[中报]赛微电子(300456):2024年半年度报告

时间:2024年08月26日 23:16:44 中财网

原标题:赛微电子:2024年半年度报告

证券代码:300456 证券简称:赛微电子 公告编号:2024-071 北京赛微电子股份有限公司
2024年半年度报告

2024年 08月
第一节 重要提示、目录和释义
公司董事会、监事会及董事、监事、高级管理人员保证半年度报告内容的真实、准确、完整,不存在虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏,并承担个别和连带的法律责任。

公司负责人杨云春、主管会计工作负责人张阿斌及会计机构负责人(会计主管人员)霍夕淼声明:保证本半年度报告中财务报告的真实、准确、完整。

所有董事均已出席了审议本次半年报的董事会会议。

本半年度报告中涉及的未来计划、发展战略等前瞻性陈述,不构成公司对投资者的实质承诺,请投资者注意投资风险。公司已在本报告第三节“管理层讨论与分析”第十项“公司面临的风险和应对措施”章节中,对可能面临的风险及对策进行了详细描述,敬请广大投资者留意查阅。

本公司请投资者认真阅读本半年度报告全文,并特别注意下列风险因素: 1、国际局势及汇率波动风险
自二战之后,特别是上世纪八九十年代以来,全球化发展日益加速,已成为时代发展的重要特征和显著标志,国家
之间在经济、政治、文化、社会等方面的交流程度大幅提升,在加速科技进步和生产力发展的同时,也使得民族国家的
利益面临着多元化的冲击和挑战,最终导致民族主义情绪的累积并在近年来显著抬头,右翼民粹主义、反全球化主义、
贸易保护主义、本土主义等主张在全球,尤其是欧美国家泛起,引发国际局势紧张及日趋复杂化,对跨国经营的企业提
出诸多新的挑战。公司同时持有境内外资产及业务,近年来直接源自境外营业收入的比例处于高位,2021-2023 年及
2024 年上半年的比例分别为 75.66%、74.64%、50.04%、64.14%,且公司部分原材料采购以及 MEMS 主业的部分机器设备
采购亦采用外币结算,日常涉及美元、欧元、瑞典克朗、日元、人民币等货币。因此,公司日常经营活动客观上面临着
国际政治经济局势剧烈变化的风险,随之而来的还包括因汇率大幅波动对公司报表业绩(以人民币计算)产生较大影响
的风险。

2、新兴行业的创新风险
公司现有MEMS主业属于国家鼓励发展的高技术产业和战略性新兴产业,同时也是国家“十四五”规划纲要中的科技
前沿攻关领域,该产业技术进步及迭代迅速,要求行业参与者不断通过新技术/工艺的研究和新产品的开发以应对下游需
求的变化。如公司对新技术/工艺、新产品的投入不足,或投入方向偏离行业创新发展趋势或未能符合重要客户需求的变
化,将会损害公司的技术优势与核心竞争力,从而给公司的市场竞争地位和经营业绩带来不利影响;此外,近年来,公
司研发费用支出的绝对金额以及占营业收入的比重均处于高位,2021-2023 年及 2024 年上半年,公司研发费用分别高达
2.66亿元、3.46 亿元、3.57 亿元、1.81 亿元,占营业收入的比重分别高达 28.69%、44.01%、27.44%、32.91%,而研发
活动本身存在一定的不确定性,公司还存在研发投入不能获得预期效果从而影响公司盈利能力的创新风险。

3、行业竞争加剧的风险
公司 MEMS 主业直接参与全球竞争,竞争对手既包括博世、博通、TDK、惠普、意法半导体、德州仪器等 IDM 企业,
也包括 Teledyne MEMS、台积电(TSMC )、X-FAB Silicon Foundries、索尼(SONY )、IMT(Innovative Micro
Technology,后更名为Atomica Corp.)等 MEMS 代工企业,以及芯联集成、上海先进、华虹宏力、华润微、士兰微等国
内含 MEMS 业务的企业。MEMS 属于技术、智力及资金密集型行业,涉及电子、机械、光学、医学等多个专业领域,技术
开发、工艺创新及新材料应用水平是影响企业核心竞争力的关键因素。若公司不能正确判断未来市场及产品竞争的发展
趋势,不能及时掌控行业关键技术的发展动态,不能坚持技术创新或技术创新不能满足市场需求,将存在技术创新迟滞、
竞争能力下降的风险。

4、政府补助风险
公司 MEMS 主业在国际上属于新兴科技创新领域,在我国也属于国家鼓励发展的高科技行业(于2021 年3 月被纳入
《中华人民共和国国民经济和社会发展第十四个五年规划和 2035 年远景目标纲要》中的科技前沿攻关领域)。近年来,
公司已陆续获得数笔与主营业务相关的政府补助。2021-2023 年及 2024 年上半年,公司计入当期损益的政府补助金额分
别为 1.31 亿元、1.38 亿元、1.07 亿元、0.08 亿元,占当期利润总额绝对值的比例分别为66.51%、80.34%、335.69%、
10.49%,对2021-2023年公司经营业绩构成重大影响,对2024年上半年公司经营业绩构成一定影响。虽然通过政策支持、
资金补贴、税收优惠和低息贷款等措施大力支持半导体行业(尤其是晶圆制造环节)的发展属于国际通行做法,但公司
在后续财务报告期间能否持续取得政府补助、涉及多少金额、会计处理方法等均存在不确定性,因此公司存在经营业绩
受政府补助影响、影响大小不确定的风险。

5、募集资金运用风险
公司募集资金投资项目综合考虑了当时的市场状况、技术水平及发展趋势、产品及工艺、原材料供应、生产场地及
设备采购等因素,并对其可行性进行了充分论证,但如果国内外的行业环境、市场环境等情况发生突变,或由于项目建
设过程中的主客观因素影响,将会给募集资金投资项目的实施带来不利影响,存在募集资金投资项目不能顺利实施、不
能达到预期收益、折旧摊销影响经营业绩的风险。

对于“8英寸MEMS国际代工线建设项目”,其基于下游市场需求正在持续扩充MEMS代工产能,但在瑞典Silex向赛莱克斯北京出口MEMS技术和产品的许可申请被瑞典ISP否决、公司境内工厂从瑞典Silex引入技术变得困难的背景下,
公司北京FAB3需要依靠自身积累工艺,自主推动从工艺开发到产品验证、规模量产的业务过程,时间周期及产能消化速
度的不确定性提高,而下游特定市场的需求波动也容易导致部分MEMS产品从工艺开发、风险试产转入规模量产的节奏发
生变化。因此,北京 FAB3 在客观上存在新增 MEMS 代工产能短期无法消化、相关投资所形成资产在一定时期内闲置或部
分闲置的风险。

对于“MEMS 先进封装测试研发及产线建设项目”,由于 MEMS 封测业务属于向产业链下游延伸的新拓展业务,公司并
无法确保在MEMS晶圆制造环节积累的客户会将其封装测试业务交由公司进行,且封装测试业务的取得也需要经历客观的
产能建设、工艺验证过程,潜在客户向现实客户转化的概率与周期均存在不确定性,公司与潜在客户形成稳定的供货关
系的时间与封测项目的产能释放节奏难以形成预期中的匹配关系。因此,公司MEMS先进封装测试研发及产线在客观上存
在新建MEMS封测产能短期无法消化、相关投资所形成资产在一定时期内闲置或部分闲置的风险。

对于“MEMS 高频通信器件制造工艺开发项目”,在内外部资源的共同支持下,公司相关子公司在自主开发及商业活
动中同步成功积累了相关工艺,高频通信MEMS器件的相关研发、制造工作同步获得开展,相关制造工艺成功解决。截至
2024 年 6 月30 日,该项目已达到预定可使用状态,该募投项目的研发目标均已实现、已取得相关技术成果并在商业活
动中进行应用。

本公司从事集成电路相关业务,近年来的公司业绩对政府补助构成一定程度的依赖。

公司计划不派发现金红利,不送红股,不以公积金转增股本。


目录
第一节 重要提示、目录和释义 .............................................. 1 第二节 公司简介和主要财务指标............................................. 7 第三节 管理层讨论与分析 ................................................. 10 第四节 公司治理 ........................................................ 52 第五节 环境和社会责任 ................................................... 55 第六节 重要事项 ........................................................ 59 第七节 股份变动及股东情况 ............................................... 66 第八节 优先股相关情况 ................................................... 71 第九节 债券相关情况 ..................................................... 72 第十节 财务报告 ........................................................ 73
备查文件目录
一、载有公司负责人、主管会计工作责任人、会计机构负责人(会计主管人员)签名并盖章的财务报表。

二、报告期内公开披露过的所有公司文件的正本及公告的原稿。

三、载有法定代表人签名的2024年半年度报告文本原件。

以上备查文件备置地点:公司证券投资法务部。


释义

释义项释义内容
赛微电子、公司、本公司北京赛微电子股份有限公司,原名称"北京耐威科技股份有限公司",原简称"耐威科 技"
赛莱克斯国际北京赛莱克斯国际科技有限公司,原为北京瑞通芯源半导体科技有限公司,系本公司 全资子公司
赛莱克斯北京赛莱克斯微系统科技(北京)有限公司,原为纳微矽磊国际科技(北京)有限公司, 系赛莱克斯国际控股子公司
赛莱克斯、瑞典SilexSilex Microsystems AB,注册在瑞典的公司,为赛莱克斯国际间接控股的全资子公 司,从事微机电系统(MEMS)产品工艺开发及代工生产业务
运通电子、GAE运通电子有限公司(GLOBAL ACCESS ELECTRONICS LIMITED),为赛莱克斯国际100%持 股的在香港设立的控股型公司,持有Silex 87.80%的股权
瑞典Silex国际Silex Microsystems International AB,系瑞典Silex的全资子公司
微芯科技北京微芯科技有限公司,系本公司全资子公司
极芯传感北京极芯传感科技中心(有限合伙),系本公司控股合伙企业
中科赛微北京中科赛微电子科技有限公司,系微芯科技控股子公司
赛积国际北京赛积国际科技有限公司,原为北京聚能海芯半导体制造有限公司,系本公司全资 子公司
海创微芯北京海创微芯科技有限公司,系微芯科技控股子公司
光谷信息武汉光谷信息技术股份有限公司,新三板挂牌公司,股份代码430161,系本公司参股 子公司
北斗产业基金湖北北斗产业创业投资基金合伙企业(有限合伙),系本公司参股合伙企业
青岛半导体产业基金青岛海丝民合半导体投资中心(有限合伙),系本公司参股合伙企业
国家集成电路基金国家集成电路产业投资基金股份有限公司
飞纳经纬飞纳经纬科技(北京)有限公司,系本公司控股子公司
赛莱克斯深圳赛莱克斯微系统科技(深圳)有限公司,系赛莱克斯国际控股子公司
海创微元北京海创微元科技有限公司,系本公司控股子公司
赛微私募基金北京赛微私募基金管理有限公司,原名称为北京赛微股权投资管理有限公司,系本公 司参股子公司
吉姆西吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司,系微芯科技参股子公司
阿基米德阿基米德半导体(合肥)有限公司,系本公司参股子公司
展诚科技青岛展诚科技有限公司,系微芯科技参股子公司
北京传感基金北京北工怀微传感科技股权投资基金(有限合伙),系本公司参股合伙企业
科莱恩特深圳科莱恩特科技合伙企业(有限合伙),系微芯科技参股合伙企业
ODI境外直接投资(ODI,Overseas direct investment)是指我国企业、团体在国外及港 澳台地区以现金、实物、无形资产等方式投资,并以控制国(境)外企业的经营管理 权为核心的经济活动
FDI外国直接投资(Foreign Direct Investment),是指一国的投资者将资本用于他国的 生产或经营,并掌握一定经营控制权的投资行为
SEB瑞典北欧斯安银行(Skandinaviska Enskilda Banken,SEB)是瑞典银瑞达集团核心 投资的银行之一,也是北欧最大的金融集团之一
Nordea瑞典北欧联合银行(Nordea Bank of Estonia,Nordea)是整个北欧与波罗的海地区 重要的金融服务集团
集成电路、ICIntegrated Circuit,一种微型电子器件或部件。采用一定的工艺,把一个电路中所 需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导 体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构
IDMIntegrated Device Manufacturer,整合器件制造商,又称为集成器件制造商,指自 行进行芯片的设计、制造及封测,掌握芯片设计与生产制造工艺的半导体公司
MEMS、微机电系统Micro-Electro-Mechanical Systems 的缩写,即微电子机械系统,简称为微机电系
  统,是指由基于 Micro-machining 技术制造的微传感芯片(或微执行芯片),和控制 /处理芯片(ASIC)组成的微型电子机械系统,MEMS 能够将信息的获取、处理和执行 集成在一起,是一种将微电子技术与微机械工程融合到一起、具有多功能的工业技术 及相应的集成系统。MEMS 能够大幅度地提高系统的自动化、智能化水平
晶圆硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上 可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之 IC 产品
英寸
DRIE,深反应离子刻蚀Deep Reactive Ion Etching,深反应离子刻蚀,基于氟基气体的高深宽比的干法硅 刻蚀技术,同时使用物理与化学作用进行刻蚀。该技术不仅可将等离子的产生和自偏 压的产生分离,而且采用了刻蚀和钝化交替进行的工艺,实现对侧壁的保护,能够实 现可控的侧向刻蚀,大大提高了刻蚀的各向异性特性,是超大规模集成电路工艺中很 有发展前景的一种刻蚀方法
PEPlasma Etching,等离子刻蚀,是指采用高频辉光放电反应,使反应气体激活成活性 粒子,与被刻蚀材料进行反应形成挥发性反应物从而造成蚀刻
Dry Etching干法刻蚀,刻蚀的一种工艺,是指用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。干法刻蚀又分为 物理性刻蚀、化学性刻蚀、物理化学性刻蚀
Wet Etching湿法刻蚀,刻蚀的一种工艺,是指用液体化学试剂以化学方式去除硅片表面材料的技 术
Sputtering自限性反应,是指只发生在反应物和基体表面的反应。反应物吸附在基体上,然后第 二种气体进入并与基体化学吸附成膜的一种反应方式
MOCVDMetal-Organic Chemical Vapour Deposition,金属有机化学气相沉积,是在基板上 生长半导体薄膜的一种技术
GaN氮化镓,氮和镓的化合物,是一种新型半导体材料,适合于制造光电子、高温大功率 器件和高频微波器件
控股股东、实际控制人杨云春
元/万元人民币元/万元
证监会、中国证监会中国证券监督管理委员会
交易所、深交所深圳证券交易所
章程、公司章程北京赛微电子股份有限公司章程
报告期2024年1月1日至2024年6月30日

第二节 公司简介和主要财务指标
一、公司简介

股票简称赛微电子股票代码300456
股票上市证券交易所深圳证券交易所  
公司的中文名称北京赛微电子股份有限公司  
公司的中文简称(如有)赛微电子  
公司的外文名称(如有)Sai MicroElectronics Inc.  
公司的外文名称缩写(如有)SMEI  
公司的法定代表人杨云春  
二、联系人和联系方式

 董事会秘书证券事务代表
姓名张阿斌孙玉华
联系地址北京市西城区裕民路18号北环中心A座 2607室、北京市北京经济技术开发区科 创八街21号院1号楼北京市西城区裕民路18号北环中心A座 2607室、北京市北京经济技术开发区科创 八街21号院1号楼
电话010-82252103010-82251527
传真010-59702066010-59702066
电子信箱[email protected][email protected]
三、其他情况
1、公司联系方式
公司注册地址、公司办公地址及其邮政编码、公司网址、电子信箱等在报告期是否变化 □适用 ?不适用
公司注册地址、公司办公地址及其邮政编码、公司网址、电子信箱等在报告期无变化,具体可参见2023年年报。

2、信息披露及备置地点
信息披露及备置地点在报告期是否变化
□适用 ?不适用
公司披露半年度报告的证券交易所网站和媒体名称及网址,公司半年度报告备置地在报告期无变化,具体可参见2023年
年报。

3、注册变更情况
注册情况在报告期是否变更情况
□适用 ?不适用
公司注册情况在报告期无变化,具体可参见2023年年报。

四、主要会计数据和财务指标
公司是否需追溯调整或重述以前年度会计数据
□是 ?否

 本报告期上年同期本报告期比上年同期增减
营业收入(元)551,351,055.19396,907,735.4838.91%
归属于上市公司股东的净利润(元)-42,667,857.30-27,440,797.46-55.49%
归属于上市公司股东的扣除非经常性 损益的净利润(元)-48,606,837.18-61,965,834.5921.56%
经营活动产生的现金流量净额(元)141,413,022.351,426,331.009,814.46%
基本每股收益(元/股)-0.0583-0.0374-55.88%
稀释每股收益(元/股)-0.0583-0.0374-55.88%
加权平均净资产收益率-0.83%-0.55%-0.28%
 本报告期末上年度末本报告期末比上年度末增减
总资产(元)7,195,114,434.507,261,878,738.03-0.92%
归属于上市公司股东的净资产(元)5,063,251,977.805,162,100,953.14-1.91%
五、境内外会计准则下会计数据差异
1、同时按照国际会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况 □适用 ?不适用
公司报告期不存在按照国际会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况。

2、同时按照境外会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况 □适用 ?不适用
公司报告期不存在按照境外会计准则与按照中国会计准则披露的财务报告中净利润和净资产差异情况。

六、非经常性损益项目及金额
?适用 □不适用
单位:元

项目金额说明
非流动性资产处置损益(包括已计提资产减值准备的冲销部分)1,689,327.33 
计入当期损益的政府补助(与公司正常经营业务密切相关、符合 国家政策规定、按照确定的标准享有、对公司损益产生持续影响 的政府补助除外)7,505,670.61 
除上述各项之外的其他营业外收入和支出-2,998.89 
减:所得税影响额1,420,521.39 
少数股东权益影响额(税后)1,832,497.78 
合计5,938,979.88 
其他符合非经常性损益定义的损益项目的具体情况:
□适用 ?不适用
公司不存在其他符合非经常性损益定义的损益项目的具体情况。

将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为经常性损益
项目的情况说明
□适用 ?不适用
公司不存在将《公开发行证券的公司信息披露解释性公告第1号——非经常性损益》中列举的非经常性损益项目界定为
经常性损益的项目的情形。


第三节 管理层讨论与分析
一、报告期内公司从事的主要业务
(一)主要业务
公司是全球领先、国际化运营的高端集成电路芯片晶圆制造厂商,也是国内拥有自主知识产权和掌握核心半导体制
造技术的特色工艺专业芯片晶圆制造商。公司在国内外拥有多座中试平台及量产工厂,业务遍及全球,服务客户包括
DNA/RNA测序、光刻机、硅光子、AI计算、ICT、红外热成像、计算机网络及系统、元宇宙、新型医疗设备厂商以及各细
分行业的领先企业,涉及产品范围覆盖了通讯、生物医疗、工业汽车、消费电子等诸多应用领域。公司同时正在打造先
进的晶圆级封装测试能力,致力于为客户提供从工艺开发、晶圆制造到封装测试的系统化高端制造服务,努力发展成一
家立足本土、国际化经营的知名半导体制造领军企业。

报告期内,公司从事的主要业务为MEMS芯片的工艺开发及晶圆制造,以及部分半导体设备业务。同时,公司围绕半
导体主业持续开展产业投资布局,对实体企业、产业基金进行参股型投资。

报告期内,为公司贡献业绩的业务主要为MEMS芯片的工艺开发及晶圆制造。
1、MEMS业务
公司现有MEMS业务包括工艺开发和晶圆制造两大类:
公司MEMS工艺开发业务是指根据客户提供的芯片设计方案,以满足产品性能、实现产品“可生产性”以及平衡经济
效益为目标,利用工艺技术储备及项目开发经验,进行产品制造工艺流程的开发,为客户提供定制的产品制造流程。

公司 MEMS 晶圆制造业务是指在完成 MEMS 芯片的工艺开发,实现产品设计固化、生产流程固化后,为客户提供批量
晶圆制造服务。

2、半导体设备业务
近年来,为应对国际政治经济环境可能发生的极端变化,公司旗下子公司从境外战略性采购了多批次半导体设备进
行储备使用,根据公司业务发展的实际需要及环境变化,公司以全资子公司赛积国际为主体,开展了部分与半导体设备
相关的销售业务,在服务集团旗下 FAB 产线设备使用需要的同时,也根据市场需求服务于其他半导体制造企业,对外销
售半导体设备。

(二)经营模式
公司以成熟商业化运营的 MEMS 产线为基础,以专业技术及生产团队、核心专利技术、核心工艺设备、二十多年500
余项工艺开发项目经验为条件,通过为客户开发并确定特定MEMS芯片的工艺及制造流程获得工艺开发收入,通过以特定
MEMS 工艺为客户批量制造不同类别的芯片晶圆获得晶圆制造收入。同时,基于主要从境外采购的二手半导体设备,通过
确保设备的可靠性和专业的维修保养能力获得设备销售收入。

(三)主要业绩驱动因素
随着物联网生态系统的逐步发展落地、MEMS终端设备的广泛拓展应用、MEMS产业专业化分工趋势的不断演进,源自
通讯、生物医疗、工业汽车、消费电子等领域的 MEMS 芯片工艺开发及晶圆制造需求不断增长。公司全资子公司瑞典
Silex 是全球领先的纯 MEMS 代工企业并正在境外扩充产能;公司控股子公司赛莱克斯北京是国内领先的纯 MEMS 代工企
业,正在持续扩大晶圆品类及客户领域。

公司能够制造硅光子、微振镜、微透镜、红外、惯性、压力、气体、温湿度、微流控、谐振、滤波、硅麦、超声波、
微开关等MEMS芯片,以及采用MEMS集成工艺制造的各种射频无源器件和模块。公司MEMS晶圆产品的终端应用涵盖通讯、
生物医疗、工业汽车、消费电子等领域。

(四)所属行业发展情况
公司从事的主要业务MEMS业务属于集成电路的细分行业,根据中国证监会发布的《上市公司行业分类指引》及《国
MEMS 是微电路和微机械按功能要求在芯片上的一种集成,基于光刻、刻蚀等传统半导体技术,融入超精密机械加工, 并结合力学、化学、光学等学科知识和技术基础,使得一个毫米或微米级的MEMS具备精确而完整的机械、化学、光学等 特性结构。MEMS 行业系在集成电路行业不断发展的背景下,传统集成电路无法持续地满足终端应用领域日渐变化的需求 而成长起来的。随着微电子学、微机械学以及其他基础自然科学学科的相互融合,诞生了以集成电路工艺为基础,结合 体微加工等技术打造的新型芯片。随着终端应用场景的不断丰富,使得MEMS的应用越来越广泛,产业规模日渐扩大。 随着万物互联与人工智能的兴起,作为集成电路细分行业的MEMS获得了更广阔的市场空间和业务机会。传统的传感 器、执行器和无源结构器件逐步被替代,MEMS 技术的渗透率得以进一步提高。根据世界权威半导体市场研究机构 Yole 发布的《Status of the MEMS Industry 2024》,全球MEMS市场规模将由2023年的146亿美元增长至2029年的200亿 美元,CAGR(年均复合增长率)达到5%。 图片来源:Yole Development
(五)所属行业的周期性特点
集成电路行业处于电子产业链的上游,其发展受到下游终端应用的深刻影响,其行业发展速度与全球经济增速正相
关,呈现出周期性的波动趋势。近年来,随着行业分工的深化,集成电路设计、制造及封测各环节专业化程度显著提高,
行业整体能够更加准确地把握需求变动趋势、更有计划地控制产能规模及资本性支出、更加及时地对市场变化做出反应
及修正;同时,集成电路产业在社会其他行业的渗透日益深入,终端消费群体基数庞大,一定程度上抵消了经济周期的
影响,集成电路行业整体的周期性波动有所平滑。MEMS 行业作为基于集成电路技术演化而来的新兴子行业,其周期性与
集成电路行业相似;同时由于MEMS技术具有替代性、前沿性、创造性,其技术和产品的更新迭代持续为下游市场注入新
的活力,并引导下游突破现有瓶颈限制、持续激发创新、拓宽终端应用范围,推动社会经济有机增长,故其行业周期性
波动风险可得到有效降低。

公司MEMS主业所处半导体行业必然受到宏观经济周期的影响,但由于行业整体正处于成长阶段,所处的微观驱动环
境各有不同,且智能传感正是推动全球经济发展的新兴力量,其中MEMS更是技术变更与竞争的新兴领域,因此在当前阶
段,MEMS行业更多受自身发展周期的影响,受宏观经济周期的直接影响相对较小。

(六)公司所处的行业地位
公司全资子公司瑞典Silex是全球领先的纯MEMS代工企业,服务于全球各领域巨头厂商,且正在瑞典持续扩充产能; 同时公司控股子公司赛莱克斯北京已投入运营并持续推动产能爬坡,因此合理预计公司有望继续保持纯MEMS代工的全球 领先地位。根据Yole Development的统计数据,2012年至今,瑞典Silex在全球MEMS代工厂营收排名中一直位居前五, 与意法半导体(ST Microelectronics)、TELEDYNE DALSA、台积电(TSMC)、索尼(SONY)等厂商持续竞争,2019- 2023年则在全球MEMS纯代工厂商中位居第一,在2023年全球MEMS厂商综合排名中居第27位。随着公司境内外新增产 线及产能的陆续建设及投入使用,公司整体将继续保持在全球MEMS制造产业竞争中的第一梯队。 图片来源:Yole Development

公司需遵守《深圳证券交易所上市公司自律监管指引第4号——创业板行业信息披露》中的“集成电路业务”的披露要求
(一)集成电路行业发展状况及对公司未来经营业绩的影响
1、集成电路行业整体发展情况、行业政策及对公司的影响
MEMS 属于国家鼓励发展的高新技术产业和战略性新兴产业,是当前国际竞争和科技攻关的前沿热点。近年来,国家
颁布了多项鼓励支持集成电路行业的产业政策及措施。“十四五”规划纲要明确提出推动集成电路产业创新发展。2021
年,工信部印发《基础电子元器件产业发展行动计划(2021-2023 年)》,提出信息技术产业是关系国民经济安全和发展的
战略性、基础性、先导性产业,也是世界主要国家高度重视、全力布局的竞争高地。2023 年,中央经济工作会议精神进
一步指出:“要以科技创新推动产业创新,特别是以颠覆性技术和前沿技术催生新产业、新模式、新动能,发展新质生
产力。完善新型举国体制,实施制造业重点产业链高质量发展行动,加强质量支撑和标准引领,提升产业链供应链韧性
和安全水平。要大力推进新型工业化,发展数字经济,加快推动人工智能发展。广泛应用数智技术、绿色技术,加快传
统产业转型升级。加强应用基础研究和前沿研究,强化企业科技创新主体地位。”2024 年,工信部等七部门联合印发
《关于推动未来产业创新发展的实施意见》,提出加强部署“未来制造赛道”,突破智能控制、智能传感、模拟仿真等关
键核心技术,打造人形机器人、量子计算机、新型显示、脑机接口、6G 网络设备等创新标志性产品;人力资源社会保障
部等九部门发布《加快数字人才培育支撑数字经济发展行动方案(2024-2026 年)》,增加智能制造、大数据、区块链、
集成电路等数字技术人才供给;国家发改委等部门印发《关于做好2024年享受税收优惠政策的集成电路企业或项目、软
陆续出台的一系列相关政策,从关键技术研发、产业应用等角度大力支持促进行业发展,提供了良好的政策环境。

随着万物互联与人工智能的兴起,MEMS 产品种类增加、市场规模扩大,行业对产品生产周期的缩短及生产成本的降
低提出了更高要求,同时MEMS工艺研发费用迅速上升以及未来建厂费用高启促使更多的半导体厂商将工艺开发及生产相
关的制造环节进行拆分外包,纯 MEMS 代工厂与 MEMS 产品设计公司合作开发的商业模式有望成为未来主流行业业务模式。

类似于传统集成电路行业发展趋势,MEMS 产业有望逐步走向设计与制造分立、制造环节外包的主流模式。从趋势上看,
全球 MEMS 代工业务,尤其是纯 MEMS 代工业务将会快速扩张;从结构上看,纯 MEMS 代工业务在MEMS 代工业务中所占比
重将逐步升高。2012 年至今,公司在全球MEMS 代工厂营收排名中一直位居前五,公司当前的核心业务为MEMS 工艺开发
及晶圆制造。

因此,基于该细分行业整体发展长期向好的态势以及国家的长期战略政策支持,公司MEMS业务的进一步发展将继续
拥有良好的产业发展及政策支持环境。

2、MEMS主流技术水平、市场需求变化及对公司的影响
根据Yole Development的研究预测,全球MEMS行业市场规模将从2023年的146亿美元增长至2029年的约200亿美元,复合增长率(CAGR)达 5%,通讯、生物医疗、工业汽车及消费电子的应用增速均非常可观,其中通讯领域的复合
增长率高达 25%。预计到 2028 年,10 亿美元以上的 MEMS 细分领域包括射频器件(41.30 亿美元)、惯性测量单元 IMU
(25.56 亿美元)、压力传感器(24.90 亿美元)、加速度计(17.54 亿美元)、麦克风(14.36 亿美元)、光学器件
(13.04 亿美元)、定时器时钟(10.43 亿美元)、喷墨打印头(10 亿美元)。

MEMS 的生产制造使用了包括体微机械加工和表面微机械加工在内的微细加工技术,并结合沉积、光刻、键合、刻蚀
等集成电路工艺,在硅片上实现微型机械三维结构的构建,在保留器件机械性能的基础上大幅缩减了机械体积、降低了
能耗并提高了机械可靠性,同时可批量生产,大大降低生产成本。公司长期保持在全球MEMS晶圆代工第一梯队,同时代
表着业内主流技术水平。公司拥有覆盖 MEMS 领域的全面工艺技术储备,关键技术已经成熟并经过多年的生产检验,TSV、
TGV、SilVia、MetVia、DRIE及晶圆键合等技术模块行业领先。公司的核心工艺及技术水平状况如下:
核心工艺模块对应的生产环节效果/作用技术水平
硅通孔技术SilVia?TSV芯片互连、CMOS-MEMS 集成、先进封装在先进的三维集成电路中实现多层芯片之间的互 联,能够在三维方向使得堆叠度最大而外形尺寸最 小,提升芯片速度和低功耗性能国际领先
硅通孔金属层MetVia?TSV   
   国际领先
玻璃通孔MetVia?TGV   
   国际领先
深反应离子刻蚀DRIE刻蚀在硅衬底上刻蚀深沟槽和深孔国际领先
晶圆键合Wafer Bonding键合与退火将晶圆相互结合,使表面原子相互反应,产生共价 键合,让其表面间的键合能达到一定强度,使晶片 间无需媒介物而纯由原子键结为一体国际领先
压电材料Piezo material材料应用利用压电材料受压力作用在两端面间出现电压的特 性,实现机械能和电能的互相转换相对领先
MEMS磁性材料MagMEMS材料应用磁性材料内部由于磁化状态的改变而引起长度变 化,实现磁能和电能的互相转换相对领先
聚合物材料Polymer材料应用聚合物增强了断裂强度、具有低杨氏模量、延长断 裂时间和相对低成本,其具有惰性和生物相容的特 点,适于生物和化学应用相对领先
无铅焊锡电镀 Plating solders电镀利用电解作用使金属或其他材料的表面附着一层金 属膜,从而防止腐蚀,并提高耐磨性、导电性、反 光性等相对领先
封帽Capping圆片封盖密封形成机械结构所需的真空空间并保护晶圆避免受到 机械刮伤、高温破坏相对领先
由于 MEMS 应用场景及产品种类的多样性,对 MEMS 制造工艺的需求也体现出高度的定制化与复杂性,公司掌握的硅
通孔(TSV)、压电材料(PTZ)、晶圆键合工艺技术举例图示如下: 硅通孔(TSV)工艺技术图示 图片来源:半导体行业观察,瑞典Silex 厚硅晶圆TSV工艺技术图示 图片来源:赛莱克斯北京 压电材料(PTZ)工艺技术图示 图片来源:赛微电子,瑞典Silex
键合技术图示 图片来源:赛莱克斯北京
因此,在市场需求保持中长期旺盛态势、公司代表着业内主流技术水平的情况下,公司MEMS业务的进一步发展拥有
良好的市场及竞争要素。

3、MEMS核心技术、成本控制及公司竞争优劣势
MEMS 代工业务的本质是通过集成电路大规模、标准化工艺技术,实现各类传感器件的低成本制造,同时实现器件的
小体积与低功耗。作为全球领先的 MEMS 纯代工厂商,公司 MEMS 工艺开发及晶圆制造业务的主要生产技术类别及环节与
其他竞争厂商相比并无重大差异,公司的竞争优势更多地体现在通过长期实践,在制造工艺中集成了大量的专利技术
(IP)和技术诀窍(Know-how)。MEMS代工涉及的主要生产技术类别及环节具体如下:
主要技术具体内容使用的设备或技术
光刻除去晶圆表面薄膜的特定部分,主要分为涂胶、曝光、显 影、去除等步骤步进式光刻机、接触式光刻机
键合通过化学和物理作用将硅片与硅片、硅片与玻璃或其它材 料紧密地结合起来的方法。硅片键合往往与表面硅加工和 体硅加工相结合,被用于MEMS的加工工艺中阳极/熔融/热压/共晶键合
氧化退火氧化是在硅上形成二氧化硅,退火提高了温度使注入的掺 杂剂离子从晶格间迁移到晶格点FGA氧化退火炉
沉积采用物理和化学等方法在晶圆表面或近表面形成薄膜金属溅射机、二氧化硅/氮化硅等离子增 强化学气相沉积、物理气相淀积
干法刻蚀干法刻蚀的刻蚀剂为等离子体,利用等离子体和表面薄膜 反应,形成挥发性物质,或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀 的工艺深反应离子刻蚀(博世工艺);二氧化硅 /氮化硅/多晶硅/聚酰亚胺薄膜刻蚀、螺 旋波等离子体源二氧化硅刻蚀
湿法刻蚀通过化学刻蚀液和被刻蚀物质之间的化学反应将被刻蚀物 质剥离下来的刻蚀方法KOH 溶液湿法硅刻蚀、HNA 系统湿法硅刻 蚀、氮化硅湿法刻蚀
量测对加工中集体的电性/机械/化学/形貌/尺寸等参数进行测 量,用于控制工艺参数、较调生产设备、分析失效因素和 验证基本功能6吋及8吋全自动探针机台、显微镜
切割使用高速旋转的晶圆切割设备采用磨削的方式切割晶圆, 以使晶粒间得以切割分离全自动晶圆切割机
MEMS 制造上连产品设计,下接产品封测,是 MEMS 产业链中必不可少的一环。MEMS 产品类别多样、应用广泛,客户
定制化程度非常高,其生产采用的微加工技术强调工艺精度,属于资金、技术及智力密集型行业。与 CMOS 相比,MEMS
代工行业呈现出多品种、小批量的特点,同时对代工厂商的成本控制能力提出极高要求。

作为全球领先的MEMS纯代工厂商,公司在MEMS业务成本控制方面具有如下特点: A、形成了标准化、结构化的工艺模块
虽然MEMS产品的特殊性要求制造者为每种产品开发独特的工艺流程,但实践中许多工艺步骤是可为多种器件通用的。

公司以最大化利用工程资源为目标,提炼出多种可重复使用的工艺制程模块,将这些模块类别命名为“SmartBlock”。

标准工艺模块作为工艺集成规划的起点,再对单个产品的关键工艺开发、调整和优化,最后对单个产品开发特殊工艺或
材料。标准化的工艺模块加上调整优化后的关键工艺和特殊工艺能直接整合客户的产品,实现工艺标准化和规模量产定
制化相结合。

B、丰富的项目开发及代工经验
公司在历史经营期内参与了500余项MEMS工艺开发项目,与下游客户开展广泛合作,代工生产了包括微镜、光开关、
片上实验室、微热辐射计、振荡器、原子钟、压力传感器、加速度计、陀螺仪、硅麦克风等在内的多种MEMS产品。长期
实践中,公司严格按照新产品导入流程(NPI)进行项目管理,在产品复杂多样的环境下做好生产工艺的开发与管理;公
司团队自主开发的生产管理系统能够很好地对生产计划和制造过程进行整体控制,形成了一套行之有效的MEMS代工厂运
营管理办法。

C、建立量产工厂的成本控制体系
随着工艺开发向量产的并行转换、公司结合量产需要,采取相应的成本控制手段,一方面根据规模量产工厂的定位
要求逐步建立成本控制体系,另一方面则是积极扩大产品范围及客户群体,通过规模效应来实现边际业务成本的降低。

(二)报告期内集成电路制造业务情况
(1)晶圆厂基本情况
报告期内,公司在瑞典拥有一座成熟运转的MEMS晶圆工厂,内含两条8英寸产线;在北京拥有一座已建成运营、具备规模产能的MEMS晶圆工厂,内含一条8英寸产线;该两座晶圆工厂均处于持续扩产状态,其中瑞典产线通过添购部分
设备、收购半导体产业园区推动扩产,以满足相关客户的订单需求;北京产线则主要是陆续推动产能从当前的1.2万片/
月向3万片/月产能扩充,并持续扩大晶圆类别及客户领域。

上述MEMS产线的基本情况如下:

晶圆产线产品制程总体产能(片晶圆/年)期间产能(片晶圆)产能利用率生产良率
瑞典8英寸MEMS产线(FAB1&FAB2)0.25um-1um84,00042,00038.75%72.78%
北京8英寸MEMS产线(FAB3)0.25um-1um144,00072,00029.42%77.03%
注:1、瑞典 FAB1&FAB2在当前阶段的定位仍属于中试+小批量产线,其产能利用率及生产良率均受到工艺开发业务的
影响,工艺开发对产线的产能利用率天然低于晶圆制造业务,且产线与客户双方对开发试验阶段生产良率的容忍度一般
较高。由于本报告期瑞典 FAB1&FAB2仍处于复苏阶段,MEMS-OCS等高单价、低产量晶圆产品的收入占比提高,综合导致其产能利用率仍处于较低水平,生产良率处于正常区间。

2、北京 FAB3的定位属于规模量产线,已实现产能 12,000片晶圆/月,由于产线仍处于产能爬坡阶段,面向客户需求产
品的工艺开发、产品验证及批量生产需要经历一个客观过程,本报告期已实现量产的品类仍相对较少,大部分仍处于工
艺开发、产品验证或风险试产阶段。

3、由于 MEMS属于集成电路的特色工艺分支,考验制造厂商水平的主要因素是工艺、三维结构与功能,而不是单纯地
追求细线宽线距(二维);此外,由于 MEMS晶圆常常是 2个以上的晶圆键合在一起,因此上表产能数据中的单片“晶
圆”数在多数情况下为复合晶圆的个数。即一个 MEMS“晶圆”所蕴含的硅(或玻璃)晶圆数相当于多个(2个以上)
普通 CMOS晶圆,大幅增加了制造的难度和复杂性,“晶圆”生产数量的数值也少于一般集成电路行业。

4、单片晶圆可以制造的 MEMS芯片颗数因产品不同而存在巨大差异,平均而言每张 8英寸晶圆可以产出大约为 6英寸
晶圆 2倍数量的芯片,每张 12英寸晶圆可以产出大约为 8英寸晶圆 2.25倍数量的芯片。

(2)特色生产工艺
MEMS 属于集成电路行业中的特色工艺。公司 MEMS 业务经营采用“工艺开发+代工生产”的模式。“工艺开发(NRE)”模式,即 MEMS 代工厂商根据客户提供的芯片设计方案,以满足产品性能、实现产品“可生产性”以及平衡经
“代工生产(Foundry)”模式则是MEMS代工厂商在完成MEMS产品的工艺开发,实现产品设计固化、生产流程固化后, 为客户提供MEMS产品的批量代工生产服务。 图片来源:赛微电子 (3)在建晶圆厂和产线情况
截至报告期末,公司瑞典FAB1&FAB2出于业务需要,通过添购关键设备、收购半导体产业园区继续提升现有产线的
整体产能;公司北京 FAB3 在继续推进一期规模产能(1 万片/月)爬坡的同时,继续开展二期规模产能(2 万片/月)的
建设,实现产能的逐步扩充。截至本报告披露日,北京 FAB3 已实现硅麦克风、BAW 滤波器、微振镜、超高频器件的量产,
正在进行小批量试产 MEMS 气体传感器、生物芯片、惯性加速度计、惯性测量单元(IMU)等,同时对于压力、温湿度、
硅光子、振荡器、3D 硅电容、超声波换能器、喷墨打印头、磁性传感器等 MEMS 芯片、器件及模块,正积极从工艺开发
向验证、试产、量产阶段推进。
(三)宏观需求分析
全球传感器行业市场规模达数千亿美元,而基于MEMS工艺批量生产的传感器件凭借其功耗低、体积小、性能出色等
特点可以在各个行业和领域应用并逐步对传统传感器件进行替代。预计未来随着MEMS产品应用领域的不断延伸,其市场
规模将迅速扩大。在移动终端上,硅麦克风、惯性传感器已被广泛采用,且耗用量仍在不断上升;另外,随着MEMS产品
在医疗设备、工业设备、汽车电子、消费类电子等领域应用的推广和普及,市场对超声、压力、微针、芯片实验室、红
外、硅光子、射频前端、振镜、超声波换能、气体等MEMS器件的需求也在迅速提升;此外,物联网、可穿戴等创新设备
对器件形态便捷化、微型化需求也将成为推动MEMS发展的新力量。

MEMS 器件目前被广泛应用于消费电子、汽车电子、工业与通讯、生物与医疗等行业。受益于 5G 通信、人工智能、
移动互联网(智慧城市、智慧医疗、智慧安防)、光电通信、自动工业控制等市场的高速成长,MEMS 行业发展势头强劲。

根据Yole Development的研究预测,全球MEMS行业市场规模将从2023年的146亿美元增长至2029年的约200亿美元,
CAGR 达 5%,通讯、生物医疗、工业汽车及消费电子的应用增速均非常可观,其中通讯领域的复合增长率高达25%。预计
到 2028 年,10 亿美元以上的MEMS 细分领域包括射频器件(41.30 亿美元)、惯性测量单元 IMU(25.56 亿美元)、压力
传感器(24.90 亿美元)、加速度计(17.54 亿美元)、麦克风(14.36 亿美元)、光学器件(13.04 亿美元)、定时器时
钟(10.43 亿美元)、喷墨打印头(10 亿美元)。

(四)国内外主要行业公司
MEMS 芯片制造处于产业链的中游,该行业根据设计环节的需求开发各类 MEMS 芯片的工艺制程并实现规模生产,兼
具资金密集型、技术密集型和智力密集型的特征,对企业资金实力、研发投入、技术积累等均提出了极高要求。经历汽
车电子、消费电子、物联网三次发展浪潮,MEMS 芯片制造行业已形成较为稳定的市场竞争格局,瑞典 Silex、TELEDYNE
MEMS、台积电(TSMC)、X-FAB、索尼(SONY)长期保持在全球MEMS 代工第一梯队,合计占据着50%左右的市场份额。目
前,公司控股子公司赛莱克斯北京投资建设的规模量产线“8 英寸 MEMS 国际代工线”已投入运营,此外国内正在建设运
营MEMS代工线的公司主要有芯联集成电路制造股份有限公司、广州增芯科技有限公司、上海先进半导体制造有限公司、
无锡华润上华科技有限公司、上海华虹宏力半导体制造有限公司、杭州士兰微电子股份有限公司等。

(五)发展战略及经营计划
公司的长期发展战略为:基于当前国际局势紧张及日趋复杂化的考量,对于经济全球化与国际产业链分工协作可能
面临的挑战,公司同时在境内外布局建立兼具“工艺开发”与“晶圆制造”功能的制造产线,以同时满足境内外客户的
不同需求,致力于形成可支持“内循环”、兼顾“双循环”的代工服务体系;同时积极进行产业投资布局,最终致力于
成为立足本土、国际化发展的知名半导体科技企业集团。

公司继续落实总体发展战略及董事会制定的经营方针,以技术及市场为导向,聚焦发展MEMS业务,统筹MEMS业务板块各项资源,在研发、生产、市场等方面进行全面加强,继续提高境内外MEMS产线的产能及业务承接能力。

(六)报告期内的新产品或新工艺
公司MEMS主业继续投入研发,继续升级硅通孔(TSV)、玻璃通孔(TGV)、晶圆键合、深反应离子刻蚀等多项工艺技
术和工艺模块,持续研发硅光子、微振镜、微透镜、红外、惯性、压力、气体、温湿度、微流控、谐振、滤波、硅麦、
超声波、微开关等各型 MEMS 芯片的生产制造工艺,一方面为持续提高产线技术水平,满足不断新增的 MEMS 工艺开发及
晶圆制造需求;另一方面,基础及专项工艺技术的积累也将有利于北京8英寸MEMS产线扩大服务产品品类、推进产能及
良率爬坡。截至目前,该等工艺开发升级活动仍在持续进行中,将随着业务规模的增长不断应用并成熟,最终将有利于
加强公司在MEMS代工领域的国际领先竞争力。

二、核心竞争力分析
报告期内,公司持续进行技术创新和市场拓展,加大研发投入,进一步提升和扩大核心竞争力,主要表现在如下方面:
1、突出的全球竞争优势
公司MEMS业务均直接参与全球竞争且具备突出的竞争优势,公司MEMS业务发展积累了20余年,拥有世界先进的纯MEMS 代工工艺及正在扩张的代工产能,在 2019-2023 年全球 MEMS 纯代工厂商排名中公司全资子公司瑞典 Silex 均位居
第一,在2023年全球MEMS厂商综合排名中瑞典Silex排名第27位。

2、自主创新及研发优势
公司坚持自主创新战略,公司境内外研发团队围绕MEMS业务的关键技术进行了深入系统研究,自主研发并掌握了相
关工艺核心技术及相关产品的软硬件设计核心技术,不断扩大自主创新及技术研发成果。截至本报告期末,公司拥有各
项国际/国内软件著作权 97 项,各项国际/国内专利140 项,正在申请的国际/国内专利118 项(集成电路相关商标、软
著及专利明细列表详见本节“三、主营业务分析”之“研发投入情况”)。凭借技术研发经验和人才优势,公司具备承
担重要科研项目的能力,在MEMS工艺开发、晶圆制造等领域均积累了超过20年的丰富研发经验。

3、高端人才优势
公司MEMS主业属于国家鼓励发展的高新技术产业及战略新兴产业,专业的技术团队以及具有丰富从业经验、对行业
有深刻理解的管理层是企业可持续发展的保障。公司MEMS业务均拥有业界一流的专家与工程师团队,其中包括多名国家
特聘专家、十数名国际国内行业知名技术专家、数十名来自著名半导体企业和高校科研院所的技术团队以及专家顾问团
队。截至本报告期末,公司拥有博士 58 名,硕士 221 名,合计占公司总人数的 27.38%;公司研发及技术人员合计 379
名,占公司总人数的 37.19%;公司外籍员工合计415 名,占公司总人数的 40.73%。公司 MEMS 主业核心技术团队均是资
深专业人士,服务公司多年且经验丰富,CEO、首席技术专家和核心产品组经理从业时间均超过10年。

4、先进制造、工艺技术及项目经验优势
公司MEMS主业掌握了硅通孔、晶圆键合、深反应离子刻蚀等多项在业内具备国际领先竞争力的工艺技术和工艺模块。

公司拥有目前业界先进的硅通孔绝缘层工艺平台(TSI),通过MEMS技术在硅晶片上形成电介质隔离区域,利用DRIE实
现刻蚀高宽比和垂直侧壁,在硅片中形成沟槽并延伸贯通整个硅片,经过 TSI 处理后的晶圆将单晶硅用高质量的绝缘沟
槽进行隔离。截至目前,公司在 MEMS 领域已有10 年以上的量产历史、生产过超过数十万片晶圆、100 多种不同的产品,
技术可以推广移植到2.5D和3D圆片级先进封装平台。

公司在经营期内拥有500余项MEMS工艺开发经验,与下游客户开展广泛合作,代工生产了包括微镜、微针、硅光子、
片上实验室、微热辐射计、振荡器、原子钟、压力传感器、加速度计、陀螺仪、硅麦克风、气体、温湿度等在内的多种
MEMS 产品。长期实践中,公司严格按照新产品导入流程(NPI)进行项目管理,在产品复杂多样的环境下做好生产工艺
的开发与管理;公司团队自主开发的生产管理系统能够很好地对生产计划和制造过程进行整体控制,形成了一套行之有
效的MEMS代工厂运营管理办法。

5、境内外业务“双循环”体系优势
MEMS 属于集成电路行业中的特色工艺,公司MEMS 业务经营采用“工艺开发+晶圆制造”的模式。由于当前国际局势
紧张及日趋复杂化,经济全球化与国际产业链分工协作面临着可能的挑战,2021 年 10 月公司瑞典子公司向中国子公司
提供MEMS生产制造技术支持的许可被瑞典战略产品检验局(the Swedish Inspectorate of Strategic Products,简称
为ISP)否决。虽然公司当前 MEMS 业务仍面向全球市场,但为应对未来可能的不利挑战,公司正同时在境内外布局兼具
“工艺开发”与“晶圆制造”功能的代工服务体系。

在中国境外,基于瑞典 Silex 成熟的中试线,公司积极扩充瑞典产线,继续推动当地升级改造完成后产能的逐步磨
合,并收购了产线所在的半导体产业园区,其自身的MEMS工艺开发及晶圆制造业务的产能保障能力均得到加强。在中国
境内,依托于已建成并持续扩充产能的北京 FAB3,规划在中国境内继续建设独立自主、面向现实及未来需求的 MEMS 中
试线,通过提供工艺开发及小批量代工服务,为境内外MEMS规模量产线储备并导入相应的客户及产品,最终同时提高境
内外的工艺开发及规模量产能力。

相对于 IC(Integrated Circuit,集成电路,一种微型电子器件或部件)产品的封装测试,MEMS 的封装测试面对的
是一个需要与外界环境进行交互的器件或系统,在专用性、复杂性、保护性及可靠性等多方面存在其独特性,整体而言
作业复杂且具备独特的难度,MEMS 封装测试也因此具有更高的附加值。公司当前已具备先进封装的核心发展要素,掌握
TSV(硅通孔)等三维系统集成所必须的首要工艺,拥有目前业界领先的TSV绝缘层工艺和制造平台;公司拥有优质且不
断增长的MEMS客户基础,具备拓展MEMS封装测试业务的技术研发实力及一定的技术、人员储备。因此,出于MEMS产业
发展趋势以及自身发展战略需要,依托公司在 MEMS 代工制造领域的全球领先竞争优势,公司正积极在 MEMS 产业链向下
游进行延伸拓展,公司正在建设 MEMS 先进封装测试能力,面向硅麦克风、压力、惯性、光学、RF、生物医疗等 MEMS 器
件提供先进集成封装、测试服务,在市场需求增长的背景下,充分利用业务间的高度相关性与紧密性,逐步建立从工艺
开发到晶圆制造再到封装测试的一体化服务能力。

7、专业资质优势
由于性能及工艺的独特性,MEMS 产品的工艺开发周期较长,视产品结构、技术要求及材料应用的不同,开发期间从
数月至数年不等,期间代工厂商需要与客户持续交互反馈,客户的粘性及厂商转换成本均非常高,公司MEMS业务主要服
务全球各领域巨头客户及中小创新企业,公司瑞典FAB1&FAB2产线满足该等厂商对供应商的苛刻资质认证要求,且有利
于将已有的资质优势拓展至新的生产平台。公司北京 FAB3 产线正在结合业务需要推进各项管理系统的认证,包括
ISO9001、ISO14001、ISO45001、ISO27001、IATF16949、QC080000等。

8、优质客户资源优势
在MEMS领域,从北美科技之都到英伦学术重镇,从欧洲制造强国到亚洲新兴经济,从尖端生命科学到日常娱乐消费,
从成熟行业巨头到创新创意团队,公司MEMS客户遍布全球,产品覆盖了通讯、生物医疗、工业科学、消费电子等诸多领
域,尤为特别的是,公司作为同时具备先进工艺开发能力的纯MEMS代工企业,在服务巨头企业的同时,一直耐心陪伴众
多创业型团队或公司,并且通过多年的相互紧密协作,不断有各领域的新兴公司陆续从工艺开发阶段向批量生产甚至规
模量产阶段切换,且受益于全球 MEMS 应用的持续增长,该等细分领域客户的发展往往具有爆发性,能够为公司 MEMS 业
务的持续发展提供巨大的发展潜力。公司服务的客户包括 DNA/RNA 测序、光刻机、硅光子、AI 计算、ICT、红外热成像、
计算机网络及系统、元宇宙、新型医疗设备厂商以及通讯、生物医疗、工业汽车和消费电子各细分行业的领先企业。

三、主营业务分析
概述
(一)整体经营情况概述
报告期内,公司继续聚焦发展主营业务MEMS(微机电系统),在复杂的国际政治经济环境下,MEMS业务实现稳健的
收入增长,并持续为下一步的产能扩充及爬坡做好准备。公司主营业务MEMS工艺开发与晶圆制造具备全球竞争优势,拥
有业内顶级专家与工程师团队,并在境内外同时布局扩张新的 8 英寸/12 英寸产能,较好地把握了下游通讯、生物医疗、
工业汽车、消费电子等应用领域的市场机遇,继续保持了生产与销售旺盛的状态。
对于瑞典MEMS产线,报告期内订单、生产与销售状况良好,继续实现了业务增长,保持了良好的盈利能力,在推动
已有产线产能利用率爬坡的同时通过添购部分设备、积极规划此前收购的半导体产业园区(土地面积为43,771平方米,
建筑物面积为19,270平方米)的未来产线建设安排,为进一步增加境外产能准备条件,以满足相关客户(尤其是欧美客
户)当前与未来的工艺开发及晶圆制造需求。
对于北京MEMS产线,报告期内继续处于产能爬坡阶段,具有导入属性的工艺开发业务持续扩大,量产属性的晶圆制
造业务进一步夯实且实现倍数增长,产能利用率显著提高,北京产线的营业收入实现较大增长,与瑞典MEMS产线一同对
MEMS 业务的增长部分实现相当贡献。但由于产能的持续建设和经营活动的持续扩大,产线的折旧摊销压力巨大,同时又
继续保持了较高的研发强度,而获得的政府补助较去年同期大幅减少,北京MEMS产线继续亏损且亏损金额扩大。

报告期内,公司全资子公司赛积国际仍适度开展半导体设备业务,为公司贡献了一定体量的营业收入。

与此同时,报告期内公司销售费用、财务费用上升,研发费用继续处于较高投入水平,权益法核算的长期股权投资
报告期内,公司实现营业收入 55,135.11 万元,较上年同期上升 38.91%;实现营业利润-7,153.18 万元,较上年同
期下降 9.69%;实现利润总额-7,153.48 万元,较上年同期下降 9.67%;实现净利润-7,427.94 万元,较上年同期下降
21.67%;实现归属于上市公司股东的净利润-4,266.79 万元,较上年同期大幅下降 55.49%;归属于上市公司股东的扣除
非经常性损益的净利润-4,860.68 万元,较上年同期亏损收窄 21.56%。报告期内,公司基本每股收益-0.0583 元,较上
年同期大幅下降 55.88%;加权平均净资产收益率-0.83%,较上年同期下降 0.28%(绝对数值变动),主要是由于归属于
上市公司股东的净利润同比大幅下降55.49%。本报告期末,公司总资产719,511.44万元,较期初下降0.92%;归属于上
市公司股东的所有者权益506,325.20万元,股本732,213,134.00元,归属于上市公司股东的每股净资产6.91元,较期
初基本持平。

此外,在非经常性损益方面,报告期内,公司主营业务活动陆续取得系列政府补助,其中部分补助在本报告期内补
偿了部分相关成本费用或损失,公司补助收益为 750.57 万元,非经常性损益对公司当期归母净利润的影响为 593.90 万
元。

(二)主要业务情况
1、MEMS主业发展情况
报告期内,境内外子公司 MEMS 业务收入均实现增长。一方面,瑞典 FAB1&FAB2 产线继续按计划推动新增产能的磨
合、持续调试产线以实现成熟运转,继续扩大MEMS中试服务领域、丰富工艺组合,并通过添购瓶颈设备、积极规划此前
收购的半导体产业园区等为进一步增加产能准备条件(本报告期瑞典 FAB1&FAB2 仍处于复苏阶段,MEMS-OCS 等高单价、
低产量晶圆产品的收入占比提高,综合导致其产能利用率阶段性波动);另一方面,在完成基础工艺积累的情况下,北
京 FAB3 产线继续保持研发投入,结合市场需求积极突破传感、射频、光学、生物等各领域各类 MEMS 器件的生产诀窍,
推动客户BAW滤波器、MEMS微振镜等不同类别晶圆的试产及量产导入,为产线的产能爬坡和规模量产集聚条件。

报告期内,公司 MEMS 主业实现收入 46,685.78 万元,较上年同期上升 29.32%;其中,MEMS 晶圆制造实现收入30,634.72万元,较上年同期上升32.11%,MEMS工艺开发实现收入16,051.06万元,较上年同期上升24.32%,上述变化
的主要原因是:基于公司的境内外“双循环”服务体系战略以及旗下不同中试线及量产线的定位,在保证工艺开发业务
前置导入的同时,瑞典 FAB1&FAB2、北京 FAB3 在当前阶段均积极推动客户将产品导入晶圆制造阶段,以逐步适应下一
阶段以规模量产为主的业务形态。
报告期内,公司MEMS业务的综合毛利率为35.60%,较上年同期基本持平;其中MEMS晶圆制造毛利率为34.57%,较上年同期上升 2.00%(绝对数值变动),MEMS 工艺开发毛利率为 37.55%,较上年同期上升 2.34%(绝对数值变动),上
述变化的主要原因是:对于 MEMS 晶圆制造,随着 MEMS 晶圆制造业务的逐步稳定发展,原材料、人工、制造费用等形成
的成本结构日趋稳定,毛利率水平趋于稳定,未来需进一步释放规模效应;对于 MEMS 工艺开发,2024 年上半年较上年
同期客户产品结构相对稳定,毛利率波动较小。整体而言,瑞典产线的毛利率继续保持了较高水平,北京FAB3仍处于产
能爬坡阶段,其 MEMS 业务的综合毛利率较上年同期明显好转但仍低于瑞典产线,公司 MEMS 业务在整体上保持了较好的
毛利率水平。
报告期内,得益于MEMS应用市场的高景气度,并基于持续扩充的瑞典产线及北京产线,公司积极开拓全球市场,并
积极承接 MEMS 工艺开发及晶圆制造订单,持续服务于包括 DNA/RNA 测序、光刻机、硅光子、AI 计算、ICT、红外热成像、
计算机网络及系统、元宇宙、新型医疗设备等厂商以及通讯、生物医疗、工业汽车和消费电子等各细分领域的领先企业。

报告期内,公司瑞典 FAB1&FAB2 升级改造完成后的产能逐步磨合且基于此前已收购的半导体产业园区,其自身的
MEMS 工艺开发及晶圆制造业务的产能保障能力均得到加强;公司北京 FAB3 持续扩大覆盖不同的产品及客户,积极推进
产能及良率爬坡,并坚持进一步扩充产能。随着瑞典产线产能利用率的逐步恢复提升,北京产线整体运营状态的持续提
升,以及公司正在推进的粤港澳大湾区、怀柔科学城中试产线布局,公司境内外同时拥有不同定位的合格产能,不同产
线在产能、市场等方面的协同互补将有力保证公司继续保持纯MEMS代工的全球领先地位。

2、研发情况
报告期内,公司继续重视技术和产品的研发投入,包括人才的培养引进及资源的优先保障。公司MEMS主业属于国家
鼓励发展的高技术产业和战略性新兴产业,也需要公司进行重点、持续的研发投入。2024 年上半年,公司共计投入研发
费用 18,147.35 万元,较上年同期增加 3.25%,占营业收入的 32.91%,研发投入的规模和强度继续呈现出较高的水平。

具体详见本节“三、主营业务分析”之“研发投入情况”的相关内容。

3、投融资情况
报告期内,公司为更好地服务于 MEMS 主业发展,根据长期发展战略继续开展投融资活动:(1)股权投资方面,基
于对光谷信息的长期投资历史及乐观展望,公司通过协议转让方式增持光谷信息 10.72%股权;(2)股权调整方面,基
于海创微元的定位及中长期发展前景,公司进一步提高了对该子公司持股比例;(3)产业基金方面,持续推动北京传感
基金在智能传感领域的项目投资;继续跟踪半导体产业基金、北斗产业基金的投资与投后情况,关注赛微私募基金的运
行情况;(4)股权激励方面,根据公司 2021 年限制性股票激励计划操作部分股票上市以及部分股票回购注销/作废;
(5)融资租赁方面,瑞典 Silex 与赛莱克斯北京继续执行相关融资租赁交易;(6)银行授信方面,公司及子公司根据
经营发展中的资金需求,继续向相关银行申请综合授信额度。

主要财务数据同比变动情况
单位:元

 本报告期上年同期同比增减变动原因
营业收入551,351,055.19396,907,735.4838.91%主要因报告期MEMS业务同 比实现增长、较上年同期新 增半导体设备业务所致。
营业成本358,135,634.81270,200,565.5432.54%主要因报告期MEMS业务规 模增加以及半导体设备销售 结转成本所致。
销售费用14,131,682.349,638,769.7646.61%主要因报告期瑞典Silex销 售相关人工成本、市场推广 等费用增加所致。
管理费用66,985,219.0578,987,274.21-15.19% 
财务费用9,704,515.29-22,543,938.15143.05%主要是因报告期利息支出较 上期增加、利息收入较上期 减少及汇兑收益较上期减少 等因素综合所致。
所得税费用2,744,627.45-4,177,184.45165.71%主要是因报告期确认的递延 所得税资产/负债变动所 致。
研发投入181,473,541.38175,765,473.903.25% 
经营活动产生的现金流量净额141,413,022.351,426,331.009,814.46%主要因报告期收到增值税留 抵税额退税、业务活动改善 等综合因素所致。
投资活动产生的现金流量净额-344,374,508.16- 484,799,918.0528.97%综合因素所致。
筹资活动产生的现金流量净额40,456,857.30-5,882,217.86787.78%综合因素所致。
现金及现金等价物净增加额-173,642,143.77- 492,007,166.7764.71%综合因素所致。
销售商品、提供劳务收到的现金594,202,773.05436,400,985.2736.16%主要因报告期营业收入规模 增加所致。
收到的税费返还119,065,295.5828,034,972.97324.70%主要因报告期收到增值税留 抵税额退税较上期增加所 致。
收到其他与经营活动有关的现金15,918,894.8151,570,203.66-69.13%主要因报告期公司收到往来 款及政府补助较上期减少所 致。
经营活动现金流入小计729,186,963.44516,006,161.9041.31%综合因素所致。
购买商品、接受劳务支付的现金301,748,579.13229,567,191.5231.44%主要因报告期业务规模增加 所致。
支付其他与经营活动有关的现金44,362,422.3032,481,878.0836.58%主要因报告期支付项目合作
    款和项目技术服务费较上期 增加所致。
收回投资收到的现金588,132.370.00100.00%主要因报告期处置参股公司 股权收回投资成本。
取得投资收益收到的现金2,188,659.450.00100.00%主要因报告期处置参股公司 股权收到投资收益。
处置固定资产、无形资产和其他 长期资产收回的现金净额13,464.0023,041,218.68-99.94%主要因报告期此类交易减少 所致。
处置子公司及其他营业单位收到 的现金净额0.0073,176,277.70-100.00%主要因上期收到股权转让款 余款所致。
投资活动现金流入小计2,790,255.8296,217,496.38-97.10%综合因素所致。
取得子公司及其他营业单位支付 的现金净额0.00185,815,435.64-100.00%主要因上期瑞典Silex收购 半导体产业园区所致。
投资活动现金流出小计347,164,763.98581,017,414.43-40.25%综合因素所致。
吸收投资收到的现金84,000,000.0015,780,294.47432.31%主要因报告期公司子公司收 到少数股东注资款,上期公 司收到员工限制性股票入资 款所致。
其中:子公司吸收少数股东投资 收到的现金84,000,000.000.00100.00%主要因报告期公司子公司收 到少数股东注资款。
取得借款收到的现金74,534,977.39132,500,000.00-43.75%主要因上期瑞典Silex收购 半导体产业园区发生长期银 行借款所致。
收到其他与筹资活动有关的现金1,230,000.007,308,721.89-83.17%主要因报告期收回的信用证 保证金减少所致。
偿还债务支付的现金62,701,289.34124,608,006.50-49.68%主要因上期瑞典Silex收购 半导体产业园区偿还其银行 借款所致。
分配股利、利润或偿付利息支付 的现金40,636,002.309,913,769.87309.89%主要因报告期公司分红所 致。
支付其他与筹资活动有关的现金15,970,828.4526,949,457.85-40.74%主要因报告期信用证保证金 转款减少所致。
四、汇率变动对现金及现金等价 物的影响-11,137,515.26-2,751,361.86-304.80%综合因素所致。
加:期初现金及现金等价物余额945,649,183.301,506,931,229. 72-37.25%综合因素所致。
税金及附加3,134,173.712,399,904.3530.60%主要因报告期印花税和房产 税增加所致。
其中:利息费用16,516,157.276,103,541.47170.60%主要因报告期公司有息负债 增加所致。
利息收入8,007,773.5313,764,992.39-41.83%主要因报告期货币资金余额 减少所致。
1.归属于母公司所有者的净利润-42,667,857.30-27,440,797.46-55.49%综合因素所致。
六、其他综合收益的税后净额-55,307,755.71-3,587,172.25-1,441.82%综合因素所致。
归属母公司所有者的其他综合收 益的税后净额-55,307,755.71-3,587,172.25-1,441.82%综合因素所致。
(二)将重分类进损益的其他综 合收益-55,307,755.71-3,587,172.25-1,441.82%综合因素所致。
5.现金流量套期储备10,936,475.99-5,974,350.52283.06%主要因报告期远期外汇合约 等公允价值变动所致。
6.外币财务报表折算差额-66,244,231.702,387,178.27-2,875.00%主要因报告期瑞典克朗兑人 民币汇率波动较上年同期大 幅扩大所致。
七、综合收益总额-129,587,141.56-64,635,564.19-100.49%综合因素所致。
归属于母公司所有者的综合收益 总额-97,975,613.01-31,027,969.71-215.77%综合因素所致。
(一)基本每股收益-0.06-0.04-50.00%综合因素所致。
(二)稀释每股收益-0.06-0.04-50.00%综合因素所致。
公司报告期利润构成或利润来源发生重大变动 (未完)
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