 40%,国内市场规模增长与海外基本同步。

新能源汽车、新能源发电这些领域都是行业发展最大的催化剂。

第三代半导体器件。碳化硅(SiC)是第三代半导体产业发展的重要基础材料,碳化硅功率器件以其优异的耐高压、耐高温、高频高效、低损耗等特性,在新能源汽车、光伏、轨道交通、智能电网等领域具有明显优势。根据 Yole数据:2021-2027年全球碳化硅功率器件市场将保持年均34%的复合增速,市场规模由 2021年的 10.90亿美元,增长到 2027年的 62.97亿美元。其中,汽车领域将是未来碳化硅最大的应用市场。2027年,汽车领域碳化硅市场规模将达 49.86亿美元,占总规模的 79.18%。氮化镓(GaN)基于其开关频率高、禁带宽度大、更低的导通电阻等特点可应用于各种电力控制转换系统以及微波射频通讯系统,替代传统的硅材料和 III-V 族材料。根据Yole Development发布的《GaN Power 2021报告》预期:到 2026年 GaN功率市场规模预计会达到 11亿美元。

2、主营业务、主营产品或服务情况说明
(1)主营业务
公司是一家以高性能功率器件研发与销售为主的技术驱动型半导体企业,产品专注于工业及汽车相关等中大功率应用领域。公司凭借优秀的半导体器件与工艺创新能力,集中优势资源聚焦新型功率器件的开发,是国内少数具备从专利到量产完整经验的高性能功率器件设计公司之一,并在应用于工业级及汽车级领域的高压超级结 MOSFET、中低压功率器件、IGBT 等产品领域实现了国产化替代。公司基于自主专利技术开发出 650V、1200V及 1350V等电压平台的多种 TGBT系列 IGBT 器件已经实现量产,批量进入光伏逆变、储能、直流充电桩、电机驱动等应用领域的多个头部客户。

(2)主营产品
公司的主要产品包括 GreenMOS系列高压超级结 MOSFET、SFGMOS系列及 FSMOS系列中低压屏蔽栅 MOSFET、以及 TGBT系列 IGBT产品。公司的产品广泛应用于以新能源汽车直流充电桩、车载充电机、储能和光伏逆变器、5G基站电源及通信电源、数据中心服务器电源、UPS电源和工业照明电源为代表的工业级与车载电子应用领域,以及以 PC电源、适配器、TV 电源板、手机快速充电器为代表的消费电子应用领域。

公司上述产品的具体介绍如下:

产品类别产品品类技术特点应用领域
MOSFET高 压 超 级 结 MOSFET低导通电阻、低栅极电 荷、静态与动态损耗低工业级: 新能源汽车直流充电桩、新能源汽车车载 充电机、5G 基站电源及通信电源、数据 中心服务器电源、储能和光伏逆变器、 UPS电源以及工业照明电源等 消费级: PC电源、适配器、TV电源板、手机快速 充电器等
    
    
 中 低 压 屏 蔽 栅 MOSFET特征导通电阻低,开关 速度快,动态损耗低工业级:
    
产品类别产品品类技术特点应用领域
   电动工具、智能机器人、无人机、新能源 汽车电机控制、逆变器、UPS电源、动力 电池保护板、高密度电源等 消费级: 移动电源、适配器、数码类锂电池保护板 多口 USB充电器、手机快速充电器、电 子雾化器、PC电源、TV电源板等
    
 超级硅 MOSFET极快的开关速度与极 低的动态损耗工业级: 新能源汽车充电桩、通信电源、工业照明 电源等 消费级: 各种高密度电源、快速充电器、模块转换 器、快充超薄类 PC适配器、TV 电源板 等
    
    
IGBTTri-gate IGBT(含 Hybrid-FET)大电流密度,开关损耗 低,可靠性高,具有自 保护特点工业级: 直流充电桩、变频器、光伏逆变器、储能 电机驱动、电焊机、太阳能、UPS电源等 消费级: 电磁加热等
    
公司产品的主要应用场景如下图所示: 公司上述产品的具体介绍如下:
1)高压超级结 MOSFET
公司的高压超级结 MOSFET产品主要为 GreenMOS产品系列,全部采用超级结的技术原理,具有开关速度快、动态损耗低、可靠性高的特点及优势。

公司 GreenMOS高压超级结功率器件的各系列特点以及介绍如下表所示:
系列特点基本介绍
标准通用系列高性能通用型标准通用Generic系列产品包含500V-950V全系列, 具有低导通电阻、低栅极电荷、静态和动态损耗低 的特点,可广泛应用于各种开关电源系统的高性能 功率转换领域
S 系列EMI优化S系列产品在Generic系列产品的基础上进一步优化 了开关速度,以较低的开关速度达到更好的EMI兼 容性,特别适用于对EMI要求较高的电源系统如 LED照明、充电器、适配器以及大电流的电源系统中
E 系列EMI性能平衡E系列产品综合了标准通用系列产品和S系列产品的 特性,实现了开关速度和EMI之间较好的平衡,适用 于TV电源、工业电源等领域,开关速度介于标准通 用系列和S系列之间
Z 系列集成快恢复体二极管(FRDZ系列产品中集成了快速反向恢复二极管FRD,具有 快速的反向恢复速度以及极低的开关损耗,特别适 用于各种半桥拓扑电路、全桥拓扑电路、马达驱动 充电桩等领域
2)中低压屏蔽栅 MOSFET
公司的中低压 MOSFET 产品均采用屏蔽栅结构,主要包括 SFGMOS 产品系列以及 FSMOS产品系列。其中,公司的 SFGMOS产品系列采用自对准屏蔽栅结构,兼备了传统平面结构和屏蔽栅结构的优点,并具有更高的工艺稳定性、可靠性及更快的开关速度、更小的栅电荷和更高的应用效率等优点。

公司的 FSMOS 产品系列采用基于硅基工艺与电荷平衡原理的新型屏蔽栅结构,兼备普通VDMOS 与分裂栅器件的优点,具有更高的工艺稳定性、可靠性、较低的导通电阻与器件的优值以及更高的应用效率与系统兼容性。

公司中低压 MOSFET功率器件产品涵盖 25V-200V工作电压,可广泛应用于电机驱动、同步整流等领域。各系列的具体介绍如下表所示:

系列 特点介绍
SFGMOS系列低Vth系列Vth 较低,可以用5V栅 极驱动。高开关速度、低 开关损耗、高可靠性和一 致性主要应用于驱动电压较低的同步整流类电源 系统,如5V-20V输出快速充电器、大功率 LED显示屏电源、服务器电源、DC-DC模块 等领域
 高Vth系列Vth 较高,抗干扰能力 强。低导通电阻、高开关 速度、低开关损耗、高可 靠性和一致性主要应用于驱动电压在10V以上的电源系 统,如电源同步整流、电机驱动、锂电保护 逆变器等领域
FSMOS系列高电流密度、低功耗、高 可靠性主要应用于对功率密度有更高要求的快速充 电器、电机驱动、DC-DC模块、开关电源等 领域 
3)超级硅 MOSFET
公司的超级硅 MOSFET 产品是公司自主研发、性能对标氮化镓功率器件产品的高性能硅基MOSFET产品。公司的超级硅 MOSFET产品通过调整器件结构、优化制造工艺,突破了传统硅基种高密度高效率电源,包括直流充电桩、通信电源、工业照明电源、快速充电器、模块转换器、快充超薄类 PC适配器、TV电源板等。

4)TGBT
公司的 IGBT产品采用具有独立知识产权的 TGBT器件结构,是区别于国际主流 IGBT技术的创新型器件技术,通过对器件结构的创新实现了关键技术参数的大幅优化,公司已有产品的工作电压范围覆盖 600V-1350V,工作电流覆盖 15A-160A。公司的 TGBT系列 IGBT功率器件已逐渐发展出低导通压降、电机驱动、软恢复二极管、逆导、高速和超高速等系列。其中,高速系列的开关频率可达 100kHz;低导通压降系列的导通压降可降低至 1.5V及以下;超低导通压降系列的导通压降可达 1.2V以下;软恢复二极管系列则适用于变频电路及逆变电路;650V及 1350V的逆导系列在芯片内部集成了续流二极管,同时实现了低导通压降与快速开关的特点,适合在高压谐振电路中使用。

公司的 TGBT产品在不提高制造难度的前提下提升了功率密度,优化了内部载流子分布,调整了电场与电荷的分布,同时优化了导通损耗与开关损耗,具有高功率密度、开关损耗低、可靠性高、自保护等特点,特别适用于直流充电桩、变频器、储能逆变器、UPS电源、电机驱动、电焊机、光伏逆变器等领域。

3、公司所处的行业地位
基于多年的技术优势积累、产业链深度结合能力以及优秀的客户创新服务能力,公司已成为国内领先的高性能功率器件厂商之一。

(1)产品品类方面
在高压超级结 MOSFET领域,公司积累了包括优化电荷平衡技术、优化栅极设计及缓变电容核心原胞结构等行业领先的专利技术,产品的关键技术指标达到了与国际领先厂商可比的水平。

在中低压屏蔽栅 MOSFET领域,公司亦积累了包括优化电荷平衡、自对准加工等核心技术,产品的关键技术指标达到了国内领先水平。

在 IGBT领域,公司的 TGBT是基于新型的 Trident Gate Bipolar Transistor (简称 Tri-gate IGBT) 器件结构的重大原始创新,基于此基础器件专利,具备了赶超目前国际最为先进的第七代 IGBT芯片的技术实力。

(2)产品结构方面
公司的功率器件产品以具有更高技术含量的高压超级结 MOSFET产品为主。报告期内,公司的高压超级结 MOSFET 产品销售收入占比为 78.05%。由于高压超级结产品应用广泛且国外厂商仍占据了较大的市场份额,公司在此领域内拥有广阔的进口替代空间,发展空间巨大。

公司的创新型 Tri-gate IGBT器件产品在 2021年上半年开始送样认证并少量出货,2022年上半年度实现销售收入 1,710.46 万元,同比增长高达 70 倍以上,顺利对基于传统 trench-gate FS-IGBT技术的芯片进行替代,表现出高速增长的态势。

(3)产品应用领域方面
公司的产品以工业级应用为主,同时也进入了车载电子应用。应用领域包括新能源汽车直流充电桩、车载充电机、储能和光伏逆变器、5G基站电源及通信电源、数据中心服务器电源、UPS电源和工业照明电源等。由于工业级应用对功率半导体产品的性能和可靠性要求普遍高于消费级应用,其产品平均单价也较消费级应用的产品平均单价更高。

二、 核心技术与研发进展
1. 核心技术及其先进性以及报告期内的变化情况
经过持续底层器件结构的自主创新,公司在高压超级结 MOSFET、中低压屏蔽栅 MOSFET以及 TGBT产品领域形成了一系列具有自主知识产权的核心技术。公司进一步开发出具有自主知识产权的新型高压超级硅 MOSFET功率器件及其工艺技术,以及新型高压 Hybrid-FET器件及其工艺技术。公司掌握的核心技术大部分为国内领先或国际先进,其中公司的高压超级结 MOSFET与Tri-gate IGBT技术具备国际先进水平。上述核心技术均广泛应用于公司各类产品的批量生产中。

截至本报告期末,公司主要核心技术与变化情况如下:
(1)产品核心技术

序号核心技术类别技术来源产品类别技术/产品特点
1深沟槽超级结 MOSFET 设计及 工艺技术自主研发MOSFET1)电荷平衡优化技术、超低栅极电荷设计技 术、缓变电容设计技术、变间距终端设计技术 2)高 di/dt与 dV/dt版图设计技术 3)高 EAS能力,工业级可靠性 4)涵盖 200V~1200V电压范围,行业领先的 FOM (R *Q )优值,完整的产品系列,适用各 dson g 种拓扑应用
2多层外延超级结 MOSFET 设计及 工艺技术自主研发MOSFET1)产品系列涵盖标准系列、高速系列、快速反 向恢复系列 2)具备集成栅极 ESD防护能力 3)高 EAS与 di/dt能力
3中低压屏蔽栅 SFG MOSFET 设 计及工艺技术自主研发MOSFET1)原创的器件结构与生产工艺,自对准栅极技 术 2)高 EAS版图优化技术、高工艺一致性和高 可靠性 3)高短路电流承受能力和自保护能力 4)涵盖 60V~150V电压范围
4中低压屏蔽栅 FS MOSFET 设计及 工艺技术自主研发MOSFET1)自对准栅极技术,高工艺一致性和高可靠 性、高 EAS版图优化技术 2)更快的特征导通电阻、开关速度及更高的开 关效率 3)更高的可靠性和抗冲击能力 4)涵盖 25V~200V电压范围,行业领先的 FOM (R *Q )优值 dson g
5沟槽栅 MOSFET 设计及其工艺技 术自主研发MOSFET1)低原胞密度 2)高 EAS 性能 3)高可靠性
序号核心技术类别技术来源产品类别技术/产品特点
6超级硅 MOSFET 设计及工艺技术自主研发MOSFET1)原创的器件结构与优化的制造工艺 2)极快的开关速度与极低的动态损耗 3)在主流快速充电器应用中能获得接近氮化 镓(GaN)功率模块的效率和功率密度
7Tri-gate IGBT 设 计及工艺技术自主研发IGBT1)原创的器件结构与优化的制造工艺、原创 的载流子存储技术、原胞功率调制技术、背 面 FS工艺及超薄晶圆加工技术 2)高可靠性与高短路保护能力 3)逆导型 IGBT技术 4)大电流密度,栅极电荷小,开关损耗低
8Hybrid-FET 器件 设计及工艺技术自主研发IGBT1)原创的器件结构,兼具 IGBT与 MOSFET 功率器件优点 2)电流动态调整技术,具有更加宽广的 安全工作区 3)结合了导通电流密度高与开关速度快的特 点,可实现高速关断和大电流的处理能力
9新型第三代半导 体器件设计及工 艺技术自主研发SiC 器件1)使用新型第三代半导体器件结构 2)高速开关、超低的反向恢复时间与反向恢复 电荷 3)高可靠性、可规模生产
(2)报告期内的变化情况
报告期内,公司持续进行新技术开发工作,遵循公司技术路线图稳步推进各项技术迭代,在高压超级结 MOSFET、中低压屏蔽栅 MOSFET及 TGBT产品领域积极进行新一代技术开发,有序推进产品从 8英寸转 12英寸的工艺平台拓展工作,进展顺利。在 TGBT 产品领域,公司加强对自有知识产权技术 Tri-gate IGBT技术研发力度,产品顺利通过多个客户验证并被批量使用,迅速实现了高性能 IGBT产品的国产化替代。报告期内,公司第二代 Tri-gate IGBT技术开发成功,产品性能进一步提升。同时,公司积极布局第三代功率半导体产品,SiC研发项目稳步推进。报告期内,公司研发经费、研发人员数量、专利数量、新品开发数量均保持快速发展态势。此外,公司的研发管理体系与质量体系进一步健全与完善。报告期内公司数字化管理系统如产品生命周期管理系统、质量管理系统、良率管理系统、运营管理系统等运行通畅,研发效率、产品质量管控以及交付效率等能力持续提升。

(3)公司分产品系列技术先进性情况
报告期内,公司分产品系列具体技术及相关参数情况如下:
1)MOSFET
深槽超级结 MOSFET设计及其工艺技术。公司深槽超级结 MOSFET的设计及工艺技术包括优化电荷平衡技术、优化栅极设计及缓变电容核心原胞结构等技术。电荷平衡技术兼具技术先进性与工艺稳定性,技术方面大幅提高衬底掺杂浓度,有效降低了导通电阻;稳定性方面使产品内部电场更加均衡,性能更加稳定。栅极结构优化以及缓变电容核心原胞结构技术解决了超级结器件由于开关速度快导致的开关震荡的问题。由于导通损耗与导通电阻成正比,超级结器件在导通损耗方面具有很大的优势;同时,开关时间越短,开关过程的能量损耗就越低。超级结 MOSFET拥有极低的 FOM值,从而拥有极低的开关能量损耗和驱动能量损耗。

基于上述核心技术,公司的 GreenMOS 系列高压深槽超级结 MOSFET 产品具有比肩国际一流公司产品的性能,在优化器件性能的同时提高了产品的生产良率与工作可靠性,控制了生产成本,整体具有较高的市场竞争力。

公司的深槽超级结 MOSFET 设计及其工艺技术处于国内领先、国际先进的水平。本报告期内,公司高压超级结 MOSFET量产产品规格数量在 12英寸产线持续增加,12英寸和 8英寸产线的产品布局得到进一步优化。新一代超级结 MOSFET已经量产并且出货规模迅速扩大。

2)中低压屏蔽栅 MOSFET设计及其工艺技术
公司中低压屏蔽栅 MOSFET 设计及其工艺技术包括自对准的制造技术、电荷平衡原理以及全新的器件结构与生产工艺,实现了电场调制耐压的提高,形成了高功率密度、低开关损耗、高可靠性等特点。

公司的中低压屏蔽栅 MOSFET设计及其工艺技术处于国内领先水平。本报告期内,公司多个电压平台的屏蔽栅MOSFET在12英寸产线实现量产,产品规格数量相比上一报告期进一步增加,新一代中低压 SGT器件实现量产并逐步上量。

3)超级硅 MOSFET设计及其工艺技术
公司的超级硅 MOSFET设计及其工艺技术主要包括独创的器件结构与优化的制造工艺,拥有高速开关以及低动态损耗的特性,在硅基制造工艺上进一步提升了器件的开关速度,在主流快速充电器应用中能获得接近氮化镓(GaN)功率模块的效率和功率密度,与传统的功率器件相比具有明显优势。
公司的超级硅系列 MOSFET产品具有栅电荷与导通电阻的乘积优值低、工艺成熟度高的特点及优势。由于超级硅系列产品采用的硅基制造工艺更加成熟,一方面相较氮化镓器件可靠性更高,另一方面具有优秀的动态特性,可以进入 SiC MOSFET及 GaN HEMT的应用领域。

4)Tri-gate 结构 IGBT器件设计及其工艺技术
Tri-gate 结构 IGBT 器件设计及其工艺技术具体包括载流子控制技术、原胞功率调制技术以及独创的器件结构等。载流子控制技术优化了 IGBT 器件在导通时的内部载流子分布;原胞功率调制技术使器件在大功率开关过程中的功率分布更加均匀,避免了局部电压电流过大而导致的器件失效,使得器件具有更高的工作稳定性;独创的器件结构提升了产品的电场调制能力,提高了耐压性以及载流子浓度,因此提升了产品整体的可靠性。

基于上述核心技术,公司 TGBT产品的导通压降与开关速度同时得到优化,在关键技术参数上有着大幅的提高,在应用过程中拥有发热低、效率高的优势,可使整体应用系统的功耗更低,并拥有高功率密度、低开关损耗、高可靠性以及自保护等优势。
本报告期内,基于公司发明的新型 TGBT技术,公司新增多个电压及电流规格的 TGBT产品,进一步优化了产品的综合性能,提高了与传统 IGBT技术的兼容性和可替换性。公司第二代 TGBT技术开发成功并开始批量生产,芯片的电流密度得到进一步提高。

5)Hybrid-FET器件及其工艺技术
Hybrid-FET器件及其工艺技术包括全新的器件结构以及电流动态调整技术。这种特殊的器件结构结合了导通电流密度高与开关速度快的特点,可实现高速关断和大电流的处理能力;采用电流动态调整技术则使器件在不同的应用工作状态下拥有不同的电学表现,具有更加宽广的安全工作区域,可提高产品的整体稳定性。

公司的 Hybrid-FET器件及其工艺技术处于国内领先水平。基于此核心技术,公司的 Hybrid-FET器件兼具 IGBT、超级结 MOSFET等功率器件的优点,目前已将该技术申请专利并开始产业化。Hybrid-FET器件基于 TGBT技术,因此是 TGBT的一个子类。本报告期内,Hybrid-FET器件持续稳定批量出货,产品规格型号进一步增加,其性能优势已经被客户所认可。

国家科学技术奖项获奖情况
□适用 √不适用
国家级专精特新“小巨人”企业、制造业“单项冠军”认定情况
□适用 √不适用
2. 报告期内获得的研发成果
报告期内,公司进一步加大对新产品与新技术研发的投入力度,持续优化 8英寸与 12英寸工艺平台的产品布局,取得较好成效。截止本报告期末,公司共计拥有产品规格型号 1958款。其中,高压超级结 MOSFET产品(包括超级硅 MOSFET)1150款,中低压屏蔽栅 MOSFET产品 710款,TGBT产品 98款。

报告期内,公司取得的主要研发成果如下:
持续拓展基于公司第三代高压超级结 MOSFET技术平台的产品规格,单晶圆产出芯片颗数提高,同时产品性能得到进一步提升。第三代高压超级结 MOSFET实现了大规模出货。

公司第四代高压超级结 MOSFET实现批量出货,同时,公司启动第五代超级结 MOSFET技术研发,目前进展顺利。

公司基于深沟槽超级结技术的中低压超级结 MOSFET技术开发顺利进行。公司基于 12英寸的先进制造工艺的高压超级结 MOSFET技术大规模稳定量产,同时产品性能进一步提升。公司基于 12英寸的先进制造工艺的新一代高压超级结 MOSFET技术开发顺利进行。

公司新一代超级硅 MOSFET开发成功,进入认证阶段。

公司持续拓展基于第三代 25V-30V低压高密度屏蔽栅 MOSFET 工艺平台的产品规格,公司数据中心电源专用中低压屏蔽栅 MOSFET产品技术开发顺利进行。

公司新一代高密度屏蔽栅 MOSFET 开发成功,开始批量生产。

公司持续拓展基于自主 IGBT专利技术的 TGBT产品规格,持续提升产品性能。

公司第二代 TGBT技术开发顺利进行,多个规格型号的产品进入批量验证阶段,芯片的电流密度得到显著提高。

公司 8英寸及 12英寸的先进制造工艺的 IGBT技术开发及扩产顺利进行,随着新产线的扩充及新一代 TGBT产品的研发成功,公司 TGBT产能将得到迅速增加。

公司研发的高速大电流功率器件 600/650V Hybrid-FET 器件产业化顺利进行,报告期内产品规格数量及出货量持续增加。

公司 TGBT 器件在光伏逆变器、储能、直流充电桩、电机驱动等领域获得客户的批量应用。

公司积极布局第三代功率半导体器件如 SiC MOSFET相关器件,申请多项第三代半导体相关专利,完善对相关知识产权的全面保护,相关产品的开发在顺利进行。

报告期内获得的知识产权列表

 本期新增 累计数量 
 申请数(个)获得数(个)申请数(个)获得数(个)
发明专利131613154
实用新型专利1132
外观设计专利0000
软件著作权0000
其他531817344
合计6735307100
注释:本年新增其他申请数为53个,其中PCT专利11个、境外专利12个、中国商标28个、集成电路布图1个、马德里商标1个;本年新增其他获得数18个,其中境外专利1个、中国商标16个、马德里商标1个;累计其他申请数为173个,其中PCT专利65个、境外专利78个、中国商标28个、集成电路布图1个、马德里商标1个;累计其他获得数为44个,其中境外专利27个、中国商标16个、马德里商标1个。

3. 研发投入情况表
单位:元

 本期数上年同期数变化幅度(%)
费用化研发投入20,725,751.9916,501,245.2825.60
资本化研发投入---
研发投入合计20,725,751.9916,501,245.2825.60
研发投入总额占营业收入 比例(%)4.455.14减少0.69个百分 点
研发投入资本化的比重(%)---
研发投入总额较上年发生重大变化的原因
□适用 √不适用
研发投入资本化的比重大幅变动的原因及其合理性说明
□适用 √不适用
4. 在研项目情况
√适用 □不适用
单位:元

序 号项目名称预计总投资规模本期投入金额累计投入金额进展或阶段性成果拟达到目标技 术 水 平具体应用前景
1超级硅功率 器件13,490,000.001,416,951.804,920,183.18进一步降低超级硅器件原胞 尺寸,优化工作频率,提高 开关速度并降低开关损耗。完成超级硅技术 平台搭建,提升 频率特性,应用 拓展到工业及车 载场合,实现接 近GaN、SiC功率 器件的效率。国 际 先 进应用于高密度电源系 统及电机驱动,如新 能源汽车主驱、光伏 逆变、通信电源、工 业照明电源、快速充 电器、模块转换器、 快充超薄类PC适配 器等领域。
28英寸线 700V及以上 GreenMOS高 压的超级结 芯片23,510,000.003,249,594.838,691,896.05完成700V~950V额定电压的 超级结MOSFET平台搭建, 报告期内良率进一步提升, 1000V以上规格性能得到优 化。进一步提高超级 结器件的额定耐 压值,将耐压规 格扩展到超高压 领域。国 际 先 进应用于光伏逆变、 LED照明、5G通信电 源、数据中心服务器 电源、PC电源、适 配器、TV电源、手 机快速充电器等应用 领域。
312英寸先进 工艺 GreenMOS超 级结MOSFET24,510,000.001,942,280.187,933,980.00报告期内新增20余颗8英 寸到12英寸的产品转产工 作,12寸量产产品良率进 一步提升;12英寸 600V/650V 平台特征导通电 阻性能进一步提升。实现在12英寸产 线上生产超级结 工艺,同时提升 产品一致性。国 际 先 进应用于光伏逆变、直 流大功率新能源汽车 充电桩、新能源汽车 车载OBC、5G通信电 源、数据中心服务器 电源、PC电源、适 配器、TV电源板、 手机快速充电器等应 用领域。
4900V以下三 栅IGBT (Tri-gate IGBT)14,060,000.001,178,331.625,048,736.41完成650V Tri-gate IGBT 标准系列、超低饱和压降、 低饱和压降系列、标准高速 系列以及逆导型(RC系 列)等多个系列产品开发, 产品规格进一步得到拓展, 二代TGBT 技术开发成功并 开始批量验证。优化900V以下新 型IGBT器件的关 断损耗与导通压 降特性。国 际 领 先应用于新能源汽车电 驱系统、直流大功率 新能源汽车充电桩、 车载充电机、光伏逆 变器、储能逆变、电 焊机等应用领域。
5900V及以上 三栅IGBT (Tri-gate IGBT)16,670,000.001,662,922.504,911,640.46完成1200V与1350V逆导型 与非逆导型Tri-gate IGBT 平台开发,二代TGBT 技术 开发成功并开始批量验证。优化900V以上新 型IGBT器件的关 断损耗与导通压 降特性。国 际 领 先应用于新能源汽车电 驱系统、直流大功率 新能源汽车充电桩、 车载充电机、光伏逆 变器、储能逆变、电 焊机等应用领域。
6第三代半导 体SiC功率 器件研发14,470,000.00889,637.902,713,919.12完成SiC产品工艺与器件设 计,开发出新型栅控场效应 晶体管专利技术。完成SiC产品平 台的设计与制造 能力搭建。国 际 先 进应用于新能源汽车电 驱系统、直流大功率 新能源汽车充电桩、 车载充电机、光伏逆 变器、储能逆变、 UPS电源等应用领 域。
7中低压SGT FOM优化研 发17,107,700.003,506,831.063,506,831.06完成新一代低FOM值SGT产 品平台的搭建,各电压平台 升级开发顺利进行。完成中低压SGT 产品不同电压平 台的下一代技术 平台搭建,FOM 值更低。国 际 先 进应用于汽车转向助 力、快速充电器、电 机驱动、DC-DC模 块、通信电源等应用 领域。
8第四代超级 结器件研发5,049,100.001,080,741.341,080,741.34产品平台开发完成,特征导 通电阻性能得到提升,多个 产品进入批量生产阶段。在第三代超级结 技术平台基础上 降低高压超级结 MOSFET产品的原 胞尺寸,进一步国 际 先 进应用于新能源车载充 电机、5G通信电 源、数据中心服务器 电源、PC电源、适 配器、TV电源、手
      降低高压超级结 MOSFET特征导通 电阻。 机快速充电器等应用 领域。
9云计算与数 据中心超高 频MOSFET研 发38,333,600.004,285,328.284,285,328.28第一代超高频超低特征导通 电阻产品开发完成,产品正 处于持续优化阶段。搭建超高频超低 特征导通电阻低 压MOSFET 技术 平台,开发出适 用于云计算和数 据中心专用 MOSFET产品。国 际 先 进应用于数据中心电 源、DC-DC模块、通 信电源等应用领域。
1012寸 Tri- gate IGBT 研发4,463,600.00618,143.76618,143.76器件仿真验证、版图绘制、 形貌调试、流片验证进展顺 利。搭建12英寸 IGBT技术平台, 利用12英寸先进 制造工艺持续提 升产品一致性。国 际 先 进应用于新能源汽车电 驱系统、直流大功率 新能源汽车充电桩、 车载充电机、光伏逆 变器、储能逆变、电 焊机等应用领域。
11第四代半导 体GaO 功率 2 3 器件研发19,126,400.00894,988.72894,988.72完成Ga2O3功率器件初期调 研及研发布局。研究Ga2O3材料在 功率器件上的应 用,研制出Ga2O3 功率二极管,为 下一代功率器件 提供技术储备。国 际 先 进应用于新能源汽车电 驱系统、直流大功率 新能源汽车充电桩、 车载充电机、光伏逆 变器、储能逆变等应 用领域
合 计/190,790,400.0020,725,751.9944,606,388.38////
5. 研发人员情况
单位:万元 币种:人民币

基本情况  
 本期数上年同期数
公司研发人员的数量(人)4431
研发人员数量占公司总人数的比例(%)44.9045.59
研发人员薪酬合计707.74482.53
研发人员平均薪酬16.0915.57


教育程度  
学历构成数量(人)比例(%)
博士研究生36.82
硕士研究生1227.27
本科2147.73
专科818.18
合计44100
年龄结构  
年龄区间数量(人)比例(%)
30岁以下(不含30岁)1943.18
30-40岁(含30岁,不含40岁)1840.91
40-50岁(含40岁,不含50岁)715.91
合计44100

6. 其他说明
□适用 √不适用
三、 报告期内核心竞争力分析
(一) 核心竞争力分析
√适用 □不适用
1、强大的研发能力,保证公司产品性能国内领先甚至国际领先
公司的核心技术人员均在功率半导体领域耕耘超过十年,具有丰富的研发经验,并对行业未来的技术发展趋势具有前瞻性的创新能力。公司核心技术人员的研发能力保证了公司的技术敏锐度和研发水平,确保了公司的产品迭代能够紧跟行业发展趋势,亦满足客户终端产品的创新需求。

公司一直以来高度重视技术团队的建设,已建立起了完善的研发团队及体系。完整的研发团队及体系与持续的研发投入使得公司成为功率器件领域产品性能领先的本土企业之一。凭借优秀的研发实力,公司在主要产品方面均已具备了国内领先甚至国际领先的核心技术,并在核心技术的基础上实现了高压超级结 MOSFET、中低压屏蔽栅 MOSFET 产品的量产与销售。公司的高压超级结 MOSFET产品运用了包括电容缓变技术、超低栅极电荷等行业领先的核心技术,使关键技术指标达到了与国际领先厂商可比的水平。在中低压领域,公司的产品技术水平亦达到了国内领先水平。公司的超级硅系列 MOSFET产品已经研发成功并实现量产出货,实现了比传统超级结更高的效率,获得了众多客户的认可。公司提出的新型结构 TGBT的多款产品进入了批量生产状态。公司亦提出创新的 SiC器件技术路线,为顺利进入第三代半导体领域打下了技术基础。在大力投入研发的同时,公司也持续完善专利布局以充分保护核心技术,为业务开展及未来新业务的拓展打下了坚实的基础。(未完)
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