[中报]芯碁微装(688630):2024年半年度报告

时间:2024年08月21日 16:26:04 中财网

原标题:芯碁微装:2024年半年度报告

公司代码:688630 公司简称:芯碁微装




合肥芯碁微电子装备股份有限公司
2024年半年度报告








重要提示
一、 本公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实性、准确性、完整性,不存在虚假记载、误导性陈述或重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。

二、 重大风险提示
报告期内,不存在对公司生产经营产生实质性影响的特别重大风险。公司已在报告中详细描述可能存在的相关风险,敬请查阅第三节管理层讨论与分析“五、风险因素”部分内容。


三、 公司全体董事出席董事会会议。


四、 本半年度报告未经审计。


五、 公司负责人程卓、主管会计工作负责人魏永珍及会计机构负责人(会计主管人员)何海声明:保证半年度报告中财务报告的真实、准确、完整。


六、 董事会决议通过的本报告期利润分配预案或公积金转增股本预案 无

七、 是否存在公司治理特殊安排等重要事项
□适用 √不适用

八、 前瞻性陈述的风险声明
√适用 □不适用
本报告所涉及的公司未来计划、发展战略等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,请投资者注意投资风险。


九、 是否存在被控股股东及其他关联方非经营性占用资金情况


十、 是否存在违反规定决策程序对外提供担保的情况


十一、 是否存在半数以上董事无法保证公司所披露半年度报告的真实性、准确性和完整性 否

十二、 其他
□适用 √不适用

目录
第一节 释义 ......................................................................................................................................... 4
第二节 公司简介和主要财务指标 ..................................................................................................... 8
第三节 管理层讨论与分析 ............................................................................................................... 12
第四节 公司治理 ............................................................................................................................... 41
第五节 环境与社会责任 ................................................................................................................... 43
第六节 重要事项 ............................................................................................................................... 45
第七节 股份变动及股东情况 ........................................................................................................... 71
第八节 优先股相关情况 ................................................................................................................... 77
第九节 债券相关情况 ....................................................................................................................... 78
第十节 财务报告 ............................................................................................................................... 79



备查文件目录载有公司法定代表人、主管会计工作负责人、会计机构负责人签名并盖 章的财务报表
 报告期内在中国证监会指定网站上公开披露过的所有公司文件的正文及 公告的原稿
 现任法定代表人签字和公司盖章的本次半年报全文和摘要



第一节 释义
在本报告书中,除非文义另有所指,下列词语具有如下含义:


常用词语释义  
公司、本公司、芯碁微装合肥芯碁微电子装备股份有限公司
苏州子公司芯碁合微(苏州)集成电路科技有限公司,公司全资子公 司
泰国子公司XIN QI TECHNOLOGY (THAILAND) CO., LTD.
深圳分公司合肥芯碁微电子装备股份有限公司深圳分公司
亚歌半导体合肥亚歌半导体科技合伙企业(有限合伙)
顶擎电子景宁顶擎电子科技合伙企业(有限合伙),曾用名“合肥 顶擎电子科技合伙企业(有限合伙)”
春生三号苏州中和春生三号投资中心(有限合伙)
合肥创新投合肥市创新科技风险投资有限公司
合肥高新投合肥高新科技创业投资有限公司
聚源聚芯上海聚源聚芯集成电路产业股权投资基金中心(有限合 伙)
亿创投资合肥亿创股权投资合伙企业(有限合伙)
康同投资合肥康同股权投资合伙企业(有限合伙)
纳光刻合肥纳光刻企业管理咨询合伙企业(有限合伙)
合光刻合肥合光刻企业管理咨询合伙企业(有限合伙)
中小企业发展基金中小企业发展基金(深圳南山有限合伙)
东方富海深圳东方富海节能环保创业投资基金合伙企业(有限合 伙)
国投基金国投(宁波)科技成果转化创业投资基金合伙企业(有限 合伙)
启赋国隆深圳市启赋国隆中小微企业股权投资基金合伙企业(有限 合伙)
新余国隆新余国隆一号投资管理合伙企业(有限合伙)
量子产业基金安徽省量子科学产业发展基金有限公司
鹏鼎控股鹏鼎控股(深圳)股份有限公司,公司间接股东
OrbotechOrbotech Ltd.,被 KLA-Tencor 收购
ORCORC MANUFACTURING CO., LTD.
ADTECADTEC Engineering Co.,Ltd.
HeidelbergHeidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
深南电路深南电路股份有限公司
胜宏科技胜宏科技(惠州)股份有限公司
红板公司江西红板科技股份有限公司
矽迈微合肥矽迈微电子科技有限公司
沪电股份沪士电子股份有限公司
明阳电路深圳明阳电路科技股份有限公司
维信诺维信诺科技股份有限公司
华天科技华天科技(昆山)电子有限公司
绍兴长电长电集成电路(绍兴)有限公司
定颖电子定颖电子(昆山)有限公司
生益电子生益电子股份有限公司
辰显光电成都辰显光电有限公司
佛智芯广东佛智芯微电子技术研究有限公司
华芯中源深圳市华芯中源科技有限公司
泽丰半导体上海泽丰半导体科技有限公司
柏承微电子柏承(南通)微电子科技有限公司
英创力四川英创力电子科技股份有限公司
东山精密苏州东山精密制造股份有限公司
兴森科技深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司
浩远电子江门市浩远电子科技有限公司
立德半导体安徽立德半导体材料有限公司
龙腾电子湖北龙腾电子科技股份有限公司
京东方合肥京东方睿视科技有限公司
Prismark美国电子行业信息咨询公司
科创板上海证券交易所科创板
证监会、中国证监会中国证券监督管理委员会
工信部中华人民共和国工业和信息化部
《公司法》《中华人民共和国公司法》
《证券法》《中华人民共和国证券法》
《公司章程》《合肥芯碁微电子装备股份有限公司章程》
《募集资金管理制度》《合肥芯碁微电子装备股份有限公司募集资金管理制度》
元、万元如无特别说明,指人民币元、人民币万元
报告期2024年半年度
微纳制造技术尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成 的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用 技术。
光刻技术利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将设计 好的微图形结构转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、 覆铜板等基材表面上的微纳制造技术。现代电子信息工业 产业中大量运用光刻技术,光刻技术是人类迄今所能达到 的尺寸最小、精度最高的加工技术。
掩膜光刻光源发出的光束,经掩膜版在感光材料上成像。掩膜光刻 属于光刻技术的一种,其可进一步分为接近/接触式光刻 以及投影式光刻。
直写光刻也称无掩膜光刻,是计算机控制的高精度光束聚焦投影至 涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜直接进行扫描曝 光。直写光刻也属于光刻技术的一种,其在 PCB 领域一 般称为“直接成像” 。
激光直写光刻属于直写光刻的一种,是计算机控制的高精度激光束根据 设计的图形聚焦至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩 膜直接进行扫描曝光。
传统曝光在PCB制造过程中,通过曝光工艺将底片上的图形转移到 PCB基板上。
直接成像、DIDirect Imaging,缩写为 DI,是指计算机将电路设计图 形转换为机器可识别的图形数据,并由计算机控制光束调 制器实现图形的实时显示,再通过光学成像系统将图形光 束聚焦成像至已涂覆感光材料的基板上,完成图形的直接 成像和曝光。“直写光刻”在PCB领域一般称为“直接成 像” 。
激光直接成像、LDILaser Direct Imaging,缩写为LDI,属于直接成像的一
  种,其光是由紫外激光器发出,主要用于PCB制造工艺中 的曝光工序。LDI技术的成像质量比传统曝光技术更清 晰,在中高端 PCB制造中具有明显优势。
感光材料一般指光致抗蚀剂,是由光引发剂、树脂以及各类添加剂 等化学品组成的对光敏感的感光性材料,主要用于电子信 息产业中印制电路板的线路加工、各类液晶显示器的制 作、半导体芯片及器件的微细图形加工等领域,又称光刻 胶/光阻。
激光原子中的电子吸收能量后从低能级跃迁到高能级,再从高 能级回落到低能级的时候,以光子的形式释放的能量。
PCBPrinted Circuit Board,印制电路板,又称印刷线路板。
泛半导体是将半导体、新型显示、光通讯器件、微机电系统器件 (MEMS)、半导体照明、高效光伏等纳入同一范围的产业 概念。
IC、集成电路Integrated Circuit,指通过一系列特定的加工工艺,将 晶体管、二极管等有源器件和电阻器、电容器等无源原件 按一定的电路互联并集成在半导体晶片上,封装在一个外 壳内,执行特定功能的电路或系统,可进一步细分为逻辑 电路、存储器、微处理器、模拟电路四种。
FPDFlat Panel Display,平板显示器。平板显示的种类很多, 按显示媒质和工作原理可分为液晶显示(LCD)、等离子 显示(PDP)、电致发光显示(ELD)、有机电致发光显示 (OLED)、场发射显示(FED)、投影显示等。
OLEDOrganicLight-Emitting Diode,有机电致发光显示。OLED 具有自发光的特性,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基 板,当电流通过时,有机材料就会发光,OLED 显示屏幕 具有可视角度大、节省电能等优势。
掩膜版又称光罩、光掩膜等,是微电子制造过程中的图形转移工 具或母版,用于下游电子元器件行业批量复制生产。掩膜 版在生产中起到承上启下的关键作用,是产业链中不可或 缺的重要环节。
晶圆用于制作芯片的圆形硅晶体半导体材料
封装在半导体开发的最后阶段,将一小块材料(如芯片)包裹 在支撑外壳中,以防止物理损坏和腐蚀,并允许芯片连接 到电路板的工艺技术。
先进封装处于前沿的封装形式和技术。目前,带有倒装芯片(FC) 结构的封装、晶圆级封装(WLP)、系统级封装(SiP)、 2.5D 封装、 3D 封装等均被认为属于先进封装范畴。
晶圆级封装、WLPWafer Level Packaging,在晶圆上封装芯片,而不是先 将晶圆切割成单个芯片再进行封装。这种方案可实现更大 的带宽、更高的速度与可靠性以及更低的功耗,并为用于 移动消费电子产品、高端超级计算、游戏、人工智能和物 联网设备的多晶片封装提供了更广泛的形状系数。
面板级封装、PLPPanelLevel Packaging,这种技术将芯片封装和面板制造 两个环节合并在一起,将多个芯片封装在一个较大的基板 上,形成一个整体。PLP技术通过将高密度面板制造和多 芯片封装集成在一起,能够大幅提升封装的集成度和工艺 效率,从而降低生产成本并提高可靠性,其应用范围涵盖 了智能手机、平板电脑、汽车电子、人工智能等多个领域。
曝光一切光化学成像方法的基本过程与主要特征
阻焊也称防焊,印制电路板上绿油的工艺,目的是长期保护所 形成的线路图形。
基板制造PCB的基本材料,主要包括覆铜箔层压板(CCL)、 覆树脂铜箔(RCC)、半固化片(PP)以及光敏性绝缘基 板。其中,覆铜箔层压板是目前应用最为广泛的基板类型。
底片又称菲林(film),一种用于印刷制版的胶片。现今广泛 应用的底片是将卤化银涂抹在乙酸片基上,当有光线照射 到卤化银上时,卤化银转变为黑色的银,经显影工艺后固 定于片基。
双面板包括Top(顶层)和Bottom(底层)的双面都敷有铜的印 制电路板,双面都可布线焊接,中间为一层绝缘层,为常 用的一种印制电路板。
多层板、MLB 板即多层印制板,Multilayer Board,指两层以上的印制板, 是由几层绝缘基板上的连接导线和装配焊接电子元件用 的焊盘组成,既具有导通各层线路,又具有相互间绝缘的 作用。
柔性板、FPC 板Flexible Printed Circuit,柔性电路板,是以聚酰亚胺 或聚酯薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性,绝佳的可 挠性印制电路板,具有配线密度高、重量轻、厚度薄、弯 折性好的特点。
类载板、SLP 板是下一代PCB硬板,可将线宽/线距从HDI的 40/40 微米 缩短到30/30 微米。类载板接近用于半导体封装的IC 载 板,但尚未达到IC载板的规格,其用途仍是搭载各种主 被动元器件。
IC 载板IC Substrate,又称封装载板或封装基板,用于承载IC, 内部布有线路用以导通芯片与电路板之间讯号,除了承载 的功能之外,IC载板还有保护电路、专线、设计散热途 径、建立零组件模块化标准等附加功能。
MEMS微机电系统,Microelectro Mechanical Systems,指尺 寸在几毫米乃至更小的高科技装置。
线宽PCB、泛半导体领域内光刻工艺形成的图形中线路或沟道 间可达到的最小宽度,是衡量PCB、泛半导体光刻工艺技 术水平的主要指标。
套刻精度、对位精度衡量光刻工艺的关键参数之一,是指基板上下两层图形之 间的偏移量,套刻精度或对位精度的高低将直接影响最终 产品的性能。
深度学习源于多层神经网络,是一种建立深层结构模型的学习方 法,其特点是放弃了可解释性,单纯追求学习的有效性。
ECCError Correcting Code,是一种实现“错误检查和纠正” 的技术, ECC内存就是应用了这种技术的内存,一般多 应用在服务器及图形工作站上,可提高计算机运行的稳定 性和可靠性。
代线液晶面板世代线数,是业界约定俗成的一种按照液晶面板 生产线所应用的玻璃基板的尺寸划分而来的称法,代线越 大,面板的面积越大,可以切出小液晶面板的数量越多。
制程是指IC内电路与电路之间的距离,制程工艺的趋势是向 密集度愈高的方向发展。
μm、微米-6 1 微米=10米
nm、纳米-9 1 纳米=10米

第二节 公司简介和主要财务指标
一、 公司基本情况

公司的中文名称合肥芯碁微电子装备股份有限公司
公司的中文简称芯碁微装
公司的外文名称Circuit Fabology Microelectronics Equipment Co.,Ltd
公司的外文名称缩写CFMEE
公司的法定代表人程卓
公司注册地址安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼
公司注册地址的历史变更情况经董事会及股东大会审批,2021年5月20日公司注册地址由合肥市 高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层变更为安徽省合 肥市高新区长宁大道789号1号楼。
公司办公地址安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼
公司办公地址的邮政编码230000
公司网址www.cfmee.cn
电子信箱[email protected]
报告期内变更情况查询索引

二、 联系人和联系方式

 董事会秘书(信息披露境内代表)证券事务代表
姓名魏永珍袁露茜
联系地址合肥市高新区长宁大道789号合肥市高新区长宁大道789号
电话0551-638262070551-63826207
传真0551-638220050551-63822005
电子信箱[email protected][email protected]

三、 信息披露及备置地点变更情况简介

公司选定的信息披露报纸名称中国证券报、上海证券报、证券日报、证券时报
登载半年度报告的网站地址上海证券交易所网站(www.sse.com.cn)
公司半年度报告备置地点公司证券部
报告期内变更情况查询索引

四、 公司股票/存托凭证简况
(一) 公司股票简况
√适用 □不适用

公司股票简况    
股票种类股票上市交易所及板块股票简称股票代码变更前股票简称
A股上海证券交易所科创板芯碁微装688630不适用

(二) 公司存托凭证简况
□适用 √不适用
五、 其他有关资料
□适用 √不适用

六、 公司主要会计数据和财务指标
(一) 主要会计数据
单位:元 币种:人民币

主要会计数据本报告期 (1-6月)上年同期本报告期比上 年同期增减(%)
营业收入449,434,289.81318,659,921.7841.04
归属于上市公司股东的净利润100,694,227.5472,674,167.7038.56
归属于上市公司股东的扣除非经常性 损益的净利润98,529,823.3667,561,124.6845.84
经营活动产生的现金流量净额-47,434,123.78-108,957,412.6956.47
 本报告期末上年度末本报告期末比 上年度末增减 (%)
归属于上市公司股东的净资产2,001,044,530.462,031,690,393.13-1.51
总资产2,586,711,723.302,480,473,001.974.28

(二) 主要财务指标

主要财务指标本报告期 (1-6月)上年同期本报告期比上年同期 增减(%)
基本每股收益(元/股)0.770.6028.33
稀释每股收益(元/股)0.770.6028.33
扣除非经常性损益后的基本每股收益 (元/股)0.750.5633.93
加权平均净资产收益率(%)4.846.68减少1.84个百分点
扣除非经常性损益后的加权平均净资 产收益率(%)4.736.21减少1.48个百分点
研发投入占营业收入的比例(%)10.8912.19减少1.30个百分点

公司主要会计数据和财务指标的说明
√适用 □不适用
(1)报告期内,公司实现营业收入44,943.43万元,同比增长41.04%,归属于上市公司股东的净利润10,069.42万元,同比增长38.56%,报告期内,受益于PCB市场中高端化趋势,公司不断提升PCB线路和阻焊层曝光领域的技术水平,在最小线宽、产能、对位精度等设备核心性能指标方面具有较高的技术水平,全面推动公司产品体系的高端化升级,凭借产品稳定性、可靠性、性价比及本土服务优势,使得产品市场渗透率快速增长。
(2)公司经营活动产生的现金流量净额-4,743.41万元,同比增长56.47%,主要系销售回款同比增加所致。


七、 境内外会计准则下会计数据差异
□适用 √不适用

八、 非经常性损益项目和金额
√适用 □不适用
单位:元 币种:人民币

非经常性损益项目金额附注(如适用)
非流动性资产处置损益,包括已计提资产减值 准备的冲销部分  
计入当期损益的政府补助,但与公司正常经营 业务密切相关、符合国家政策规定、按照确定 的标准享有、对公司损益产生持续影响的政府 补助除外1,357,115.00 
除同公司正常经营业务相关的有效套期保值业 务外,非金融企业持有金融资产和金融负债产 生的公允价值变动损益以及处置金融资产和金 融负债产生的损益1,218,217.92 
计入当期损益的对非金融企业收取的资金占用 费  
委托他人投资或管理资产的损益  
对外委托贷款取得的损益  
因不可抗力因素,如遭受自然灾害而产生的各 项资产损失  
单独进行减值测试的应收款项减值准备转回  
企业取得子公司、联营企业及合营企业的投资 成本小于取得投资时应享有被投资单位可辨认 净资产公允价值产生的收益  
同一控制下企业合并产生的子公司期初至合并 日的当期净损益  
非货币性资产交换损益  
债务重组损益  
企业因相关经营活动不再持续而发生的一次性 费用,如安置职工的支出等  
因税收、会计等法律、法规的调整对当期损益 产生的一次性影响  
因取消、修改股权激励计划一次性确认的股份 支付费用  
对于现金结算的股份支付,在可行权日之后, 应付职工薪酬的公允价值变动产生的损益  
采用公允价值模式进行后续计量的投资性房地 产公允价值变动产生的损益  
交易价格显失公允的交易产生的收益  
与公司正常经营业务无关的或有事项产生的损 益  
受托经营取得的托管费收入  
除上述各项之外的其他营业外收入和支出-28,975.06 
其他符合非经常性损益定义的损益项目  
减:所得税影响额381,953.68 
少数股东权益影响额(税后)  
合计2,164,404.18 

对公司将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》未列举的项目认定为的非经常性损益项目且金额重大的,以及将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益的项目,应说明原因。

□适用 √不适用

九、 非企业会计准则业绩指标说明
□适用 √不适用
第三节 管理层讨论与分析 一、 报告期内公司所属行业及主营业务情况说明 (一)所属行业发展概况 作为国内领先的直写光刻设备厂商,公司专注服务于电子信息产业中PCB 领域及泛半导体领 域的客户,通过优质的产品帮助客户在提升产品品质和降低生产成本的同时实现数字化、无人化、 智能化发展。在PCB领域,公司设备主要应用于PCB制程中的线路层及阻焊层曝光环节,业务从 单层板、多层板、柔性板等PCB中低阶市场向类载板、IC载板等高阶市场纵向拓展。在泛半导体 领域,应用场景涵盖IC封装、先进封装、FPD面板显示、IC掩模版制版、新型显示、新能源光伏 等领域,产品布局丰富。报告期内公司积极推进前沿技术研发,加快新品开发,推出键合制程解 决方案,同时推进量测、检测技术路线图,积极布局先进封装平台型企业,紧握多重行业机遇, 持续拓展直写光刻设备多场景应用。 1、PCB行业概况 PCB板是承载电子元器件并连接电路的桥梁,作为电子产品之母,广泛应用于通讯电子、消 费电子、计算机、汽车电子、工业控制、医疗器械、国防及航空航天等领域,其行业发展呈现如 下趋势: (1)PCB行业逐步回暖,有望进入新增长周期 由于去库存压力和抑制通胀的加息,全球PCB市场规模在2023年有所缩减。据 Prismark数 据,2023年全球 PCB 产值同比下降15%至695.17亿美元。但随着市场库存调整、消费电子需求 疲软等问题进入收尾阶段,以及AI应用的加速演进,PCB将进入一个新的增长周期,PCB厂商稼 动率有望回升。Prismark数据显示2024年中国PCB产值将同比增加5.3%至398亿美元,全球PCB 产值将以5%的增速增长至730亿美元。展望后续,在下游人工智能、高速网络和新能源汽车的推 动下,全球PCB产业将保持稳健增长趋势,据Prismark预计,2023-2028年全球PCB市场规模将 以5.4%的平均增速增长至904亿美元。 (2)需求高端化,直写光刻加速替代 人工智能的发展推动下游通信、数据存储、手机等多板块高增长。随着下游电子产品如智能 手机、服务器等产品向便携、轻薄、高性能等方向发展,推动PCB产品往高密度、高集成、细线 路、小孔径、大容量、轻薄化的方向发展,HDI、类载板、IC载板等中高阶PCB产品的市场份额 不断提升,据Prismark预计,2023-2028年HDI和封板基板平均增速分别为7.1%和8.8%,高于 行业平均增速,2028年HDI、封装基板和软板等中高阶产品占比将提升至54.2%。直写光刻技术 凭借在光刻对位精度、自动对位、自动校准、自动涨缩等指标上的优势表现,以及更短周期、更 低成本、更为环保和自动化的特点使PCB产品性能突出、更加可靠,在中高端PCB制造领域内具 有较为成熟的市场应用。 资料来源:Prismark
(3)AI的发展将成为PCB行业升级重要驱动力
从PCB行业下游应用来看,2021年通讯领域排名第一,计算机、消费电子、汽车电子紧随其后,服务器产值占比约10%。2023年以来, AI的爆发式增长,伴随5G时代对信息传输速度及传输容量的需求提升,数据中心硬件也加速向高速、大容量的方向发展,进而驱动了对大尺寸、高层数、高频高速、高散热的PCB产品的需求,更新迭代也将带动PCB价值量的提升。

(4)产业转移铸造PCB设备需求繁荣期
因国际贸易摩擦和政治风险,近年来PCB企业倾向于在东南亚投资设厂,泰国、越南和马来西亚等国基础设施健全,且拥有场地申请方便、地租较低、税负较低等优势,吸引国内外厂商投资建厂,国内头部PCB厂商如鹏鼎控股、东山精密、沪电股份、胜宏科技等均计划在泰国、越南等地建厂,Prismark预计2028年亚洲(除中国和日本)PCB规模将达到304亿美元,2023-2028年复合增速达8%,领先于全球其他区域,PCB产业向东南亚转移的趋势是设备厂商未来增长的重要机遇,当前公司产品技术节点、品质要求均已达到全球领先水平,海外市场进展迅速,直写光刻设备成功销往日本、越南、泰国等市场。公司已提前部署全球化战略,目前已完成泰国子公司的设立登记,今年将积极建设海外销售及运维团队,发挥自身品牌、技术开发和市场营销优势,增强海外客户的服务能力。

2、半导体行业概况
泛半导体产业是集成电路、平板显示、LED、分立器件以及半导体设备材料产业的一个统称。

在IC领域中,光刻技术可以应用在前道制造、掩膜版制版与后道封装上;在FPD领域,光刻技术一般应用在OLED显示面板和FPD掩膜版制版上。此外,光刻技术在新型显示mini/micro LED制造、新能源光伏领域也有应用空间。其行业发展呈现如下趋势:
(1)全球半导体市场持续发展,设备需求不断增长
根据国际半导体产业协会SEMI发布的《年中总半导体设备预测报告》,2024年全球半导体制造设备销售额预计达到1,090亿美元,同比增长3.4%,2025年将达到1,280亿美元。中国作为全球最大的半导体设备出货市场,2023年出货金额达366亿美元,在进口限制加紧和国家政策支持的影响下,国产替代持续加速,推动国产设备高速增长。

(2)泛半导体细分赛道保持高景气,直写光刻应用场景持续拓展
? IC载板:ABF需求提升,公司引领国产替代
在高端封装领域,IC载板已取代了传统的引线框架,成为封装过程中的必备材料。先进封装技术的兴起增加了IC载板的层数,有效拉动了行业增长。Prismark预计2024年全球IC封装基板市场规模约为132亿美元,2028年将达到191亿美元,2023-2028期间年复合增速约为8.8%。

中国大陆IC载板起步较晚,2024年市场规模约为28.24亿元,随着国内头部IC载板厂如深南电路、兴森科技、胜宏电子投资扩产,2028年国内IC载板市场规模预计达到37.20亿美元,2023-2028年复合增速约为7.8%。

ABF载板是产业发展趋势之一,IC载板按基材广泛使用的是BT和ABF载板,其中ABF载板主要用于CPU、GPU、FPGA、ASIC等高运算性能IC,是FCBGA封装的标配材料。同时, Chiplet封装技术也大大增加了ABF载板的需求,进一步推动了ABF载板需求的提升。

追求更精细的线宽及分辨率成为大厂的主要发展方向,直接成像技术取代传统曝光技术成为主流技术。公司针对IC封装载板现已开发出MAS4、MAS6、MAS8系列产品,MAS4已经实现了4μm线宽,达到海外一流竞品水平,设备在客户端验证顺利。公司产品凭借良好的技术、本地化服务优势取得了各大客户的认可,拓展了兴森科技、浩远电子、明阳电路、柏承微电子、英创力等优质客户。

? 先进封装:后摩尔时代先进封装举足轻重,直写光刻大有可为
摩尔定律的延伸受到物理极限,先进封装可以相对轻松地实现芯片的高密度集成、体积的微型化和更低的成本。先进封装在提高芯片集成度、缩短芯片距离、加快芯片间电气连接速度以及性能优化的过程中扮演了更重要角色。正成为助力系统性能持续提升的重要保障,并满足“轻、薄、短、小”和系统集成化的需求。

据 YoleGroup数据,全球先进封装市场规模将由2022年443亿美元,增长到2028年的786 亿美元,年复合成长率(CAGR)为10%。而其中,2.5D/3D 先进封装市场收入规模年复合增长率 近40%,在先进封装多个细分领域中位列第一。根据 Frost&Sullivan数据,中国大陆封测市场 2022年为507.5亿元,结合Yole数据测算占世界比例 16%。中国大陆封测市场预计将保持增长, 在2025年达到3,551.9亿元的市场规模,其中先进封装将以四年29.91%的复合增长率持续高速 发展,在2025年达到1,136.60亿元,占中国大陆封测市场比重将达到32.00%,增速远高于传统 封装。 作为先进封装的关键工艺设备,光刻设备的需求日益增长。光刻设备主要应用于:倒装 (FlipChip, FC)的凸块制作、重分布层(RDL)、2.5D/3D 封装的TSV、以及铜柱(CopperPillar) 等。与在前道制造中用于器件成型不同,在先进封装中主要用做金属电极接触。此外,先进封装 引入湿制程基本都会使用到光刻设备。 光刻设备在先进封装的主要应用: 先进封装光刻机主要技术路径有投影式光刻及直写光刻,相较于投影光刻,直写光刻在先进封装中的优势包括重布线灵活、无掩模、成本低、适合大尺寸封装等,可以解决Fan-out的技术问题,近年来在晶圆级封装领域逐渐兴起。根据Yole预测,在IC先进封装领域内,激光直写光刻设备将在未来三年内逐步成熟并占据一定市场份额,具有良好的市场应用前景。公司先进封装直写光刻设备采用多光学引擎并行扫描技术,具备自动套刻、背部对准、智能纠偏、WEE/WEP功能,应用领域包括Flip Chip、Fan-In WLP、 Fan-Out WLP和2.5D/3D等先进封装形式,在RDL、Bumping和TSV等制程工艺中优势明显,同时,应用在更高算力的大面积芯片上的曝光环节会比传统曝光设备拥有更高的产能效率和成品率。

? 掩膜版制版:直写光刻为主流技术
掩模版是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母板,其作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上,从而实现集成电路的批量化生产。从下游应用结构来看,半导体占比最高,约占60%,其次为平板显示,约占28%。随着我国半导体芯片行业、平板显示行业、触控行业等下游应用领域的产品迭代升级加速,掩膜版行业景气上行,根据中商产业研究院数据,2024年全球半导体掩膜版市场规模预计为53.24亿美元,其中中国市场规模约为18.53亿美元。

直写光刻是目前泛半导体掩膜版制版的主流技术。直写光刻技术能够在计算机控制下按照设计好的图形直接成像,容易修改且制作周期较短,成为目前泛半导体掩膜版制版的主流技术。计算机控制的高精度激光束根据设计的图形聚焦至涂覆有感光材料的基材表面上,无需掩膜,直接进行扫描曝光的精密、微细、智能加工技术,主要应用于FPD制造所需的掩膜版制版及IC制造所 需的中低端掩膜版制版领域。 直写光刻技术按照辐射源又可分为激光直写光刻技术和带电粒子直写光刻技术。采用带电粒 子束作为辐射源的直写光刻设备厂商主要有日本JEOL、ELIONIX、NuFlare、ADVANTEST以及德国 Vistec、Raith等。采用激光为辐射源的直写光刻设备厂商主要有瑞典Mycronic、德国Heidelberg 等企业,其中瑞典Mycronic处于全球领先地位。公司在激光掩膜版制版领域的技术水平可与德国 Heidelberg进行竞争,具备国际竞争力。 ? 引线框架:高集成方向发展,国产替代诉求迫切 引线框架是封装材料中仅次于封装基板的第二大封装材料,除应用直写光刻技术的蚀刻工艺 外,传统冲压工艺目前仍具有较为广泛的应用。随着智能手机、可穿戴设备等终端产品的小型化、 高集成化发展,封装材料向高密度、高可靠性、高散热、低功耗、低成本等方向演进,对曝光的 精度及灵活性要求不断提升。传统冲压工艺由于精度相对较低且无法生产超薄产品,无法适应当 前集成电路精细化发展带来的多脚位和轻薄化封装要求,蚀刻工艺成为引线框架未来发展的主要 方向。QYResearch数据显示2023年全球半导体引线框架市场规模约为35.3亿美元,2030年预计 达到47.02亿美元,2024-2030年复合增长率为4.1%。 目前引线框架的制造工艺主要有冲压法及蚀刻法,其中蚀刻法工艺对精度要求更高。在蚀刻 法工艺中,随着半导体器件尺寸的不断缩小,其对曝光精度的要求也逐步提升,直写光刻有望成 为理想的解决方案,不断替代传统的间接曝光技术。 ? 新型显示: Mini/Micro-LED 带动直写光刻设备需求增加 新型显示泛指LCD(液晶显示器)、高世代 OLED(有机发光二极管)、AMOLED(主动矩阵有 机发光二极管)、Mini/Micro- LED(微发光二极管)、QLED(电致发光量子点)、印刷显示、 激光显示、3D(三维)显示、全息显示、电子纸柔性显示、石墨烯显示等技术。 新型显示技术分类及特征: Mini/Micro-LED是近年来快速发展的新型显示技术,目前产业化较为成熟的是“Mini-LED+LCD”背光技术,相较于OLED面板,该技术能够在实现更轻更薄的情况下达到媲美OLED面板的显示效果,且在显示亮度、成本方面更具优势。据集邦咨询数据,2024年搭载Mini-LED 背光技术的产品出货量预计达到1,380万台,2027年预计将增长至3,145万台,2023-2027年复 合增速高达23.91%。 资料来源:TrendForce集邦咨询
Mini/Micro-LED显示面板器件数量繁多且线间距密集,要求阻焊层曝光精度较高(50-60μm),同时需匹配高反射率的阻焊油墨使用。目前,除直写光刻技术外,采用底片曝光的传统曝光技术也有应用。随着 Mini/micro-LED 领域面板尺寸的不断增大,显示效果要求不断提升,器件的数量不断增多,同时需匹配高反射率的阻焊油墨使用,传统的曝光技术无法满足阻焊层曝光精度需求,为直写光刻技术的应用渗透提供了市场机遇。

? 新能源光伏领域:去银终极方案,曝光设备空间广阔
光伏产业作为我国优势产业,是我国实现“双碳战略”的重要途径之一,近年来发展态势良好。据CPIA数据,2023年我国光伏新增装机容量为216.88GW,同比增长148.1%,2030年新增装机量有望达317GW,将有效拉动光伏电池片的市场需求。目前光伏电池片的主要材料为银浆,通过丝网印刷的方式制备金属栅线。未来,随着TOP-Con、HJT等新型电池技术的不断渗透,铜电镀工艺有望取代现有的银浆丝网印刷工艺,同时缩小栅线的宽度,从而降低电池片制造成本。

铜电镀工艺分为沉积种子层、图形化、电镀和后处理四部分,公司产品应用于图形化环节。

曝光环节是铜电镀工艺中的核心工艺,根据光大证券测算,2023-2030年全球光伏电池片曝光设备市场需求将由0.35亿元快速增长至13.64亿元,年复合增长率高达68.75%,为直写光刻设备在该领域的应用提供契机。

资料来源:光大证券
公司覆盖直写与非直写技术方案,可以满足HJT/Topcon/XBC等高效电池的高对位要求,并支持210mm的整片和双半片光伏电池的制造。公司积极推动直写光刻技术在HJT/Topcon/XBC等新型太阳能电池技术领域的应用,设备获得国内外光伏企业客户认可。此外,公司会配合下游市场需求提供解决图形一体化方案,未来将随着电镀铜技术成熟迎来新的扩张空间。

(二)业务及产品
公司专业从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务,主要产品及服务包括PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统、其他激光直接成像设备以及上述产品的售后维保服务,产品功能涵盖微米到纳米的多领域光刻环节。

主要产品及应用领域如下表所示:

产品 类型产品系列产品型号产品图示主要应用领域
PCB直 接成 像设 备MAS系列MAS 12 MAS 15 MAS 25 MAS 35 领先的直接成像解决方案,适用 于软板/软硬结合板、HDI和多层 板等线路曝光制程,高精度的资 料解析能力,实现精细线路优异 的线宽一致性和边缘粗糙度。
 RTR系列RTR 6 RTR 8 RTR 12 RTR 15 RTR 25 高性能、卷对卷直接成像系统, 采用高精度的成像和定位系统结 合卷对卷上下料系统,为FPC制 程提供完美的解决方案。
产品 类型产品系列产品型号产品图示主要应用领域
 NEX系列NEX 50 NEX 60 NEX-W 新一代的高性能防焊 DI直接成 像系统,采用大功率曝光光源设 计,并结合高精度的成像和定位 系统,为阻焊制程提供高产能解 决方案。
 FAST系列FAST 25 FAST 35 该系列是一款高产能、占地尺寸 小的高性能直接成像LDI设备, 为 PCB黄光制程提供的解决方 案。
 MUD系列 MCD系列MUD 35 MCD 75T 该系列产品分别应用于 HDI和 FPC盲孔激光钻孔工艺,实时能 量监控,最小可加工盲孔直径35 μm,具有高精度、高品质、高效 率的特点。
 DILINE系列DILINE-MAS DILINE-NEX DILINE-FAST 自动连线系列是高性能、全能型 智能化直接成像系统,可适用于 干膜、湿膜及油墨等感光材料, 为所有领域的PCB客户提供全制 程自动化图像转移解决方案。
泛半 导体 直写 光刻 设备LDW系列LDW 500 LDW 350 用于 IC掩膜版、IC芯片、MEMS 芯片、生物芯片等直写光刻领域, 最小线宽优于 350nm,能够满足 130nm-90nm制程节点的掩膜版 制版需求。
 WLP系列WLP 2000 用于 12inch/8inch集成电路先 进封装领域,包括 Flip Chip、 Fan-In WLP、Fan-Out WLP 和 2.5D/3D等先进封装形式。该系 统采用多光学引擎并行扫描技 术,具备自动套刻、背部对准、 智能纠偏、WEE/WEP功能,在RDL、
产品 类型产品系列产品型号产品图示主要应用领域
    Bumping、TSV及SOW等制程工艺 中优势明显。
 PLP系列PLP 3000 PLP 4000 主要应用于面板级先进封装领 域,包括FC CSP、FC BGA、Fan-In PLP、Fan-Out PLP和2.5D/3D等 先进封装形式。可支持覆铜板, 复合材料,玻璃基板,该系统采 用多光学引擎并行扫描技术,具 备自动寻边对准、自动追焦、智 能纠偏、涨缩补偿,在 RDL、 Bumping、TSV等制程工艺中优势 明显。
 MLF系列MLF 06 MLF 08 MLF 12 MLF 15 MLF 25 该系列产品结构紧凑,景深大、 产能高,适用于 Si基/SiC功率 器件、MEMS芯片、陶瓷封装等领 域,对干膜和光刻胶均有良好的 工艺适应性,是一款高性价比、 可灵活配置的量产直写光刻设 备。
 MLC系列MLC 900 MLC 600 自主研发生产的一款精巧型光刻 设备,广泛应用IC芯片、掩模版、 MEMS芯片、生物芯片微纳光刻加 工领域的研究与生产,最小线宽 线距优于600nm。
 引线框架RTR15DE RTR25DE 该产品主要应用于引线框架、金 属蚀刻等领域。该系列设备具有 卷式双面同时曝光功能,同时还 能保证高解析、高对位精度和高 产能。
 FPD解决方 案LDW 700 该产品应用于 OLED显示面板制 造过程中的光刻工艺环节,最小 解析优于700nm。
 IC载板解决 方案MAS 4 MAS 6 MAS 6P MAS 8 MAS 10 NEX 30 该产品应用于 IC载板的线路和 防焊的全制程曝光流程,最小解 析优于4μm。
产品 类型产品系列产品型号产品图示主要应用领域
  NEX 40  
 光伏SDI SPE 该系列产品是业界领先的光伏直 接成像解决方案,适用于光伏太 阳能电池高精度图形化工艺领 域,提供降本增效的解决方案。
 对准WA 8 晶圆对准机是一款操作便捷、灵 活性高、能够实现模块化升级的 高精度晶圆对准设备,适用于4、 6、8英寸晶圆。该设备可用于先 进封装、MEMS生产和需要亚微米 级精确对准的应用场景。
 键合WB 8 晶圆键合机能够实现所有类型的 键合,如阳极键合、热压键合等。 搭载公司核心技术,采用半自动 化操作,全系统电气化驱动,无 油污污染,极大提高键合稳定性 和品质。支持最大晶圆尺寸为 8 英寸,可运用于先进封装、MEMS 等多种半导体行业。
 椭偏仪SE 采用单旋转补偿器调制技术,可 实现对单层/多层薄膜材料厚度 和光学特性的表征分析,应用领 域包括集成电路、光学镀膜、纳 米科学研究等。配置创新设计的 滤光片和小型光栅光谱仪,在 400nm~1000nm波段范围内具有 高信噪比的特点,具备完善的数 据分析能力。对于 10nm~5000nm 各向同性光学薄膜的表征优势明 显。
 反射膜厚仪SR-200 具有丰富的材料库及完善的数据 分析功能,可实现对1~5层透明 或弱吸收薄膜材料厚度和光学特 性(折射率、反射率等)的表征分 析,精度在1埃左右,具有良好 的测量速度和分析功能,对于 50nm~50μm的薄膜膜厚的表征 优势明显。

(三)2024年上半年经营分析
报告期内,公司紧密围绕战略方向,精准捕捉行业升级和国产替代机遇,加快PCB设备产品升级,加大高端阻焊设备扩产,不断丰富泛半导体产品矩阵,推进直写光刻技术应用拓展不断深化。同时,加速推进品牌全球化发展策略,加快布局东南亚地区的市场,以优良的品质和服务积极拓展海外市场,进一步提升产品全球市占率以及品牌影响力。

报告期内公司实现营业收入44,943.43万元,同比增加41.04%;实现归属于上市公司股东的净利润10,069.42万元,同比增加38.56%;实现归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润9,852.98万元,同比增加45.84%。
报告期内,公司重点开展工作如下:
1、 PCB产业升级&出口双轮驱动,主业稳健成长
(1)在AI发展浪潮中助力国产化率提升
AI浪潮持续推进,算力需求爆发,带动了AI服务器及配套高端交换机等产品需求持续增长。

5G时代对信息传输速度及传输容量的需求提升,数据中心硬件也加速向高速、大容量的方向发展,进而驱动了对大尺寸、高层数、高频高速、高散热的PCB产品的需求,也带动了PCB价值量的提升。

在PCB中高阶市场,公司直接对标国际竞争对手,推出多系列产品覆盖下游需求,凭借设备优异的曝光精度及良率、高效的生产效率、不断下降的设备成本、产品质量的稳定性及本地化服务优势,不断提升国产化替代速度。报告期内,公司从研发和扩产两个维度加强PCB设备的产品升级,推动多层板、HDI板、柔性板以及IC载板等中高端PCB产品市场份额占比不断提升,同步加大高端阻焊市场的NEX系列直写光刻设备的扩产。 2024年5月,公司发布钻孔系列新品MCD 75T,可实时位置校准,实时孔型检测,实时能量监控,对位和补偿算法与LDI相通,提高了微孔与线路的位置精度。

(2)加快国际化战略部署,积极拓展东南亚市场
随着一带一路、RCEP等经济圈兴起,以及地缘政治影响,越来越多的电路板企业开始在东南亚投资建厂,中国PCB制造商正推动东南亚(尤其是泰国)的投资热潮,产业迁移带来扩产需求新增量,公司在中高阶PCB设备具备强竞争力,高质量客户资源积累深厚,国产替代正当时。

出海策略作为近两年公司最重要的战略之一,公司在报告期内加大了对东南亚地区的市场布局,以泰国、越南地区为主,积极融入全球化的竞争格局,力争成为微纳直写光刻领域的国际领先企业。目前泰国子公司已完成设立登记,今年将积极建设海外销售及运维团队,发挥自身品牌、技术开发和市场营销的优势,增强海外客户的服务能力。当前公司海外拓展速度较快,出口订单表现良好,海外市场的增长将持续推动收入上升。

2、 泛半导体领域持续开拓新兴市场,直写光刻大有可为
在泛半导体领域,细分多赛道增速稳定,共同推动光刻设备规模增长。公司直写光刻设备可应用在IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件、IC掩膜版制造、先进封装、显示光刻等环节,直写光刻技术应用拓展不断深化,共同推动光刻设备规模的持续增长。

(1)IC载板:先进封装带动ABF载板市场增长,载板市场表现良好,公司为国产替代领军者,已储备3-4μm解析能力的IC Substrate,技术指标比肩国际龙头企业。目前解析度达4μm的载板设备MAS4在客户端验证顺利。同时,公司定增项目支撑加速IC载板产能扩张,海外市场不断寻求突破。今年5月,公司推出IC载板解决方案新品MAS 6P、NEX 30。MAS 6P系列拥有业内领先的二次成像技术,可应用于高阶HDI(包括 mSAP)和IC载板量产。NEX 30系列作为阻焊DI性能标杆,为ICS & SLP载板阻焊首选。

(2)先进封装:后摩尔时代下的明星,是决定AI芯片内互联速度的关键,市场空间大、增速高。直写光刻技术自适应调整能力强,公司WLP晶圆级封装设备在再布线、互联、智能纠偏等方面都很有优势,以灵活的数字掩模和高良品率满足了半导体行业需求。此外,公司在PLP板级封装设备也有布局,支持在模组、光芯片、功率器件等领域的封装。报告期内,公司加快提升封装设备产能效率,以满足在更高算力的大面积芯片上的曝光环节适配有更高的产能效率和成品率。

(3)引线框架:随着智能手机、可穿戴设备等终端产品的小型化、高集成化发展,引线框架往超薄化方向演进,对曝光的精度和灵活性要求不断提升,公司积极推动蚀刻工艺对传统冲压工艺的替代,已覆盖立德半导体、龙腾电子等下游客户。随着新能源汽车、物联网等领域的发展以及半导体封装材料国产化的推进,公司相关产品增长潜力较大。

(4)掩膜版制版:随着我国半导体芯片行业、平板显示行业、触控行业等下游应用领域的产品迭代升级加速,掩膜版行业景气度持续上行,国产替代成为了当前行业的重要趋势。公司首台满足量产90nm节点制版需求的掩膜板制版设备已在客户端验证,公司也将推进90nm-65nm制版光刻设备的研究进程,以满足半导体掩膜版技术的更新迭代。

(5)新型显示:Mini/Micro-LED等新型显示面板器件数量繁多且线间距密集,对焊盘公差、外观形状、阻焊图形精度、阻焊开口尺寸及油墨外观均有较高要求,为直写光刻设备应用创造了市场机遇。在Mini/Micro-LED 阻焊层曝光中,直写光刻技术为未来主流方向,公司以NEX-W(白油)机型为重点,以点带面切入客户供应链,为Mini-LED的COB和COG,以及其他白油的防焊制程提供高产能、高精度、精细开窗、小侧蚀和高反射率的解决方案。目前已开拓维信诺、辰显光电、沃格光电等优质客户,报告期内公司积极切入头部客户京东方供应链,加强大客户战略布局,目前屏幕传感器 RTR设备已发货至京东方,LCD制程曝光打码量产设备也即将出货。获得国际头部显示客户京东方的订单将为公司注入强大增长动力,为公司后续业务的持续拓展奠定了坚实的基础。

(6)推进前沿技术研发,打造新增长极
作为技术创新驱动型公司,报告期内公司积极推进前沿技术研发,加快新品开发,紧握多重行业机遇。2024年4月,公司推出了键合制程解决方案,成功研制新品WA 8晶圆对准机与WB 8晶圆键合机,此两款设备均为半导体加工过程中的关键设备。公司布局键合机,彰显研发实力强大,具备明显的先发优势。目前,公司在先进封装领域布局了直写光刻设备+晶圆对准机+晶圆键合设备,此外,也布局了先进封装所需要的量测、曝光、检测的技术路线图,期待与半导体产业界客户进行更紧密的合作。公司通过半导体加工过程中关键设备的布局,积极布局先进封装平台型企业,在先进封装设备国产化的大势之下打造新增长极。

3、 践行以价值创造为本的理念,持续推进股东回报计划
公司高度重视对投资者的合理回报,始终坚持将股东利益放在重要位置。一直以来,公司坚持夯实主业,努力提高经营业绩,根据自身发展阶段、行业特性、盈利能力及重大资金使用计划,严格按照《公司章程》及相关法律法规制定分红政策,实施分红方案,为投资者带来长期稳定的投资回报。

2023年度,综合考虑投资者的回报需求和公司的长远发展,公司以总股本131,419,086股扣除回购股份477,322股后的股份数量130,941,764股为基数,向全体股东每股派发现金红利0.80元(含税),合计派发现金红利104,753,411.20元(含税),占2023年度合并报表归属于上市公司股东净利润的58.42%,全体股东共享公司发展红利。同时,公司将建立与实施一系列制度与措施,强化管理层与股东的利益共担共享机制,激发管理层的积极性和创造力,推动公司的长远发展。

4、 实施股份回购计划,坚决落实“提质增效重回报”行动
基于对公司未来发展的信心和对公司长期价值的认可,为了维护广大投资者利益,增强投资者对公司的投资信心,促进公司健康可持续发展,2024年2月,公司实际控制人、董事长程卓女士提议通过集中竞价交易方式进行股份回购,截至2024年7月19日,公司已实施完成本次股份回购,实际回购公司股份477,322股,占公司总股本131,419,086股的比例为0.3632%,支付的资金总额为人民币30,016,900.65元(不含印花税、交易佣金等交易费用)。本次回购股份有利于形成上市公司和股东的“双赢”格局,维护广大投资者利益,增强投资者对公司的投资信心,促进公司长期健康发展。

5、推动数智化转型,全面提升运营管理能力
公司持续深化数智化变革,通过数据底座建设、管理信息系统等数智化工具,规范公司精益标准及业务流程,实现数据治理、业务赋能,全面提升公司整体运营管理水平。

报告期内,公司大力建设覆盖研发、制造、供应链、销售、客服、财务、人力资源等多个维度的信息化平台体系,借力数智化工具,建设一体化高效运营平台,优化业务流程,提升产品质量,降低成本,增强客户黏性和满意度,进一步践行以客户为中心的核心价值观。

在研发管理方面,公司加速IPD项目执行,推动全流程标准化落地,优化了技术开发、产品开发的方法、流程及制度,持续推进产品平台建设和矩阵式管理,保证新产品开发成功率,构筑技术、产品和解决方案的强有竞争力。同时公司进一步完善PLM研发管理信息化系统,加强研发管理,提升研发效率与业务协同能力;持续推进知识产权保护,加强核心技术专利的系统布局,为公司的可持续快速发展奠定基础。

在客户沟通与管理方面,积极建立健全CRM系统,通过市场获客、客户跟进、商机、销售、售后等流程的系统性可视化跟进,推进客户信息管理一体化建设,优化销售和服务流程,提高运 营效率,深度挖掘客户价值,提升客户满意度和忠诚度,助力公司更高效地管理客户关系,提升 销售业绩和运营效率; 在智能制造领域,公司以构建精益制造、智能制造为目标,引入精益管理变革,加快推进供 应链SRM系统和仓储WMS系统建设,优化仓库运营,提高存储和分发效率,通过开发一站式采购 协同管理平台,搭建采购需求管理中心,为高效率、高质量、绿色、智能制造打下坚实基础。 6、发布品牌升级战略,共创AI数智未来 作为新质生产力的典型代表,公司自从创立以来,掌握直写光刻核心技术,坚持科技创新、 追求高质量发展、打造硬科技实力、注重高效能与高质量发展,抢抓机遇,为泛半导体与PCB行 业客户产业结构转型的升级、配置的优化、整体竞争力的提升,持续赋能助力。2024年5月,公 司全新升级了品牌LOGO,赋予了品牌元素更深远的精神意义,阐述了公司的工业创新属性与深厚 科技底蕴。新识别标志增强了公司整体品牌形象、市场认知度,展现了公司持续高质量创新发展 的能力,以全新的品牌形象迎接AI时代的到来。品牌升级也象征芯碁不断努力攀登,持续技术创 新和产品迭代,助力行业发展的意义。 公司坚持走一公分宽,一公里深的专、精、特、新之路,并且秉持以客户为中心的企业文化, 期待与协会、客户以及产业界支持的伙伴继续共创数智未来。

二、 核心技术与研发进展
1. 核心技术及其先进性以及报告期内的变化情况
公司在微纳直写光刻核心技术领域具有丰富的技术积累,持续在系统集成技术、光刻紫外光学及光源技术、高精度高速实时自动对焦技术、高精度高速对准多层套刻技术、高精度多轴高速大行程精密驱动控制技术、高可靠高稳定性的ECC技术、高速实时高精度图形处理技术和智能生产平台制造技术等前沿科技领域投入研发力量,持续构建高端装备在“光”、“机”、“电”、“软”、“算”的技术护城河。截至2024年上半年,公司累计获得授权专利187项,直写光刻设备的总装机量超过1,500台,具有丰富的产业化应用经验。公司2022年度向特定对象发行A股募集资金用于“直写光刻设备产业应用深化拓展项目”及“关键子系统、核心零部件自主研发项目”等,持续加码核心设备研制能力。

公司专注服务于电子信息产业中PCB领域及泛半导体领域的客户,通过优秀产品帮助客户在提升产品品质和降低生产成本的同时实现数字化、无人化、智能化发展。报告期内,公司保持核心技术的先进性,积极把握下游PCB制造业的发展趋势,产品矩阵全面覆盖,聚焦HDI板、大尺寸MLB板、类载板、IC载板等高端线路板,顺应高端化趋势。针对线路层曝光,公司推出多系列产品覆盖下游不同类型中高端PCB生产需求。MAS系列可应用于各类PCB产品线路曝光中,最小线宽可达12μm-35μm;RTR系列为高性能、卷对卷直接成像系统的明星单品,采用高精度的成像和定位系统结合卷对卷上下料系统,为FPC制程提供完美的解决方案。针对阻焊层曝光,公司不断提升PCB阻焊产品性能,产能得到大幅度提升,能够迅速进行传统替代。2024年5月,公司发布钻孔系列新品MCD 75T,可实时位置校准,实时孔型检测,实时能量监控,对位和补偿算法与LDI相通,提高了微孔与线路的位置精度。国际化战略方面,公司加大了对东南亚地区的市场布局,以泰国、越南地区为主,积极融入全球化的竞争格局,力争成为微纳直写光刻领域的国际领先企业。

公司在泛半导体领域多点开花,直写光刻技术应用拓展不断深化,加快自身研发及市场推广进程,与各个细分领域头部客户进行战略合作,在手订单保持较快增长。载板方面,市场表现良好,同比增速较快,其中MAS4设备已经实现4μm的精细线宽,达到海外一流竞品水平。2024年5月,公司推出IC载板解决方案新品MAS 6P、NEX 30。MAS 6P系列拥有业内领先的二次成像技术,可应用于高阶HDI(包括 mSAP)和IC载板量产。NEX 30系列作为阻焊DI性能标杆,为ICS & SLP载板阻焊首选;先进封装方面,晶圆级与面板级封装设备均有布局,在再布线、互联、智能纠偏、适用大面积芯片封装等方面都很有优势;掩膜版制版方面,LDW系列满足90nm制程节点的掩膜板制版设备在客户端验证顺利,技术参数行业领先;新型显示方面,以NEX-W机型为重点,切入客户供应链,推动该领域内的市场销售放量;新能源光伏方面,公司积极推动直写光刻设备在光伏领域的产品开发及产业化验证力度,在HJT/Topcon/XBC等新型太阳能电池技术领域中不断发展。公司在该领域同时储备直写与非直写技术方案,已和多家电池头部企业开展积极合作,并获得国内外光伏企业客户认可。此外,公司将配合下游市场需求提供图形一体化方案,未来将随着电镀铜技术成熟将迎来新的扩张空间。

作为技术创新驱动型公司,报告期内公司积极推进前沿技术研发,加快新品开发,紧握多重行业机遇。2024年4月,公司推出了键合制程解决方案,成功研制新品WA 8晶圆对准机与WB 8晶圆键合机,此两款设备均为半导体加工过程中的关键设备。公司率先推出键合机,彰显研发实力强大,具备明显的先发优势。此外,公司也布局了先进封装所需要的量测、曝光、检测的技术路线图。公司通过半导体加工过程中关键设备的布局,积极布局先进封装平台型企业,在先进封装设备国产化的大势之下打造新增长极。

公司始终秉承“成为国产光刻机世界品牌”的奋斗目标,在“依托自有核心技术,加大研发力度,开拓新型应用领域”及“整合行业资源,打造高端装备产业供应链”的战略发展方向下,专注于微纳直写光刻设备领域,围绕自身技术优势,结合行业发展趋势,持续进行产品研发创新,通过多年的技术积累及产业融合,公司已发展成为国产高端装备供应商,相关技术指标已比肩国际厂商。


国家科学技术奖项获奖情况
□适用 √不适用

国家级专精特新“小巨人”企业、制造业“单项冠军”认定情况
√适用 □不适用

认定主体认定称号认定年度产品名称
工业和信息化部国家级专精特新“小巨人”企业  
    


2. 报告期内获得的研发成果
报告期内,公司新增获得21项研发成果,其中发明专利5项,实用新型专利13项,外观设计专利1项,软件著作权2项。

报告期内获得的知识产权列表


 本期新增 累计数量 
 申请数(个)获得数(个)申请数(个)获得数(个)
发明专利14520170
实用新型专利1513134109
外观设计专利11108
软件著作权024646
其他0000
合计3021391233

3. 研发投入情况表
单位:元

 本期数上年同期数变化幅度(%)
费用化研发投入48,934,569.5438,851,978.2725.95
资本化研发投入000
研发投入合计48,934,569.5438,851,978.2725.95
研发投入总额占营业收入比例(%)10.8912.19减少1.30个百分点
研发投入资本化的比重(%)000
(未完)
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