[年报]富创精密(688409):2023年年度报告(修订版)

时间:2024年06月21日 21:15:57 中财网

原标题:富创精密:2023年年度报告(修订版)

公司代码:688409 公司简称:富创精密







沈阳富创精密设备股份有限公司
2023年年度报告









重要提示
一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证年度报告内容的真实性、准确性、完整性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。


二、 公司上市时未盈利且尚未实现盈利
□是 √否

三、 重大风险提示
报告期内,不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在报告中详细描述可能存在的相关风险,敬请查阅第三节管理层讨论与分析“四、风险因素”部分内容。


四、 公司全体董事出席董事会会议。


五、 立信会计师事务所(特殊普通合伙)为本公司出具了标准无保留意见的审计报告。


六、 公司负责人郑广文、主管会计工作负责人杨爽及会计机构负责人(会计主管人员)栾玉峰声明:保证年度报告中财务报告的真实、准确、完整。


七、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 公司拟以权益分派股权登记日登记的总股本扣除公司回购专用账户中的股份数量为基数分配利润,本次利润分配预案如下:
公司拟向全体股东每10股派发现金红利人民币5.00元(含税),并拟以资本公积向全体股东每10股转增4.8股。截至公告日,公司总股本为209,053,334股,扣减回购专用账户的股数2,856,124股,以此计算合计拟派发现金红利103,098,605元(含税),拟合计转增98,974,660股,转增后公司的总股本增加至308,027,994股(最终转增股数及总股本数以中国证券登记结算有限公司上海分公司最终登记结果为准)。

上述利润分配预案已经公司第二届董事会第五次会议、第二届监事会第五次会议审议通过,本次利润分配方案尚需经公司2023年年度股东大会审议通过后实施。


八、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用

九、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告所涉及的公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺, 请投资者注意投资风险。


十、 是否存在被控股股东及其他关联方非经营性占用资金情况


十一、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况


十二、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露年度报告的真实性、准确性和完整性 否

十三、 其他
□适用 √不适用



目录
第一节 释义 ..................................................................................................................................... 5
第二节 公司简介和主要财务指标 ................................................................................................. 9
第三节 管理层讨论与分析 ........................................................................................................... 14
第四节 公司治理 ........................................................................................................................... 45
第五节 环境、社会责任和其他公司治理 ................................................................................... 64
第六节 重要事项 ........................................................................................................................... 74
第七节 股份变动及股东情况 ..................................................................................................... 116
第八节 优先股相关情况 ............................................................................................................. 129
第九节 债券相关情况 ................................................................................................................. 129
第十节 财务报告 ......................................................................................................................... 129



备查文件目录载有公司负责人、主管会计工作负责人、会计机构负责人(会计主管 人员)签名并盖章的财务报表
 载有会计师事务所盖章、注册会计师签名并盖章的审计报告原件
 报告期内公开披露过的所有公司文件的正本及公告的原稿



第一节 释义
一、 释义
在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:

常用词语释义  
公司、本公司、富创精密沈阳富创精密设备股份有限公司
富创有限沈阳富创精密设备有限公司,为公司前身
沈阳先进沈阳先进制造技术产业有限公司,曾用名“沈阳先 进制造技术产业发展有限责任公司”,为公司第一 大股东
辽宁科发辽宁科发实业有限公司,曾用名“辽宁科发实业公 司”,为公司股东
宁波祥浦现用名“泰州祥浦创业投资基金合伙企业(有限合 伙)”;曾用名“宁波祥浦股权投资基金合伙企业 (有限合伙)”、“宁波祥浦创业投资合伙企业(有 限合伙)”,为公司股东
上海国投国投(上海)科技成果转化创业投资基金企业(有 限合伙),为公司股东
宁波芯富宁波芯富投资管理合伙企业(有限合伙),为公司 股东,公司员工持股平台之一
宁波芯芯宁波芯芯投资管理合伙企业(有限合伙),为公司 股东,公司员工持股平台之一
宁波良芯宁波良芯投资管理合伙企业(有限合伙),为公司 股东,公司员工持股平台之一
辽宁中德辽宁中德产业股权投资基金合伙企业(有限合伙), 为公司股东
宿迁浑璞现用名“盐城浑璞六期创业投资合伙企业(有限合 伙)”,曾用名“宿迁浑璞六期集成电路产业基金 (有限合伙)”,为公司股东
盐城燕舞盐城经济技术开发区燕舞半导体产业基金(有限合 伙),为公司股东
中证投资中信证券投资有限公司,为公司股东
长峡金石长峡金石(武汉)股权投资基金合伙企业(有限合 伙),曾用名“三峡金石(武汉)股权投资基金合 伙企业(有限合伙)”,为公司股东
交控金石安徽交控金石并购基金合伙企业(有限合伙),为 公司股东
沈阳景秀源沈阳景秀源环保科技创业投资基金(有限合伙)
中科芯璞青岛中科芯璞科技创新投资中心(有限合伙),为 公司股东
青岛浑璞青岛浑璞高精尖投资中心(有限合伙),为公司股 东
尚融创新尚融创新(宁波)股权投资中心(有限合伙)
芯源微沈阳芯源微电子设备股份有限公司,上交所科创板 上市公司,证券代码688037.SH,国内半导体领域涂 胶显影设备龙头企业之一,为公司客户,同时为公 司关联方
北京富创北京富创精密半导体有限公司,为公司控股子公司
南通富创南通富创精密制造有限公司,为公司全资子公司
沈阳融创沈阳融创精密制造有限公司,为公司全资子公司
沈阳强航沈阳强航时代精密科技有限公司,为公司控股子公 司
瑞特热表沈阳瑞特热表动力科技有限公司,为公司控股子公 司
东京电子Tokyo Electron Limited,注册在日本,东京证券 交易所上市公司,证券代码8035.T,全球半导体设 备龙头企业之一,为公司客户
ASMIAdvanced Semiconductor Material International,注册在荷兰,欧洲交易所上市公 司,证券代码ASM,全球半导体设备龙头企业之 一,为公司客户
HITACHI High-TechHITACHI High-Technologies Corporation,注册在 日本,全球半导体设备龙头企业之一,为公司客户
北方华创北方华创科技集团股份有限公司,深圳证券交易所 上市公司,证券代码002371.SZ,国内半导体设备龙 头企业之一,为公司客户
中微公司中微半导体设备(上海)股份有限公司,上交所科 创板上市公司,证券代码688012.SH,国内半导体设 备龙头企业之一,为公司客户
拓荆科技拓荆科技股份有限公司,曾用名“沈阳拓荆科技有 限公司”,上交所科创板上市公司,证券代码: 688072.SH,国内半导体领域薄膜沉积设备龙头企业 之一,为公司客户,同时为公司关联方
华卓精科北京华卓精科科技股份有限公司,为公司关联方
揭榜挂帅被称为科技悬赏制,是一种以科研成果来兑现的科 研经费投入体制,由政府组织面向全社会开放征集 科技创新成果的一种非周期性科研资助安排
《公司法》《中华人民共和国公司法》
《证券法》《中华人民共和国证券法》
《科创板上市规则》《上海证券交易所科创板股票上市规则》
《公司章程》《沈阳富创精密设备股份有限公司章程》
《股东大会议事规则》《沈阳富创精密设备股份有限公司股东大会议事规 则》
《董事会议事规则》《沈阳富创精密设备股份有限公司董事会议事规 则》
《薪酬与考核委员会工作细 则》《沈阳富创精密设备股份有限公司薪酬与考核委员 会工作细则》
《关联交易管理制度》《沈阳富创精密设备股份有限公司关联交易管理制 度》
《信息披露管理办法》《沈阳富创精密设备股份有限公司信息披露管理办 法》
《投资者关系管理办法》《沈阳富创精密设备股份有限公司投资者关系管理 办法》
保荐机构中信证券股份有限公司
中国证监会中国证券监督管理委员会
上交所上海证券交易所
元、万元、亿元除特别注明的币种外,指人民币元、人民币万元、
  人民币亿元
报告期、报告期内、本年、本期2023年1月1日至2023年12月31日
本报告期末、报告期末2023年12月31日
半导体常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,半 导体器件根据世界半导体贸易统计组织(WSTS)定 义可分为集成电路(IC)、分立器件、光电子和传 感器,广泛应用于下游通信、计算机、消费电子、 网络技术、汽车及航空航天等产业
晶圆在氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、 清洗与抛光、金属化等特定工艺加工过程中的硅片
芯片集成电路载体,是集成电路经设计、制造、封装、 测试后的结果
摩尔定律戈登·摩尔提出摩尔定律:集成电路上所集成的晶 体管数量,每隔18-24个月就提升一倍,相应的性 能增强一倍
半导体设备用于制造半导体器件(主要为集成电路(IC)产品) 的工艺设备
泛半导体设备国内通常将集成电路、发光二极管(LED)、显示面 板和光伏统称为泛半导体行业,前述范围中显示面 板、光伏在世界半导体贸易统计组织(WSTS)定义 的半导体器件范围外,本招股说明书中将制造显示 面板和光伏产品中涉及半导体工艺的高端设备定义 为泛半导体设备
刻蚀设备半导体设备的一种。设备用于刻蚀环节,即用化学 或物理方法有选择地在晶圆表面去除不需要的材料 的过程,是与光刻相联系的图形化处理的一种主要 工艺,是半导体制造工艺的关键步骤。刻蚀设备可 分为硅刻蚀设备、介质刻蚀设备、金属刻蚀设备等
薄膜沉积设备半导体设备的一种。设备用于薄膜沉积环节,即半 导体制造中任何在硅片衬底上沉积一层膜的工艺, 这层膜可以是导体、绝缘物质或者半导体材料。薄 膜沉积设备主要包括PVD(物理气相沉积)、CVD(化 学气相沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积) 和ALD(原子层沉积)设备等
离子注入设备半导体设备的一种。设备用于离子注入环节,即将 特定离子在电场里加速并嵌入到晶圆表面的工艺。 离子注入设备主要包括大束流、中束流和高能离子 设备等
化学机械抛光设备半导体设备的一种,也称CMP设备,用于化学抛光 环节,即对加工中晶圆或其它衬底材料进行平坦化 处理的工艺
机械制造通过机械设备(一般为数控机床)精确地去除材料, 以获得一定形状和尺寸产品的制造方法
工装制造过程中所用的各种工具的总称。包括刀具、夹 具、模具、量具等
刀具机械制造中用于切削加工的工具,又称切削工具
零点定位系统是一个独特的定位和锁紧装置,能保持机械制造工 件从一个工位到另一个工位,一个工序到另一个工 序或一台机床到另一台机床,零点始终保持不变。 这样可以节省重新找正零点的辅助时间,保证工作
  的连续性,提高工作效率
表面处理利用现代物理、化学、金属学和热处理等学科的边 缘性新技术来改变物体表面的状况和性质,使之与 新材料做优化组合,以达到预定性能要求的工艺方 法
化学清洗利用化学方法及化学药剂去除零部件表面对晶圆加 工有害的有机及无机污染物,如油脂、硅、铜、铁 等
镀镍镀镍是通过电解或化学方法在金属或某些非金属上 镀上一层镍的工艺方法
阳极氧化铝及其合金在硫酸电解液的工艺条件下,在外加电 流的作用下,在铝制品(阳极)上形成一层氧化膜 的过程。硬质阳极膜层为陶瓷膜层,不导电且具有 较强耐腐蚀性
等离子喷涂等离子喷涂采用由直流电驱动的等离子电弧作为热 源,将陶瓷、合金、金属等材料加热到熔融或半熔 融状态,并以高速喷向经过预处理的工件表面而形 成附着牢固的表面层的方法。喷涂膜层具有耐磨、 耐蚀、耐高温氧化等性能。目前已经成熟应用的膜 层为氧化钇膜层
电子束焊接通过在高真空环境把电子加速至光速的 60%以上轰 击零件表面,产生热量以达到熔化母材进而实现焊 接效果,其特点为热影响区小,可实现在紧凑区域 的高精密焊接,且焊接质量高
激光焊接利用高能量密度的激光束作为热源的一种高效精密 焊接方法
LPC液态粒子检测Liquid Particle Counter,即液态粒子计数,测定 单位空间内含有的液态粒子数量,用于洁净度指标
ICP金属元素检测利用电感耦合等离子体质谱仪测试单位空间金属元 素密度的方法,用于洁净度指标
02重大专项《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006- 2020)》确定的16 个国家科技重大专项中的第 2 项,即“极大规模集成电路制造设备及成套工艺”
首件产品批量生产前,生产方按需方要求生产的供需方 确认的样件
Know-How非标工业自动化行业技术诀窍,是随着企业不断自 主研发设计、生产优化而总结积累的关于设计路线、 设备集成、操作要点、性能指标控制等方面的技术 经验
纳米-9 1纳米=10 米
微米-6 1微米=10 米
SEMISemiconductor Equipment and Materials Inter national,国际半导体设备材料产业协会
WSTSWorld Semiconductor Trade Statistics,世界半 导体贸易统计组织
华航铝业及其关联方深圳市华航铝业航材有限公司和沈阳众合华芯科技 有限公司,受同一实际控制人控制,均为发行人供 应商


第二节 公司简介和主要财务指标
一、公司基本情况

公司的中文名称沈阳富创精密设备股份有限公司
公司的中文简称富创精密
公司的外文名称Shenyang Fortune Precision Equipment Co.,Ltd.
公司的外文名称缩写Fortune Precision
公司的法定代表人郑广文
公司注册地址辽宁省沈阳市浑南区飞云路18甲-1号
公司注册地址的历史变更情况
公司办公地址辽宁省沈阳市浑南区飞云路18甲-1号
公司办公地址的邮政编码110168
公司网址http://www.fortune-semi.com
电子信箱[email protected]

二、联系人和联系方式

 董事会秘书(信息披露境内代表)证券事务代表
姓名梁倩倩梁倩倩
联系地址辽宁省沈阳市浑南区飞云路18甲-1号辽宁省沈阳市浑南区飞云路18 甲-1号
电话024-31692129024-31692129
传真024-31692129024-31692129
电子信箱[email protected][email protected]

三、信息披露及备置地点

公司披露年度报告的媒体名称及网址中国证券报(www.cs.com.cn)、上海证券报( www.cnstock.com)、证券日报(www.zqrb.cn)、证 券时报(www.stcn.com)
公司披露年度报告的证券交易所网址上海证券交易所网站(www.sse.com.cn)
公司年度报告备置地点公司证券部

四、公司股票/存托凭证简况
(一) 公司股票简况
√适用 □不适用

公司股票简况    
股票种类股票上市交易所 及板块股票简称股票代码变更前股票简称
人民币普通股(A 股)上海证券交易所 科创板富创精密688409/

(二) 公司存托凭证简况
□适用 √不适用

五、其他相关资料

公司聘请的会计师事务所(境内)名称立信会计师事务所(特殊普通合伙)
 办公地址上海市黄浦区南京东路61号四楼
 签字会计师姓名唐国骏、黄亮
报告期内履行持续督导职责的保 荐机构名称中信证券股份有限公司
 办公地址广东省深圳市福田区中心三路 8 号卓 越时代广场(二期)北座
 签字的保荐代表 人姓名张欢、张明慧
 持续督导的期间2022/10/10-2025/12/31

六、近三年主要会计数据和财务指标
(一) 主要会计数据
单位:万元 币种:人民币

主要会计数据2023年2022年 本期 比上 年同 期增 减(%)2021年 
  调整后 调整前    
     调整后调整前
营业收入206,575.59154,446.33154,446.3333.7584,312.8284,312.82
归属于上市公司 股东的净利润16,868.7924,545.5824,563.89- 31.2812,624.4212,649.18
归属于上市公司 股东的扣除非经 常性损益的净利 润8,639.0217,805.1717,823.48- 51.487,459.977,484.73
经营活动产生的 现金流量净额-38,638.18-2,232.42-2,232.42不适 用15,733.9615,733.96
 2023年末2022年末 本期 末比 上年 同期 末增 减(% )2021年末 
  调整后 调整前    
     调整后调整前
归属于上市公司 股东的净资产456,485.55464,448.33464,491.39-1.71104,785.31104,810.06
总资产758,986.39664,047.73664,047.7314.30248,658.82248,658.82

(二) 主要财务指标

主要财务指标2023年2022年 本期比上年 同期增减 (%)2021年 
  调整后 调整前    
     调整后调整前
基本每股收益(元/股)0.811.451.45-44.140.810.81
稀释每股收益(元/股)0.811.451.45-44.140.810.81
扣除非经常性损益后的 基本每股收益(元/股)0.411.051.05-60.950.480.48
加权平均净资产收益率3.6112.1912.19减少8.58个12.9012.90
(%)   百分点  
扣除非经常性损益后的 加权平均净资产收益率 (%)1.858.858.85减少7.00个 百分点7.647.64
研发投入占营业收入的 比例(%)9.977.897.89增加2.08个 百分点8.808.80

报告期末公司前三年主要会计数据和财务指标的说明
√适用 □不适用
1、受益于国内半导体市场需求增长,以及零部件国产化需求拉动,公司2023年营业收入同比增长33.75%,公司2023年主营业务收入中来自中国大陆地区收入为143,570.08万元,同比增长72.04%,来自中国大陆以外地区收入为60,177.18万元,同比下降13.25%。产品结构方面,工艺零部件产品收入45,655.21万元,同比增长11.95%;结构零部件产品收入49,094.78万元,同比下降 1.75%;模组产品收入 92,480.27 万元,同比增长 126.13%;气体管路类产品收入为16,517.00万元,同比下降22.00%。

2、公司2023年度实现归属于上市公司股东的净利润为16,868.79万元,同比下降31.28%,归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为 8,639.02 万元,同比下降 51.48%,主要原因为:
(1)公司产品结构发生变化,毛利相对较低的模组产品收入占比增加,占用机器设备较多的结构零部件类产品收入增长不及预期,公司提前投入的机器设备达产节奏与行业景气度错配,规模效应暂未体现;
(2)公司提前储备产能、人才、设备等资源,导致相应人工成本及折旧等费用增加,并对员工进行股权激励,导致管理成本增加;
(3)为满足国内半导体设备企业向先进制程升级迭代所需要的新技术需求及产品需求,公司加大研发投入,使得报告期内研发费用增加。

3、公司2023年经营活动产生的现金流量净额为-38,638.18万元,主要原因系: (1)模组类产品收入大幅增长,公司增加备货,提前采购“卡脖子”等关键物料,使得经营性对外支付的现金增加;
(2)公司来自于大陆地区的收入大幅增长,中国大陆地区客户回款周期慢于中国大陆以外地区客户,且中国大陆地区客户回款方式部分为票据,使得经营性现金流入不及预期。

(3)公司提前储备人才,使得人工成本增加。

4、公司2023年基本每股收益、稀释每股收益、扣除非经常性损益后的基本每股收益,分别下降44.14%、44.14%、60.95%,主要原因系归属于上市公司股东的净利润以及归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润下降所致。


七、境内外会计准则下会计数据差异
(一) 同时按照国际会计准则与按中国会计准则披露的财务报告中净利润和归属于上市公司股东的净资产差异情况
□适用 √不适用

(二) 同时按照境外会计准则与按中国会计准则披露的财务报告中净利润和归属于上市公司股东的净资产差异情况
□适用 √不适用

(三) 境内外会计准则差异的说明:
□适用 √不适用

八、2023年分季度主要财务数据
单位:万元 币种:人民币

 第一季度 (1-3月份)第二季度 (4-6月份)第三季度 (7-9月份)第四季度 (10-12月份)
营业收入34,139.5548,714.3556,149.4967,572.19
归属于上市公司股东的 净利润3,938.815,629.403,633.473,667.11
归属于上市公司股东的 扣除非经常性损益后的 净利润363.862,155.571,187.024,932.57
经营活动产生的现金流 量净额-9,708.15-20,530.72-16,437.978,038.67

季度数据与已披露定期报告数据差异说明
□适用 √不适用

九、非经常性损益项目和金额
√适用 □不适用
单位:万元 币种:人民币

非经常性损益项目2023年金 额附注(如适 用)2022年金 额2021年金 额
非流动性资产处置损益,包括已计 提资产减值准备的冲销部分-28.90 -604.03-39.03
计入当期损益的政府补助,但与公 司正常经营业务密切相关、符合国 家政策规定、按照确定的标准享 有、对公司损益产生持续影响的政 府补助除外2,243.92 7,103.675,617.76
除同公司正常经营业务相关的有效 套期保值业务外,非金融企业持有 金融资产和金融负债产生的公允价 值变动损益以及处置金融资产和金 融负债产生的损益7,764.66 611.50 
计入当期损益的对非金融企业收取 的资金占用费    
委托他人投资或管理资产的损益    
对外委托贷款取得的损益    
因不可抗力因素,如遭受自然灾害 而产生的各项资产损失    
单独进行减值测试的应收款项减值 准备转回    
企业取得子公司、联营企业及合营 企业的投资成本小于取得投资时应 享有被投资单位可辨认净资产公允 价值产生的收益    
同一控制下企业合并产生的子公司 期初至合并日的当期净损益    
非货币性资产交换损益    
债务重组损益    
企业因相关经营活动不再持续而发 生的一次性费用,如安置职工的支 出等    
因税收、会计等法律、法规的调整 对当期损益产生的一次性影响  589.78285.26
因取消、修改股权激励计划一次性 确认的股份支付费用    
对于现金结算的股份支付,在可行 权日之后,应付职工薪酬的公允价 值变动产生的损益    
采用公允价值模式进行后续计量的 投资性房地产公允价值变动产生的 损益    
交易价格显失公允的交易产生的收 益    
与公司正常经营业务无关的或有事 项产生的损益    
受托经营取得的托管费收入    
除上述各项之外的其他营业外收入 和支出-400.89 47.62-2.53
其他符合非经常性损益定义的损益 项目    
减:所得税影响额1,344.88 1,004.43697.03
少数股东权益影响额(税后)4.14 3.70 
合计8,229.77 6,740.415,164.44

对公司将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》未列举的项目认定为的非经常性损益项目且金额重大的,以及将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第 1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益的项目,应说明原因。

□适用 √不适用

十、采用公允价值计量的项目
√适用 □不适用

项目名称期初余额期末余额当期变动对当期利润的影响 金额
应收款项融资523.841,042.98519.14-
其他权益工具投资369.462,974.702,605.24-
交易性金融资产115,275.5850,111.64-65,163.943,713.57
其他非流动金融资产-13,579.3913,579.394,051.09
合计116,168.8867,708.71-48,460.177,764.66

十一、非企业会计准则业绩指标说明
□适用 √不适用

十二、因国家秘密、商业秘密等原因的信息暂缓、豁免情况说明
√适用 □不适用
公司主要客户具体名称、供应商的销售、采购情况及个别研发项目,属于公司商业秘密。公司已按照《科创板上市公司自律监管指引第1号——规范运作》有关规定及公司内控制度要求履行相应豁免披露程序。对于上述信息,公司将以代称等方式进行脱密处理后披露。


第三节 管理层讨论与分析
一、经营情况讨论与分析
2023 年,受全球经济影响,半导体行业处于下行周期。虽 2023 年下半年有复苏迹象,但终端产品销售状况仍处于调整状态。中国半导体行业虽受到外部宏观环境影响短期供需失衡,但国外出口的新政策也促进了国内半导体产业发展。

报告期内,公司逆流而上,以维护产业安全为使命,加强基础能力,致力于成为再全球化的引领者和推动者。公司通过持续开拓国内市场、加大研发力度、建设海外工厂、积极推动信息化建设并持续吸纳高端技术人才等措施增强公司实力,持续做强主业,更好地服务于中国半导体行业。

(一) 报告期内主要经营情况
受益于国内半导体市场需求增长,以及零部件国产化需求拉动,公司2023年营业收入仍保持增长,但由于公司产品结构发生变化、提前储备产能、加大研发投入并对员工进行股权激励等原因,导致公司 2023 年归属于上市公司股东的净利润及归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比下降。

截至本报告期末,公司资产总额758,986.39万元,归属于上市公司股东的净资产456,485.55万元。报告期内,公司实现营业收入206,575.59万元,较2022年同期增长33.75%;归属于上市公司股东的净利润16,868.79万元,较2022年同期降低31.28%。实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润8,639.02万元,同比降低51.48%。

(二) 报告期内重点工作开展情况
1、市场销售情况
(1)四大类产品总体销售情况
单位:万元

2023年 2022年  
金额占比金额占比金额
45,655.2122.41%40,781.7626.69%17,833.92
49,094.7824.10%49,968.5632.70%35,207.65
92,480.2745.39%40,896.4026.76%16,123.81
16,517.008.11%21,176.6113.86%13,783.57
203,747.26100.00%152,823.33100.00%82,948.95
注:上表数据为主营业务收入,数据尾差为四舍五入所致。

报告期内,公司模组产品规模快速增长,模组产品及气体管路合计占主营业务收入的比例从2022年的40.62%提升至2023年的53.50%。

(2)国内外市场占比情况
单位:万元

2023年 2022年  
金额占比金额占比金额
143,570.0870.46%83,453.4654.61%32,615.87
60,177.1829.54%69,369.8745.39%50,333.08
203,747.26100.00%152,823.33100.00%82,948.95
注:上表数据为主营业务收入,数据尾差为四舍五入所致。

受益于国内半导体市场需求增长,以及零部件国产化需求拉动,公司2023年营业收入同比增长33.75%,其中来自中国大陆地区收入为143,570.08万元,与2022年相比同比增长72.04%。此外,受地缘政治等因素影响,大陆地区以外收入占主营业务收入的比例为 29.54%,与 2022 年相比同比下降13.25%,针对于上述影响公司将通过布局海外等方式积极应对。

2、客户拓展情况
公司通过与国内外龙头客户合作,及时掌握市场动态和行业发展趋势,从而更好的理解客户需求,促进双方紧密合作。同时,得益于国内半导体设备市场的需求增长及公司技术水平的不断提高,公司已进入国内大部分头部半导体设备企业的供应商体系,持续扩大市场份额。

3、产品、技术研发情况
报告期内,公司坚持以行业发展和客户需求为导向,不断进行技术革新和产品质量提升,持续加大自主研发力度,产品竞争力不断增强,部分产品已达到国际先进水平。各项技术成果已应用到产品中,目前具备实现国产替代的技术实力,相关产品已通过客户A、北方华创、中微公司等国内外头部企业新品认证,开始批量供应。全年研发支出20,601.63万元,占营业收入比重达到9.97%,较2022年同期增长2.08个百分点。

报告期内,公司在表面处理特种工艺技术方面取得进一步突破。在喷涂技术方面,公司成功开发出Y-Al系列涂层及含氟涂层,其中Y-Al系列涂层工艺已通过客户端验证,含氟涂层进入客户端验证阶段,上述技术已达到国内领先水平;同时,公司成功开发出应用于ALD及CVD机台的Al?O?及 Y?O?纳米膜层工艺,该工艺已达到国内领先水平。部分应用上述技术的产品已在报告期内实现量产。

报告期内,公司模组制造技术进一步提升,硬件气柜自动化产线研发成功并已投入使用,在保证产品质量一致性的同时提升制造效率。有赖于公司在报告期内加大研发力度,2022年部分处于研发阶段的先进制程产品已在报告期内实现量产。

公司将持续进行新产品的研发,进一步实现半导体设备行业上游零部件的国产替代,保障供应链安全。

4、生产基地建设
基于半导体设备零部件国产化需求,公司积极推动建设南通、北京工厂,同时为有效应对国际形势变化,拓展国际业务,快速响应客户需求,公司在新加坡、美国设立全资子公司,进一步完善全球化布局。

公司设立境外全资子公司是基于战略发展规划的考虑,符合国家政策,有利于进一步扩大公司国际业务规模,有效提升国际市场占有率及公司整体抗风险能力。

5、信息化建设情况
公司坚定数字化、智能化发展方向,以精益生产作为企业生产提质增效的关键抓手。报告期内,基于公司在集成电路装备零部件精密制造领域、离散型制造领域积累的技术基础及能力,形构建智能工艺专家系统。公司通过知识库的搭建,把标准化的知识以专家系统在工艺设计中复用,有效降低人员重复性工作。在此基础上,利用 AI、大数据和数字孪生技术,开发 AI 图纸识别、需求参数提取、智能运算引擎、工作包输出等功能,建立将工艺方案转化成数字孪生数据的智能化系统,实现不依赖人工可以用于自动生产制造、经营管理等方面的孪生数据,实现工艺方案、检测方案的一键生成及输出,形成数据驱动、敏捷高效的精益管理模式。

6、人才建设
公司积极建立员工培训制度、完善薪酬考核体系,建立明晰的职级体系,设置管理、技术双通道发展路径,为专家、工匠提供专属津贴。同时,对在研项目筹备及管理运行中做出突出贡献的员工给予跨级晋升的绿色通道。

公司在对内完善人才培养计划的同时,积极同高校达成深入合作,通过教育基金捐赠为国家教育学术事业提供支持,为培养人才和推动科技创新贡献力量。

7、内部治理
公司努力构建透明的企业治理体系,遵循《公司法》《证券法》《上市公司治理准则》和《科创板股票上市规则》等法律、法规及规章制度要求,不断完善公司内部控制管理制度,规范公司运作,提升公司治理水平。

公司邀请行业内专家、财务专家、法律专家作为公司独立董事,为日常内部治理工作提出建议,积极吸纳专业意见致力于提升内部治理水平。

8、信息披露及投资者关系
公司遵循《信息披露管理办法》等制度要求,严格履行信息披露义务,积极建立多维度的投资者沟通渠道,真实、准确、完整、及时地披露有关信息,促使股东和债权人平等获取信息。

公司建立《投资者关系管理办法》,积极开展投资者调研活动,包括但不限于上证E互动、电子邮箱、投资者热线等,加强与投资者及潜在投资者之间的沟通,增进投资者对公司的了解和认同,并通过特定对象调研及现场参观等多种方式开展投资者交流,增加公司运营透明度。


二、报告期内公司所从事的主要业务、经营模式、行业情况及研发情况说明
(一) 主要业务、主要产品或服务情况
1、主要产品及产品应用领域
公司的产品为半导体设备、泛半导体设备及其他领域的精密零部件,具体包括工艺零部件、结构零部件、模组产品和气体管路。以刻蚀设备为例,公司部分具体产品的应用例示如下: 工艺零部件 结构零部件 模组产品 盖板 过渡腔 传输腔及子模组 气体管路 反应腔内衬 反应腔及子模组 匀气盘阀体模组气柜 流量计基座 气体管路

(1)工艺零部件
工艺零部件主要是半导体设备中晶圆制备工艺的关键零部件,少量应用于泛半导体设备及其他领域。该类产品一般需要经过高精密机械制造和复杂的表面处理特种工艺过程,具备高精密、高洁净、超强耐腐蚀能力、耐击穿电压等特点。工艺零部件主要应用于刻蚀设备、薄膜沉积设备,也少量应用于离子注入设备和高温扩散设备等。公司代表性工艺零部件包括腔体(按使用功能分为过渡腔、传输腔和反应腔)、内衬、匀气盘、铝基加热盘。

(2)结构零部件
结构零部件应用于半导体设备、面板及光伏等泛半导体设备和其他领域中,一般起连接、支撑和冷却等作用,对平面度和平行度有较高的要求,部分结构零部件同样需要具备高洁净、强耐腐蚀能力和耐击穿电压等性能。公司代表性结构零部件包括托盘轴、铸钢平台、流量计底座、定子冷却套、冷却板等。

(3)模组产品
工艺零部件、结构零部件等自制零部件与外购的电子标准件和机械标准件等经过组装、测试等环节,可以制成具有特定功能的模组产品,主要应用于半导体设备。公司主要模组产品包括离子注入机模组、传输腔模组、过渡腔模组、刻蚀阀体模组和气柜模组。

(4)气体管路产品
气体管路产品主要应用于半导体设备中的特殊工艺气体传送,是连接气源到反应腔的传输管道。由于晶圆加工过程中的气体具有纯度高、腐蚀性强、易燃易爆及毒性的特点,因此对管路的密封性、洁净度及耐腐蚀能力有较高要求。此外,一旦发生气体污染,半导体设备厂商较难排查。

因此,对零部件制造商的过程管控能力及体系认证要求极高。为满足客户严苛的标准,公司需要在洁净间环境内,利用超洁净管路焊接技术及清洗技术并结合专属生产设备及自制工装来保证气体管路无漏点且管路内焊缝无氧化和缺陷,以保证气体在传输过程中的洁净度且不发生泄漏。此外,公司开发了应用于管路内部的镀膜工艺,实现了管路内壁的均匀镀膜,大大提升了膜层的耐化学腐蚀性。


(二) 主要经营模式
1、 采购模式
(1)原材料采购
公司制定了严格的合格供应商准入制度,通过询价、比价、议价方式在合格供应商名录中确定供应商。对于主要原材料,公司一般与合格供应商签订框架协议锁定年度价格。由于部分公司客户对部分原材料的供应商存在复杂、长期的认证过程,且要求保障原材料质量的稳定、一致性和可追溯性,因此,存在部分客户指定原材料品牌或指定原材料供应商的情形。

(2)外协采购
公司外协主要包括特种工艺外协和机械制造外协两种情形。对于一部分公司不具备能力或尚未成熟的特种工艺制程,公司会进行委外加工。公司基于成本和交付周期考虑,将少量机械制造工序委托给进入公司合格供应商名录的外协厂商,在降低成本的同时灵活调节产能。

2、 生产模式
公司的生产模式主要是以销定产模式,即根据客户的订单情况制定生产计划并组织生产。鉴于公司客户对供应商和产品的认证周期较长,公司首先在完成客户的各项认证后,方才进行批量生产。

3、 销售及服务模式
公司采用直销的销售模式,通过与国内外龙头客户的合作能够及时掌握市场动态和行业发展趋势,不断提升公司技术水平和行业知名度。

产品定价方面,公司以产品生产流程预估的材料成本、制造费用、工艺水平和检测费用等为基础,根据市场竞争情况、公司市场策略和目标利润等因素制定定价策略,再根据客户设备的类型、工艺水平和预估销售台套,与客户协商确定产品的销售单价。

4、 研发模式
半导体设备是半导体工艺制程演进的关键,精密零部件是半导体设备的基础,因此半导体设备要发展,精密零部件的研发需要先行。随着半导体设备和半导体设备精密零部件的不断升级,研发能力的提升尤为关键。

在报告期内,公司通过推进自研项目、与客户协同研发、联合高校协同研发三方面推进研发工作,持续加大技术研发投入,致力于提升产品性能和工艺水平。

5、 盈利模式
公司以精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接技术、模组技术为核心,通过向国内外客户销售半导体设备精密零部件及模组产品等相应收入,扣除成本、费用等相关支出,形成公司的盈利。


(三) 所处行业情况
1. 行业的发展阶段、基本特点、主要技术门槛

(1)行业的发展阶段、基本特点
SEMI发布《300mm晶圆厂2027年展望报告(300mm Fab Outlook Report to 2027)》指出,由于内存市场复苏以及对高效能运算和汽车应用的强劲需求,全球用于前端设施的300mm晶圆厂设备支出预估在 2025 年首次突破 1000 亿美元,到 2027 年将达到 1370 亿美元的历史新高。全球300mm晶圆厂设备投资预计将在2025年成长20%至1165亿美元,2026年将成长12%至1305亿美元,将在2027年创下历史新高。

国内来看,SEMI预计中国大陆在全球半导体产能中的份额将持续增加,2023年中国大陆产能同比增长12%,达到每月760万片晶圆;预计中国大陆芯片制造商将在2024年开始运营18个项目,2024年产能同比增加13%,达到每月860万片晶圆。到2025年,中国大陆、中国台湾和韩国仍将是全球设备支出的前三大目的地。根据中国电子专用设备工业协会数据,2022年集成电路晶圆制造关键设备进口零部件金额约占设备市场的 40%左右,部分国产半导体设备公司的零部件进口额达到 60%,影响了国产设备在国内市场竞争力,后续随着自主研发的关键半导体设备和核心部件进入量产生产线,替代进口产品,国产设备的市场竞争力将显著提升。

(2)主要技术门槛
半导体设备是延续行业“摩尔定律”的瓶颈和关键,而半导体设备的升级迭代有赖于精密零部件技术首先突破。创新是富创取得竞争优势的关键。公司加大资源投入力度,通过持续的研发和创新提升制造工艺和技术水平,以满足客户对高质量产品的需求。

半导体设备精密零部件具有高精密、高洁净、超耐腐蚀能力、耐击穿电压等特性,生产工艺涉及精密机械制造、工程材料、表面处理特种工艺、电子电机整合及工程设计等多个领域和学科,是半导体设备制造环节中难度较大、技术含量较高的环节之一,也是国内半导体设备企业“卡脖子”的环节之一。


2. 公司所处的行业地位分析及其变化情况

随着晶圆制造向7纳米以及更先进的制程工艺发展,半导体设备的工艺规格越来越高,零部件的制造精密度、洁净度要求将越来越高,对相应工艺技术要求也将随之提升。目前,公司是国内少有的能够提供满足甚至超过国际主流客户标准的精密零部件产品的供应商,也是全球为数不多的能够为7纳米工艺制程半导体设备批量提供精密零部件的厂商。

大陆以外,公司已进入客户A、东京电子、HITACHI High-Tech和ASMI等全球半导体设备龙头厂商供应链体系,并且是客户A的全球战略供应商。同时,伴随着国内半导体晶圆厂的大幅扩
3. 报告期内新技术、新产业、新业态、新模式的发展情况和未来发展趋势
伴随全球行业格局的变化,半导体行业设备公司在专注自身工艺技术与平台建设的同时,也愈加重视产业生态布局,半导体零部件公司的国际化水平、产能规模效应、与设备公司协同研发能力等,已成为半导体行业设备公司衡量供应商准入及准入后稳定性和完整性的重要因素之一。

从未来发展趋势看,由于半导体零部件行业存在一定技术门槛,少数企业占据市场主导地位的业态仍将长期存在。零部件公司通过全球化布局、拓展产能规模、构建研发及信息化能力加强自身实力,并通过上下游产业链协同等方式加强实力壁垒,行业头部效应将愈加明显。


(四) 核心技术与研发进展
1. 核心技术及其先进性以及报告期内的变化情况
公司结合多年的技术研发与项目实践经验所积累的科研成果,在精密机械制造、表面处理特种工艺、焊接等半导体设备精密零部件关键环节具备了领先的技术能力。

公司产品生产流程均需要多道加工工序协同完成,各工序所涉核心技术均为该道工序中不可或缺的组成部分,就其中代表性核心技术情况,列举如下:
(1) 精密机械制造技术
报告期内,公司紧跟先进制程发展趋势及客户需求,坚持自主研发,公司以“高精密多工位复杂型面制造技术”、“高精密微孔制造技术”、“不锈钢超高光洁度制造技术”为核心技术代表,技术主要应用于工艺零部件中的过渡腔、传输腔、反应腔、匀气盘及工艺气体传送与流量控制等产品中,并应用于刻蚀设备、薄膜沉积设备等。

以“高精密微孔制造技术”为例,公司主要优势为以下三点:
1. 大倍径刀具的微孔径加工:公司可使用直径 0.3mm、50倍径刀具稳定加工出最小孔径为0.3mm产品;
2. 高精度:采用高精密微孔制造技术,成千上万个微孔的孔径尺寸公差可控制在 5 微米以内;
3. 高效率:与刀具供应商共同设计刀具,自主配置切削液,提高制造效率。

(2)表面处理特种工艺技术
随着芯片制造走向更先进制程,公司的表面处理特种工艺技术优势会愈发凸显,除公司已拥有的“耐腐蚀阳极氧化技术”、“高洁净度精密清洗技术”等,公司在报告期内开发了“致密喷涂Y-Al涂层技术”、“等离子喷涂含氟涂层技术”、“纳米薄膜技术”,主要应用在工艺零部件中的内衬、匀气盘等产品,应用于上述技术的产品在报告期内部分已实现量产。

采用“致密喷涂Y-Al涂层技术”、“等离子喷涂含氟涂层技术”、“纳米薄膜技术”工艺后的产品,在洁净度方面,表面LPC液态粒子检测和ICP金属元素检测可达到主流国际客户的标准;耐腐蚀方面,可实现盐酸中浸泡数小时无气泡产生,酸性盐雾环境中几十天膜层不发生腐蚀,超过主流国际客户标准。

(3)焊接技术
公司已经具备多种焊接技术能力,其中以“电子束焊接技术”、“激光焊接技术”、“超洁净管路焊接技术”为代表,上述技术主要应用于匀气盘、气体管路、内衬等半导体设备精密零部件,“电子束焊接技术”可实现在真空环境下焊接,保证焊接质量及工艺可控性;使用“激光焊接技术”可具备稳定的焊接质量,有效克服铝合金材料激光吸收效率差、易高反的特点,同时解决半导体级别铝合金激光自熔易裂的问题,焊接质量达到主流国际客户标准;使用“超洁净管路焊接技术”洁净度可达到主流国际客户标准,高端制程产品可达到无颗粒,并可实现气体管路内焊缝无氧化。

国家科学技术奖项获奖情况
□适用 √不适用

国家级专精特新“小巨人”企业、制造业“单项冠军”认定情况
√适用 □不适用

认定称号认定年度产品名称
国家级专精特新“小巨人”企业2021年集成电路装备金属零部件

2. 报告期内获得的研发成果
(1)2023年公司的技术突破
详见本节“一、经营情况讨论与分析”之“(二)报告期内重点工作开展情况之”之“3、产品、技术研发情况”。

(2)2023年获得的重要奖项

荣誉名称颁奖单位
国家企业技术中心国家发展改革委、科技部、财政部、海关总署、 税务总局
国家服务型制造示范企业国家工业和信息化部
国家智能制造优秀场景——智能在线检测国家工业和信息化部
第六届“集成电路产业技术创新奖”—— 成果产业化奖中国集成电路创新联盟
第四届中国工业互联网大赛“工业互联网 +精益生产”专业赛一等奖中国工业互联网研究院
辽宁省智能工厂辽宁省工业和信息化厅
辽宁省省级服务型制造示范企业辽宁省工业和信息化厅
辽宁省制造业单项冠军示范企业辽宁省工业和信息化厅

(3)知识产权相关情况、核心学术期刊论文发表情况
截至2023年12月31日,公司共获得专利授权和软件著作权235项,其中发明专利48项,实用新型专利184项。

报告期内获得的知识产权列表


 本年新增 累计数量 
 申请数(个)获得数(个)申请数(个)获得数(个)
发明专利56441848
实用新型专利7547266184
外观设计专利0222
软件著作权1021
其他0000
合计13253688235

3. 研发投入情况表
单位:万元

 本年度上年度变化幅度(%)
费用化研发投入20,601.6312,184.8369.08
资本化研发投入---
研发投入合计20,601.6312,184.8369.08
研发投入总额占营业收入 比例(%)9.977.89增加2.08个百分 点
研发投入资本化的比重(%)---
(未完)
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