[中报]中科飞测(688361):深圳中科飞测科技股份有限公司2023年半年度报告

时间:2023年08月24日 21:51:58 中财网

原标题:中科飞测:深圳中科飞测科技股份有限公司2023年半年度报告

公司代码:688361 公司简称:中科飞测
深圳中科飞测科技股份有限公司
2023年半年度报告








重要提示
一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实性、准确性、完整性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。

二、 重大风险提示
报告期内,不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在报告中详细描述可能存在的相关风险,敬请查阅“第三节 管理层讨论与分析”之“五、风险因素”部分内容。


三、 公司全体董事出席董事会会议。



四、 本半年度报告未经审计。


五、 公司负责人陈鲁、主管会计工作负责人周凡女及会计机构负责人(会计主管人员)周凡女声明:保证半年度报告中财务报告的真实、准确、完整。


六、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 无

七、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用

八、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告所涉及的公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,请投资者注意投资风险。


九、 是否存在被控股股东及其他关联方非经营性占用资金情况


十、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况?


十一、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露半年度报告的真实性、准确性和完整性 否

十二、 其他
□适用 √不适用

目录
第一节 释义..................................................................................................................................... 4
第二节 公司简介和主要财务指标 ................................................................................................. 7
第三节 管理层讨论与分析 ........................................................................................................... 10
第四节 公司治理 ........................................................................................................................... 30
第五节 环境与社会责任 ............................................................................................................... 32
第六节 重要事项 ........................................................................................................................... 34
第七节 股份变动及股东情况 ....................................................................................................... 76
第八节 优先股相关情况 ............................................................................................................... 83
第九节 债券相关情况 ................................................................................................................... 83
第十节 财务报告 ........................................................................................................................... 84



备查文件目录载有公司负责人、主管会计工作负责人、会计机构负责人(会计主管 人员)签名并盖章的财务报表。
 报告期内公开披露过的所有公司文件的正本及公告的原稿。



第一节 释义
在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:

常用词语释义  
中科飞测、公司、本公司、股 份公司深圳中科飞测科技股份有限公司
A股在中国境内发行及在中国境内证券交易所上市并以人民 币标明股票面值及以人民币认购和交易的普通股股票
前海中科飞测深圳前海中科飞测科技有限公司,系全资子公司
厦门中科飞测厦门中科飞测科技有限公司,系全资子公司
北京中科飞测北京中科飞测科技有限公司,系全资子公司
广州中科飞测广州中科飞测科技有限公司,系全资子公司
上海中科飞测上海中科飞测半导体科技有限公司,系全资子公司
珠海中科飞测珠海中科飞测科技有限公司,系全资子公司
成都中科飞测成都中科飞测科技有限公司,系全资子公司
武汉中科飞测武汉中科飞测半导体科技有限公司,系全资子公司
香港中科飞测Skyverse Limited,系全资子公司
新加坡中科飞测SKYVERSE PTE. LTD.,系香港中科飞测全资子公司
苏州翌流明苏州翌流明光电科技有限公司
小纳光深圳小纳光实验室投资企业(有限合伙)
国投基金国投(上海)科技成果转化创业投资基金企业(有限合伙)
芯动能北京芯动能投资基金(有限合伙)
岭南晟业深圳市岭南晟业有限公司
前海博林深圳市前海博林股权投资基金有限公司
中科院微电子所中国科学院微电子研究所
物联网二期上海物联网二期创业投资基金合伙企业(有限合伙)
深创投深圳市创新投资集团有限公司
创新一号深圳市人才创新创业一号股权投资基金(有限合伙)
哈勃投资哈勃科技创业投资有限公司
聚源载兴上海聚源载兴投资中心(有限合伙)
粤莞投资粤莞先进制造产业(东莞)股权投资基金(有限合伙)
丹盛管理宁波丹盛企业管理咨询合伙企业(有限合伙)
自贸三期上海自贸试验区三期股权投资基金合伙企业(有限合伙)
华控科工华控湖北科工产业投资基金(有限合伙)
国科鼎奕西藏国科鼎奕投资中心(有限合伙)
力合融通深圳力合融通创业投资有限公司,曾用名深圳力合融通投 资有限公司、深圳力合融通投资股份有限公司
聚源启泰上海聚源启泰投资中心(有限合伙)
聚源铸芯苏州聚源铸芯创业投资合伙企业(有限合伙)
睿朴资管上海睿朴资产管理有限公司
力合汇盈共青城力合汇盈投资管理合伙企业(有限合伙)
中芯国际中芯国际集成电路制造有限公司
通富微电通富微电子股份有限公司
长江存储长江存储科技有限责任公司
士兰集科厦门士兰集科微电子有限公司
长电科技江苏长电科技股份有限公司
华天科技天水华天科技股份有限公司
蓝思科技蓝思科技股份有限公司
VLSI Research国外知名集成电路和泛半导体领域的研究顾问公司,针对
  半导体产业链提供技术、商业和经济方面市场调研和经济 分析
QY Research北京恒州博智国际信息咨询有限公司,国内咨询机构
YOLEYole Development,法国市场研究与战略咨询公司
科磊半导体KLA Corporation
应用材料Applied Materials, Inc.
阿斯麦ASML Holding N.V.
拉姆研究Lam Research Corporation,亦被称为泛林研究
东京电子Tokyo Electron Ltd.
《公司章程》《深圳中科飞测科技股份有限公司章程》
股东大会深圳中科飞测科技股份有限公司股东大会
董事会深圳中科飞测科技股份有限公司董事会
监事会深圳中科飞测科技股份有限公司监事会
《公司法》《中华人民共和国公司法》
《证券法》《中华人民共和国证券法》
中国证监会、证监会中国证券监督管理委员会
上交所上海证券交易所
保荐人、保荐机构、国泰君安国泰君安证券股份有限公司
招股说明书《深圳中科飞测科技股份有限公司首次公开发行股票并 在科创板上市招股说明书》
报告期期末2023年 6月 30日
报告期2023年 1月 1日至 2023年 6月 30日
元、万元、亿元人民币元、人民币万元、人民币亿元
集成电路、ICIntegrated Circuit,即集成电路,是采用一定的工艺,将一 个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线 连在一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片 上,然后封装在一个外壳内,成为具有所需电路功能的微 型结构
芯片集成电路的载体,也是集成电路经过设计、制造、封装、 测试后的结果
晶圆厂集成电路领域中专门负责生产、制造芯片的企业
晶圆硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,又称 Wafer、圆片, 在硅晶片上可加工制作各种电路元件结构,成为有特定电 性功能的集成电路产品。按其直径主要分为 6英寸、8英 寸、12英寸等规格
前道、后道芯片制造分为前道工艺和后道工艺,前道主要是光刻、刻 蚀、清洗、抛光、离子注入等;后道主要是互连、打线、 密封、测试等
中道前道工艺结束后,后道封装测试前的重布线结构(RDL)、 凸点(Bump/Pillar)与硅通孔(TSV)等先进封装工艺环 节
封装把晶圆上的集成电路,用导线及各种连接方式,加工成含 外壳和管脚的可使用的芯片成品,起着安放、固定、密封、 保护芯片和增强电热性能的作用
先进封装处于前沿的封装形式和技术,例如 2.5D及 3D封装、晶圆 级封装、系统级封装和倒装芯片封装等
精密加工加工精度在 0.1-10微米、表面粗糙度(Ra值)在 0.3-0.8 微米的加工
检测在晶圆表面上或电路结构中,检测其是否出现异质情况,
  如颗粒污染、表面划伤、开短路等对芯片工艺性能具有不 良影响的特征性结构缺陷
量测对被观测的晶圆电路上的结构尺寸和材料特性做出的量 化描述,如薄膜厚度、关键尺寸、刻蚀深度、表面形貌等 物理性参数的量测
测试一种电性、功能性的检测,对已制造完成的半导体元件进 行性能的确认,以保证半导体元件符合系统的需求
节点、制程泛指在集成电路制造过程中的“晶体管栅极宽度的尺寸”, 尺寸越小,表明工艺水平越高,意味着在同样面积的晶圆 上,可以制造出更多的芯片,或者同样晶体管规模的芯片 会占用更小的空间,主要节点如 90nm、65nm、45nm、28nm、 14nm、7nm、5nm等
线宽、关键尺寸集成电路生产工艺可达到的最小沟道长度,其变化是半导 体制造工艺先进水平的重要指标
FinFET晶体管Fin Field-Effect Transistor,鳍式场效应晶体管,是一种新 的互补式金属氧化物半导体晶体管
n-k值n、k值分别为薄膜材料的折射率和消光系数
吞吐量设备单位时间内完成检测的晶圆数量(wph,wafer per hour,每小时检测晶圆数量),一种衡量检测速度和设备产 率的指标
CMPChemical Mechanical Polishing,集成电路制造过程中实现 晶圆全局均匀平坦化的关键工艺
注:本报告中若出现总计数尾数与所列数值总和尾数不符的情况,均为四舍五入所致。



第二节 公司简介和主要财务指标
一、 公司基本情况

公司的中文名称深圳中科飞测科技股份有限公司
公司的中文简称中科飞测
公司的外文名称Skyverse Technology Co.,Ltd.
公司的外文名称缩写
公司的法定代表人陈鲁
公司注册地址深圳市龙华区观澜街道新澜社区观光路1301-14号101 、102
公司注册地址的历史变更情况
公司办公地址深圳市龙华区观澜街道观光路银星科技园1301号
公司办公地址的邮政编码518110
公司网址http://www.skyverse.cn
电子信箱[email protected]
报告期内变更情况查询索引

二、 联系人和联系方式

 董事会秘书(信息披露境内代 表)证券事务代表
姓名古凯男
联系地址深圳市龙华区观澜街道观光路 银星科技园1301号
电话0755-2641 8302
传真0755-2319 9950
电子信箱[email protected]

三、 信息披露及备置地点变更情况简介

公司选定的信息披露报纸名称中国证券报(www.cs.com.cn)、上海证券报( www.cnstock.com)、证券时报(www.stcn.com)、证 券日报(www.zqrb.cn)、经济参考报(www.jjckb.cn )
登载半年度报告的网站地址www.sse.com.cn
公司半年度报告备置地点公司董事会办公室
报告期内变更情况查询索引

四、 公司股票/存托凭证简况
(一) 公司股票简况
√适用 □不适用

公司股票简况    
股票种类股票上市交易所 及板块股票简称股票代码变更前股票简称
A股上海证券交易所 科创板中科飞测688361

(二) 公司存托凭证简况
□适用 √不适用
五、 其他有关资料
□适用 √不适用

六、 公司主要会计数据和财务指标
(一) 主要会计数据
单位:元 币种:人民币

主要会计数据本报告期 (1-6月)上年同期本报告期比上 年同期增减 (%)
营业收入365,476,937.25120,918,962.99202.25
归属于上市公司股东的净利润45,939,106.81-32,152,733.47不适用
归属于上市公司股东的扣除非经常 性损益的净利润2,353,416.48-74,106,775.16不适用
经营活动产生的现金流量净额51,874,855.1856,590,143.02-8.33
 本报告期末上年度末本报告期末比 上年度末增减 (%)
归属于上市公司股东的净资产2,315,104,684.82569,528,349.87306.50
总资产3,445,147,390.021,660,586,174.02107.47

(二) 主要财务指标

主要财务指标本报告期 (1-6月)上年同期本报告期比上年 同期增减(%)
基本每股收益(元/股)0.18-0.13不适用
稀释每股收益(元/股)0.18-0.13不适用
扣除非经常性损益后的基本每股收 益(元/股)0.01-0.31不适用
加权平均净资产收益率(%)5.24-5.95不适用
扣除非经常性损益后的加权平均净 资产收益率(%)0.27-13.72不适用
研发投入占营业收入的比例(%)26.4672.28减少45.82个百分 点

公司主要会计数据和财务指标的说明
√适用 □不适用
1.报告期内,公司实现营业收入 36,547.69万元,同比增长 202.25%;归属于上市公司股东的净利润为 4,593.91万元,归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润 235.34万元,较上年同期盈利能力有所增强。主要系公司产品类型日趋丰富,市场认可度不断提升,公司产品销量同比大幅增加,公司收入规模实现快速增长。

2.截至 2023年 6月 30日,公司总资产为 34.45亿元,较年初增长 107.47%,归属于上市公司股东的净资产为 23.15亿元,较年初增长 306.50%,均较年初稳步增长。主要系公司于 2023年 5月完成首次公开发行股票并在科创板上市收到募集资金所致。

3.报告期内,公司基本每股收益 0.18元/股、稀释每股收益 0.18元/股、扣除非经常性损益后的基本每股收益 0.01元/股,加权平均净资产收益率 5.24%,扣除非经常性损益后的加权平均净资产收益率 0.27%,较上年同期盈利能力有所增强,主要系本期公司归属于上市公司股东的净利润和归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润增加。

4.报告期内,公司研发投入占营业收入的比例较上年同期降低 45.82个百分点,主要是由于公司本期营业收入同比增长所致。公司持续保持较高的研发投入,本期研发投入 9,669.55万元,较上年同期增长 10.64%。


七、 境内外会计准则下会计数据差异
□适用 √不适用

八、 非经常性损益项目和金额
√适用 □不适用
单位:元 币种:人民币

非经常性损益项目金额附注(如适用)
非流动资产处置损益95,703.49 
计入当期损益的政府补助,但与 公司正常经营业务密切相关,符 合国家政策规定、按照一定标准 定额或定量持续享受的政府补助 除外43,096,054.73 
除同公司正常经营业务相关的有 效套期保值业务外,持有交易性金 融资产、衍生金融资产、交易性金 融负债、衍生金融负债产生的公允 价值变动损益,以及处置交易性金 融资产、衍生金融资产、交易性金 融负债、衍生金融负债和其他债权 投资取得的投资收益86,844.15 
除上述各项之外的其他营业外收 入和支出307,087.96 
减:所得税影响额  
少数股东权益影响额(税 后)  
合计43,585,690.33 

对公司根据《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第 1号——非经常性损益》定义界定的非经常性损益项目,以及把《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第 1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益的项目,应说明原因。

□适用 √不适用

九、 非企业会计准则业绩指标说明
□适用 √不适用

第三节 管理层讨论与分析
一、 报告期内公司所属行业及主营业务情况说明
(一)公司所属行业情况
1. 所属行业及确定依据
公司主要从事高端半导体质量控制设备的研发、生产和销售,产品主要面向集成电路前道制程、先进封装等领域。根据中国证监会颁布的《上市公司行业分类指引(2012年修订)》,公司属于专用设备制造业;根据《国民经济行业分类》(GB/T 4754-2017),公司隶属于专用设备制造业下的半导体器件专用设备制造。根据《上海证券交易所科创板企业发行上市申报及推荐暂行规定》,公司属于“新一代信息技术领域”中的“半导体和集成电路”。

2. 半导体设备行业情况
半导体设备是整个半导体产业的重要支撑,半导体产业的快速发展不断推动着半导体设备市场规模的扩大。晶圆厂的主要投资会用于购买生产各类半导体产品所需的关键设备,如光刻设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备、质量控制设备、清洗设备、化学研磨CMP设备、离子注入设备等,这些半导体设备应用在半导体制造的核心工艺中,包括光刻、刻蚀、薄膜生长、质量控制、清洗、抛光、离子注入等。半导体设备处于半导体产业链上游的关键位置,先进的半导体设备对先进制程的推进有着至关重要的作用。半导体设备种类众多,涉及技术领域广,需要长期的研发投入以实现技术突破,其先进性直接影响下游客户的产品质量和生产效率,因此在规模化量产前需经过严格的测试以及客户验证,设备的验证壁垒高。同时,为了更好匹配下游客户的工艺提升,半导体设备的技术更新和产品迭代速度需与之保持同步甚至超前。

全球半导体设备市场目前处于寡头垄断局面,市场上美日技术领先,以应用材料、阿斯麦、拉姆研究、东京电子、科磊半导体等为代表的国际知名半导体设备企业占据了全球市场的主要份额。中国半导体设备行业整体国产化率的提升还处于起步阶段,目前国内半导体生产厂商所使用的半导体设备仍主要依赖进口。

3. 公司所在的质量控制设备行业发展情况
①半导体质量控制设备的概况
半导体设备分类由半导体制造工艺衍生而来,从工艺角度看,主要可以分为:光刻、刻蚀、薄膜生长、质量控制、清洗、抛光、离子注入等环节。

应用于前道制程和先进封装的质量控制根据工艺可细分为检测(Inspection)和量测(Metrology)两大环节。检测指在晶圆表面上或电路结构中,检测其是否出现异质情况,如颗粒污染、表面划伤、开短路等对芯片工艺性能具有不良影响的特征性结构缺陷;量测指对被观测的晶圆电路上的结构尺寸和材料特性做出的量化描述,如薄膜厚度、关键尺寸、刻蚀深度、表面形貌等物理性参数的量测。

根据检测类型的不同,半导体质量控制设备可分为检测设备和量测设备。随着技术的进步发展,集成电路前道制程的步骤越来越多,工艺也更加复杂。28nm工艺节点的工艺步骤有数百道工序,由于采用多层套刻技术,14nm及以下节点工艺步骤增加至近千道工序。根据 YOLE的统计,工艺节点每缩减一代,工艺中产生的致命缺陷数量会增加 50%,因此每一道工序的良品率都要保持在非常高的水平才能保证最终的良品率。当工序超过 500道时,只有保证每一道工序的良品率都超过 99.99%,最终的良品率方可超过 95%;当单道工序的良品率下降至 99.98%时,最终的总良品率会下降至约 90%,因此,制造过程中对工艺窗口的挑战要求几乎“零缺陷”。检测和量测环节贯穿制造全过程,是保证芯片生产良品率非常关键的环节。随着制程越来越先进、工艺环节不断增加,行业发展对工艺控制水平提出了更高的要求,制造过程中检测设备与量测设备的需求量将倍增。

从技术原理上看,检测和量测包括光学检测技术、电子束检测技术和 X光量测技术等。目前,在所有半导体检测和量测设备中,应用光学检测技术的设备占多数,公司所研发、生产的检测和量测设备主要基于光学检测技术。光学检测技术基于光学原理,通过对光信号进行计算分析以获得检测结果,光学检测技术对晶圆的非接触检测模式使其具有对晶圆本身的破坏性极小的优势;通过对晶圆进行批量、快速的检测,能够满足晶圆制造商对吞吐能力的要求。在生产过程中,晶圆表面杂质颗粒、图案缺陷等问题的检测和晶圆薄膜厚度、关键尺寸、套刻精度、表面形貌的测量均需用到光学检测技术。

②全球半导体检测和量测设备市场格局
全球半导体检测和量测设备市场规模高速增长,根据 VLSI Research、QY Research的统计,以 2020年为例,半导体检测和量测设备市场各类设备占比如下表所示,其中,检测设备占比为62.6%,包括无图形晶圆缺陷检测设备、图形晶圆缺陷检测设备、掩膜检测设备等;量测设备占比为 33.5%,包括三维形貌量测设备、薄膜膜厚量测设备(晶圆介质薄膜量测设备)、套刻精度量测设备、关键尺寸量测设备、掩膜量测设备等,具体情况如下:

序号设备类型占全球总销售额比例
1纳米图形晶圆缺陷检测设备24.7%
2掩膜版缺陷检测设备11.3%
3关键尺寸量测设备10.2%
4无图形晶圆缺陷检测设备9.7%
5电子束关键尺寸量测设备8.1%
6套刻精度量测设备7.3%
7图形晶圆缺陷检测设备6.3%
8电子束缺陷检测设备5.7%
9电子束缺陷复查设备4.9%
10晶圆介质薄膜量测设备3.0%
序号设备类型占全球总销售额比例
11X光量测设备2.2%
12掩膜版关键尺寸量测设备1.3%
13三维形貌量测设备0.9%
14晶圆金属薄膜量测设备0.5%
15其他3.9%
合计100.0% 
数据来源:VLSI Research、QY Research
截止 2023年 6月末,公司已批量出货产品线涵盖了无图形晶圆缺陷检测设备、图形晶圆缺陷检测设备、三维形貌量测设备、晶圆介质薄膜量测设备、晶圆金属薄膜量测设备和套刻精度量测设备等系列产品,同时,公司正在积极研发纳米图形晶圆缺陷检测设备、关键尺寸量测设备等其他系列设备,相关产品研发成功之后将进一步提高公司产品线覆盖的广度。

③中国半导体检测与量测设备市场格局
近五年,中国大陆半导体检测与量测设备的市场处于高速发展期。中国大陆市场成为全球最大的半导体检测与量测设备市场,但相关设备的国产化率较低,市场主要由几家垄断全球市场的国外企业占据主导地位,其中科磊半导体在中国市场的占比仍然最高,领先于所有国内外检测和量测设备公司。

目前,国内半导体市场处于高速增长期,本土企业存在较大的国产化空间,但由于国外知名企业规模大,产品线覆盖广度高,品牌认可度高,导致本土企业的推广难度较大。近年来国内企业在检测与量测领域突破较多,受益于国内半导体产业链的迅速发展,该领域国产化率有望在未来几年加速提升。

(二)主营业务情况
1. 公司主营业务概述
公司是一家国内领先的高端半导体质量控制设备公司,自成立以来始终专注于检测和量测两大类集成电路专用设备的研发、生产和销售,产品主要包括无图形晶圆缺陷检测设备系列、图形晶圆缺陷检测设备系列、三维形貌量测设备系列、薄膜膜厚量测设备系列、套刻精度量测设备系列等产品,已应用于国内 28nm及以上制程的集成电路制造产线。

自成立以来,公司始终坚持自主研发和自主创新的原则,依托多年在光学检测技术、大数据检测算法和自动化控制软件等领域的深耕积累和自主创新,公司得以向集成电路前道制程、先进封装等企业以及相关设备、材料厂商提供关键质量控制设备。质量控制设备是芯片制造的核心设备之一,公司检测和量测设备能够对上述领域企业的生产过程进行全面质量控制和工艺检测,助推客户提升工艺技术,提高良品率,实现降本增效的目标。

2. 公司主要产品情况
之一,质量控制贯穿集成电路制造全过程,是保证芯片生产良品率非常关键的环节。集成电路前道检测主要以光学和电子束等非接触式手段,针对光刻、刻蚀、薄膜沉积、清洗、CMP等晶圆制造环节的质量控制的检测;中道检测面向先进封装环节,主要以光学等非接触式手段针对重布线结构、凸点与硅通孔等晶圆制造环节的质量控制。基于公司战略规划,公司专注于研发面向集成电路前道制程和先进封装的质量控制设备。公司的质量控制设备主要包括检测设备和量测设备两大类,具体情况如下:
(1)检测设备
公司检测设备的主要功能系检测晶圆表面或电路结构中是否出现异质情况,如颗粒污染、表面划伤、开短路等对芯片工艺性能具有不良影响的特征性结构缺陷,具体情况如下:
产品名称图示产品性能应用领域
无图形晶圆 缺陷检测设 备系列 主要应用于硅片的出厂品质管控、晶圆的 入厂质量控制、半导体制程工艺和设备的 污染监控。该系列的设备能够实现无图形 晶圆表面的缺陷计数,识别缺陷的类型和 空间分布。集成电路 前道制程
图形晶圆缺 陷检测设备 系列 主要应用于晶圆表面亚微米量级的二维、 三维图形缺陷检测,能够实现在图形电路 上的全类型缺陷检测。拥有多模式明/暗 照明系统、多种放大倍率镜头,适应不同 检测精度需求,能够实现高速自动对焦, 可适用于面型变化较大翘曲晶圆。集成电路 前道制程 和先进封 装

(2)量测设备
公司量测设备的主要功能系对被观测的晶圆电路上的结构尺寸和材料特性做出量化描述,如薄膜厚度、关键尺寸、刻蚀深度、表面形貌、套刻精度等物理性参数的量测。在精密加工领域,量测设备主要功能是精密结构件的三维尺寸量测,具体情况如下:

产品名称图示产品性能应用领域
三维形貌 量测设备 系列 主要应用于晶圆上的纳米级三维形貌测 量、双/多层薄膜厚度测量、关键尺寸和偏 移量测量,配合图形晶圆智能化特征识别 和流程控制、晶圆传片和数据通讯等自动 化平台。集成电路 前道制程 和先进封 装
薄膜膜厚 量测设备 系列 主要应用于晶圆上纳米级的单/多层膜、金 属膜的膜厚测量,采用椭圆偏振技术和光 谱反射技术实现高精度薄膜膜厚、n-k值的 快速测量。集成电路 前道制程
产品名称图示产品性能应用领域
套刻精度 量测设备 主要应用于电路制作中不同层之间图案对 图案对齐的误差测量,并将数据反馈给光 刻机,帮助光刻机优化不同层之间的光刻 图案对齐误差,从而避免工艺中可能出现 的问题。集成电路 前道
3D曲面玻 璃量测设 备系列 主要应用于 3D曲面玻璃等构件的轮廓、弧 高、厚度、尺寸测量,采用光谱共焦技术, 实现高精度、高速度的非接触式测量。搭载 可配置的全自动测量软件工具和完整的测 试及结果分析界面。精密加工
自成立至今,公司始终坚持自主研发和自主创新原则,持续提升技术创新与产品创新能力,未来将继续深耕集成电路领域,以行业前沿技术与市场需求为导向,不断丰富产品种类及拓宽产品市场覆盖广度和深度。随着公司业务不断扩大,公司产品种类将不断增加。

3. 主要经营模式
(1)盈利模式
公司主营业务为高端半导体质量控制设备的研发、生产和销售,通过向集成电路前道制程、先进封装等企业提供关键质量控制设备实现收入和利润。报告期内,公司主营业务收入来源于检测和量测设备的销售。

(2)研发模式
公司始终坚持自主研发、自主创新的研发模式,已逐步构建起了一套集研发、生产、销售于一体的创新机制。公司研发以设备研发和相关研发测试平台为载体,协同推进公司高端半导体质量控制设备的研发及产业化进程。

1)设备研发项目
公司设备研发项目流程可以大致分为四个阶段,概念与可行性阶段、Alpha阶段、Beta阶段和量产阶段。

2)研发测试平台项目
研发测试平台是指除设备研发项目外开展的其他研发活动,主要包括前瞻性技术研发、设备优化研发及关键模块研发等。

(3)采购模式
公司主要根据生产计划、物料清单和零部件的库存情况确定零部件的采购计划,并按照采购计划进行采购。

公司的采购流程如下:①设备生产阶段所需物料由制造中心根据生产需求制定物料清单,提交至物控部审核;②物控部结合物料清单以及零部件的库存确定物料采购清单,并提交至采购部执行,采购部负责与供应商接洽、确定采购合同细节;③原材料交付后,针对不同类型的原材料,由品质部门负责原材料的质量检测;④入库完成采购。

(4)生产模式
报告期内,公司主要根据销售订单及销售预测进行生产。

公司市场部负责市场研判并接收客户需求,市场部根据客户需求内部立项后,由总经理审批,审批通过后由物控部安排采购计划并由采购部执行采购。制造中心根据物料到达时间、订单交付时间等制定生产计划和安排生产。制造中心对装配调试后的成品进行检验,检验合格后成品入库。

报告期内,公司将少量辅助性的设备配件组装、加工或清洗业务通过外协加工完成。

(5)销售模式
公司主要产品为检测和量测设备,公司产品和服务主要以直销模式进行,即由公司直接将产品销售给客户。公司市场部负责市场开发、产品的销售,同时,由客户服务部负责公司产品客户支持工作。

报告期内,公司获取订单的方式主要包括与潜在客户商务谈判、招投标和委托代理商推广。


二、 核心技术与研发进展
1. 核心技术及其先进性以及报告期内的变化情况
公司是专业从事高端半导体质量控制设备研发、生产和销售的高新技术企业,在业内处于国内领先地位,与国外垄断厂商形成了直接竞争格局。凭借优秀的技术研发团队、较强的技术创新能力以及多年在半导体检测和量测领域的开发经验,公司在光学检测技术上形成了深厚的积累,积累了包括中芯国际、长江存储、士兰集科、长电科技华天科技通富微电等集成电路前道制程及先进封装知名客户。

公司的核心技术主要体现在半导体质量控制设备的方案设计开发和调试环节,最终实现整机的性能指标。报告期内,公司核心技术涉及光学检测技术、大数据检测算法及自动化控制软件等。

其中,光学检测技术主要用以收集与晶圆表面缺陷种类、尺寸、位置或电路结构中的物理尺度相关的光学信号,大数据检测算法主要用以解析上述光学信号并得出结果,自动化控制软件主要用以控制零部件和整机设备的运行。公司核心技术在方案设计开发和调试环节的具体表现为: 整机的技术方案是围绕公司的核心技术来定义的,方案设计开发主要包括仿真建模和分析、原理验证平台实验、功能模块设计等三个环节。具体而言,仿真建模和分析为基于核心技术建立整机系统的仿真模型,通过仿真分析不同的整机系统参数配置对性能指标的影响,确认满足性能指标的整机系统参数配置;原理验证平台实验为基于核心技术和仿真建模分析所确认的系统参数配置来搭建原理验证平台,进行数据采集与实验分析,并对仿真模型的参数配置进行优化,保证整机系统方案具有合理性与可实现性;功能模块设计为依据核心技术和整机系统的参数配置来设计各个功能模块的具体参数,保证实现功能模块的性能指标,从而实现整机系统的性能指标。

调试环节主要是依据整机系统的参数配置和各个功能模块的具体参数来精密调节各个零部件,以确保生产装配后各功能模块和整机系统能达到方案设计的预期功能和指标。

公司主要核心技术来源于自主研发,相关技术在产品应用过程中不断升级和积累。公司核心技术权属清晰,不存在技术侵权纠纷或潜在纠纷。报告期内公司核心技术未发生重大变化。


国家科学技术奖项获奖情况
□适用 √不适用
国家级专精特新“小巨人”企业、制造业“单项冠军”认定情况
√适用 □不适用

认定主体认定称号认定年度产品名称
深圳中科飞测科技股份有限 公司国家级专精特新“小巨人”企业2022不适用

2. 报告期内获得的研发成果
公司始终专注于半导体质量控制设备的研发,拥有多项自主知识产权和核心技术。

报告期内获得的知识产权列表

 本期新增 累计数量 
 申请数(个)获得数(个)申请数(个)获得数(个)
发明专利411847485
实用新型专利5546363300
外观设计专利0263
软件著作权331313
其他0000
合计9969856401

3. 研发投入情况表
单位:元

 本期数上年同期数变化幅度(%)
费用化研发投入96,695,463.4387,397,865.0410.64
资本化研发投入   
研发投入合计96,695,463.4387,397,865.0410.64
研发投入总额占营业收入 比例(%)26.4672.28减少 45.82个百分 点
研发投入资本化的比重(%)   

研发投入总额较上年发生重大变化的原因
□适用 √不适用

研发投入资本化的比重大幅变动的原因及其合理性说明
□适用 √不适用

4. 在研项目情况
√适用 □不适用
单位:万元

序号项目名称预计总投资 规模本期投入金额累计投入金 额进展或阶 段性成果拟达到目标技术水平具体应用前景
1纳米图形晶圆缺 陷激光检测设备6,130.001,277.123,025.53设计阶段研发采用激光光源照明结合高 精度成像系统,实现集成电路 图层结构中快速缺陷检测和定 位的缺陷检测设备国内领先集成电路前道
2图形晶圆缺陷宽 光谱检测设备2,950.001,136.171,789.00设计阶段研发采用宽光谱光源照明结合 高精度成像系统,实现集成电 路图层结构中快速缺陷检测和 定位的缺陷检测设备国内领先集成电路前道
3无图形晶圆缺陷 检测研发平台5,290.001,067.024,557.03产业化验 证开发能够全面覆盖半导体先进 工艺中的各种无图形晶圆缺陷 的检测设备,实现实时识别晶 圆表面缺陷、判别缺陷的种 类,并报告缺陷的位置国内领先集成电路前道
4纳米图形晶圆缺 陷深紫外宽光谱 检测设备4,160.001,033.951,500.77设计阶段研发采用深紫外宽光谱光源的 检测设备,实现对集成电路有 图形晶圆上的纳米尺度缺陷进 行检测和识别国内领先集成电路前道
5晶圆介质薄膜量 测研发平台3,600.00755.402,763.50产业化验 证研发具备光谱反射高速测量和 光谱椭偏高精度测量两种模块 集合于一体的晶圆介质薄膜量 测设备,满足半导体工艺中对 晶圆表面复杂膜厚、折射率、 消光系数等物理性质的量测需 求国内领先集成电路前道
6套刻精度量测研 发平台3,550.00645.622,746.79产业化验 证研发光学精密套刻测量关键技 术和设备,实现纳米尺度层间 套刻对准误差的准确测量国内领先集成电路前道
7晶圆三维形貌量 测研发平台3,550.00616.993,084.33产业化验 证研发采用光学干涉测试技术实 现纳米级、高速高吞吐量的晶 圆三维形貌量测设备国内领先集成电路前道、 先进封装
8图形晶圆缺陷检 测研发平台2,400.00381.041,950.93产业化验 证研发应用于检测图形晶圆及晶 圆封装中的亚微米量级缺陷的 检测设备,实现在图形电路上 的全类型缺陷检测国内领先集成电路前道、 先进封装
合计/31,630.006,913.3121,417.88////


5. 研发人员情况
单位:万元 币种:人民币

基本情况  
 本期数上年同期数
公司研发人员的数量(人)334298
研发人员数量占公司总人数的比例(%)43.0444.08
研发人员薪酬合计7,877.425,337.71
研发人员平均薪酬23.9420.49
注:平均薪酬根据薪酬总额/平均人数计算,平均人数=(期初人数+期末人数)/2。



教育程度  
学历构成数量(人)比例(%)
博士研究生319.28
硕士研究生12938.62
本科17151.20
专科30.90
合计334100.00
年龄结构  
年龄区间数量(人)比例(%)
30岁以下(含 30岁)9127.25
31-40岁22366.76
41-50岁205.99
合计334100.00

6. 其他说明
□适用 √不适用

三、 报告期内核心竞争力分析
(一) 核心竞争力分析
√适用 □不适用
公司始终坚持自主创新,持续地为半导体行业和客户提供具有竞争力的质量控制设备。公司积累了深厚的研发创新能力,并在研发团队、客户资源、产品布局和售后服务等方面形成竞争优势,具体体现为:
1.技术积累与研发创新能力
在高端半导体质量控制设备的研发和生产过程中,公司始终坚持创新及差异化发展战略。在检测和量测设备的研发中,公司攻克了多项设备关键模块自主化开发难题,技术创新能力得到显著提升。目前,公司已形成深紫外成像扫描技术、高精度多模式干涉量测技术、基于参考区域对比的缺陷识别算法技术等 9项核心技术,上述核心技术成功应用于公司各系列产品,为公司创造了良好的经济效益。截至报告期末,公司拥有专利 388项,承担了国家级、省级、市级重点专项研发任务,具备可持续的研发创新能力,在行业竞争中拥有较强的技术优势。

2.资深和优秀的研发团队
公司坚持自主研发,是国内半导体质量控制设备领域的领军企业。自成立以来,公司培养和吸引了一大批经验丰富的光学、算法、软件、机电自动化等方面的专家,构成公司研发的中坚力量。截至 2023年 6月 30日,公司研发团队 334人,构筑起了跨专业、多层次的人才梯队。

2017年,公司通过国家高新技术企业认定。自成立至今,凭借较强的研发实力,公司牵头承担了多个国家级、省级、市级重点专项研发任务,参与了《智能制造机器视觉在线检测系统通用要求》(GB/T 40659-2021)国家标准的起草制定,不断助力国内集成电路产业领域关键产品和技术的攻关与突破,进一步巩固并提升了公司的竞争优势。

3.优质稳定的客户资源
检测和量测是保证良品率和成本管理的重要环节,检测和量测技术的稳定性与先进性至关重要,新设备往往需要经过下游客户较长时间的技术验证。公司成立以来一直专注于高端半导体质量控制设备的研发、生产和销售,在集成电路领域,公司设备陆续进入中芯国际、长江存储、士兰集科、长电科技华天科技通富微电等集成电路前道制程及先进封装知名客户,在精密加工领域,亦进入了蓝思科技等知名厂商。

4.丰富的产品布局
作为国内半导体质量控制设备领域的先行者,公司已有多系列设备实现量产出货,包括但不限于应用于集成电路前道制程和先进封装领域的生产制造企业及相关设备、材料厂商的无图形晶圆缺陷检测设备系列、图形晶圆缺陷检测设备系列、三维形貌量测设备系列、薄膜膜厚量测设备系列等设备。

5.本地化供应与售后服务
相比国际知名厂商,公司设计研发、生产、销售及售后技术团队均位于国内,公司生产基地位于深圳,具备规模化生产的净化间及配套生产人员,能够更迅速地响应下游客户需求,缩短销售、发货、验收的周期。成立以来,公司与中芯国际、长江存储、士兰集科、长电科技华天科技通富微电等客户建立了良好的合作关系。公司为大客户建立了专属的服务团队以提供及时的驻厂技术服务支持,经验丰富的售后团队能够保证快速响应客户的需求,及时到达现场排查故障、解决问题,提供及时周到的驻厂支持服务,缩短新产品导入的工艺磨合时间。


(二) 报告期内发生的导致公司核心竞争力受到严重影响的事件、影响分析及应对措施 □适用 √不适用

四、 经营情况的讨论与分析
报告期内,依托于公司核心技术的不断突破和产品种类的日趋丰富,并受益于半导体产业的快速发展和公司市场认可度的稳步提升等因素积极影响,公司客户群体和客户订单持续增长,有力推动了公司经营业绩快速增长。

公司一直专注于集成电路检测和量测两大领域,通过在光学检测技术、大数据检测算法和自动化软件等领域的自主研发和不断创新,公司在多项应用于半导体质量控制设备的关键核心技术上达到国内领先水平,并积累了集成电路前道制程及先进封装知名客户群,获得市场认可和产品口碑。

1. 主要经营情况
2023年 1-6月,公司实现营业收入 36,547.69万元,同比增长 202.25%。报告期内,公司收入规模的快速增长主要得益于公司产品类型日趋丰富、市场认可度不断提升、客户群体覆盖不断扩大和公司产品销量同比大幅增加。公司营业规模持续增长产生的规模效应进一步带动公司盈利状况提升,2023年 1-6月,公司实现归属于上市公司股东的净利润 4,593.91万元,归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润 235.34万元,较上年同期实现扭亏为盈,盈利能力有所增强。

报告期内,公司日趋丰富的产品类型以及客户群体和客户订单持续增长,有力支撑和推动了公司整体经营业绩的平稳快速增长,有效平抑了客户集中度较高及收入季节性波动所带来的风险,提升了公司经营业绩和整体抗风险能力。

2. 公司产品产业化进展及研发情况
(1) 无图形晶圆缺陷检测设备
报告期内,公司无图形晶圆缺陷检测设备持续保持竞争优势,量产设备型号已覆盖 2Xnm及以上的集成电路工艺节点客户需求,公司设备灵敏度和吞吐量可以满足不同客户需求,已广泛应用在国内知名晶圆制造厂商的产线上,客户订单量稳步增长,市占率不断提升。

对应 1Xnm工艺节点检测需求的型号设备研发进展顺利。

(2) 图形晶圆缺陷检测设备
报告期内,公司图形晶圆缺陷检测设备持续拓展应用领域,产品广泛应用在国内各类集成电路客户产线,包括逻辑芯片、存储芯片、先进封装等制造领域,公司设备与国际竞品整体性能相当,已在国内知名客户的产线上与国际竞品实现无差别使用。客户订单稳步增长,市占率不断提升。(未完)
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